JP6210910B2 - 強度、耐熱性及び曲げ加工性に優れたFe−P系銅合金板 - Google Patents
強度、耐熱性及び曲げ加工性に優れたFe−P系銅合金板 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6210910B2 JP6210910B2 JP2014054748A JP2014054748A JP6210910B2 JP 6210910 B2 JP6210910 B2 JP 6210910B2 JP 2014054748 A JP2014054748 A JP 2014054748A JP 2014054748 A JP2014054748 A JP 2014054748A JP 6210910 B2 JP6210910 B2 JP 6210910B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mass
- crystal grain
- copper alloy
- strength
- heat resistance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 38
- 238000005452 bending Methods 0.000 title claims description 10
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 55
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 28
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 22
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims description 18
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 82
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 41
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 31
- 238000005098 hot rolling Methods 0.000 description 25
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 22
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 19
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 description 18
- 238000005097 cold rolling Methods 0.000 description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 238000001887 electron backscatter diffraction Methods 0.000 description 4
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910001122 Mischmetal Inorganic materials 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 241000784732 Lycaena phlaeas Species 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000012858 packaging process Methods 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000005482 strain hardening Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C9/00—Alloys based on copper
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22F—CHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
- C22F1/00—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
- C22F1/08—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working of copper or alloys based thereon
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21B—ROLLING OF METAL
- B21B3/00—Rolling materials of special alloys so far as the composition of the alloy requires or permits special rolling methods or sequences ; Rolling of aluminium, copper, zinc or other non-ferrous metals
- B21B2003/005—Copper or its alloys
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
Description
半導体装置は熱硬化性樹脂によって半導体チップを封止するパッケージが経済性の点から主流となっており、パッケージの信頼性を保持することが重要である。パッケージの信頼性はモールド樹脂とリードフレームの密着性に依存している。半導体装置の組立工程中の熱履歴によってリードフレーム表面に密着性の低い酸化膜が形成されると、モールド樹脂とリードフレームの密着性が低下し、プリント基板への実装時の熱でパッケージクラックや剥離が発生してパッケージの信頼性が低下する。
従って、パッケージの信頼性を確保するためには、リードフレーム材料における酸化膜の密着性が高いことが重要であるが、CDA Alloy 7025は本特性が低い。また、CDA Alloy 7025はエッチング加工などでスマットが発生し、めっきの密着性が低下するなどの問題もあり、価格的にも高く使用しづらい面がある。
本発明は、Fe−P系銅合金板のこのような現状に鑑みてなされたもので、高強度で、耐熱性が高く、かつスタンピング性(特に曲げ加工性)にも優れたFe−P系銅合金板を提供することを目的とする。
ただし、「各結晶粒の円相当直径を面積で重み付けした加重平均」は、下記式で算出される平均結晶粒径を意味する。
N:結晶粒の個数
ai:各結晶粒の面積
di:各結晶粒の円相当直径
A:N個の結晶粒の面積の和である。
上記式は、段落0034に記載した式と同じ意味を有する。
なお、本発明において、「銅合金板」という用語は銅合金条を含む意味で用いられている。
(Fe−P系銅合金の化学組成)
Feは、Fe−P系銅合金板の強度及び耐熱性の向上に寄与し、また、熱間圧延中又は再結晶熱処理中の結晶粒の成長を抑制する効果を有する。Feの含有量が1.6質量%未満では、上記効果が不十分となる。一方、Feの含有量が2.6質量%を超えると、溶解・鋳造時に2液相分離や晶出によって粗大なFe粒子(直径数μm以上)が生成し、めっき性やエッチング性が低下する。従って、Feの含有量は1.6〜2.6質量%とし、下限は、好ましくは1.7質量%、さらに好ましくは1.8質量%、上限は、好ましくは2.5質量%、さらに好ましくは2.4質量%とする。
Fe−P系銅合金板の圧延方向に平行で板面に垂直な断面の結晶組織をEBSD(Electron BackScatter Diffraction)で観察(粒界条件:方位差5°以上)し、観察面の全結晶粒の円相当直径を求め、各結晶粒の円相当直径を面積で重み付けして加重平均を求め、本発明ではこれを平均結晶粒径とした。平均結晶粒径としてこの加重平均をとったのは、Fe−P系銅合金板のように粗大粒と微細粒が混在する場合、単に相加平均をとると、実態以上に結晶粒径が小さく出るためである。この平均結晶粒径が10μmを超えると、曲げ加工性や打抜き加工性が低下するとともに強度や耐熱性も低下する。従って、平均結晶粒径は10μm以下、好ましくは8μm以下、さらに好ましくは6μm以下である。平均結晶粒径は小さいほどよく、下限値は特に定める必要がないが、後述する製造方法により3μm程度まで微細化できる。
Fe又はFe−P化合物の析出粒子のうち円相当直径10〜40nmの析出粒子は、転位をピン止めしてFe−P系銅合金板の強度及び耐熱性を向上させる。しかし、この析出粒子の存在密度が20個/μm 2 未満であると、ピン止めできる析出粒子が少なく強度及び耐熱性の向上が不十分となる。従って、円相当直径10〜40nmのFe又はFe−P化合物の析出粒子の存在密度は、20個/μm 2 以上、好ましくは25個/μm 2 以上、さらに好ましくは30個/μm 2 以上である。この存在密度は大きいほどよく、上限値は特に定める必要がないが、本発明の組成範囲内であれば後述する製造方法により40個/μm 2 程度まで密度を上げることができる。
本発明の製造方法は以下の通りである。
まず、鋳塊は、通常のるつぼ型溶解炉などを用いて原料を溶解し、成分調整後、通常の金型やカーボン鋳型などに溶湯を流し込んで製造する。
次に、鋳塊を850〜1050℃の温度に加熱し、圧延加工率50%以上で熱間圧延を行い、熱間圧延の終了温度は750℃以上とする。熱間圧延後の冷却は、水冷などにより、熱間圧延終了温度(=冷却開始温度)から少なくとも300℃までの範囲を10℃/秒以上の冷却速度で急速に冷却する。
熱間圧延の圧延加工率が50%より小さいと、再結晶が起こらず、鋳造組織が残存する可能性がある。従って、熱間圧延の圧延加工率は50%以上、好ましくは60%以上、さらに好ましくは70%以上とする。
熱間圧延後の冷却速度が、熱間圧延終了温度から300℃までの範囲で10℃/秒未満になると、冷却中にもFeやFe−P化合物が析出し、粗大化するため、析出熱処理において析出する微細なFeやFe−P化合物が減少し、製品板の強度及び耐熱性が低下する。よって、熱間圧延後の冷却速度は10℃/秒以上、望ましくは20℃/秒以上、さらに望ましくは30℃/秒以上とする。熱間圧延材が冷却して300℃に達した後は、急冷する必要はない。
再結晶熱処理は微細な再結晶粒を形成するための熱処理であり、加熱温度550〜900℃程度で1秒〜10分程度保持する。加熱温度が550℃未満では再結晶しにくく、900℃を超えると再結晶粒が粗大化する。従って、加熱温度は550〜900℃、望ましくは570〜880℃、さらに望ましくは590〜860℃程度とする。保持時間は加熱温度によって適宜選択してよいが、1秒〜10分程度の短時間とする。保持時間が1秒未満では再結晶しにくい。保持時間が10分を超えると、再結晶粒が粗大化して製品板の平均結晶粒径が大きくなる。また、FeやFe−P化合物の析出量が増加し、粗大化するため、その後の析出熱処理において析出する微細なFeやFe−P化合物が減少する。従って、保持時間は1秒〜10分、望ましくは2秒〜5分、さらに好ましくは5秒〜2分程度とする。
さらに、再結晶熱処理後の冷却速度は、加熱温度から300℃までの範囲で5℃/秒以上とする。この温度範囲の冷却速度が5℃/秒未満では、冷却中にFeやFe−P化合物の析出が生じ、粗大化するため、析出熱処理において析出する微細なFeやFe−P化合物が減少する。従って、再結晶熱処理後の冷却速度は5℃/秒以上、望ましくは10℃/秒以上、さらに望ましくは20℃/秒以上とする。
析出熱処理は、加熱温度300〜600℃程度で0.5〜30時間程度保持する。加熱温度が300℃未満では析出量が少なく、600℃を超えると析出物が粗大化しやすい。従って、加熱温度は300〜600℃、望ましくは320〜580℃、より望ましくは340〜560℃とする。保持時間は加熱温度によって適宜選択してよいが、0.5〜30時間程度の時間とする。保持時間が0.5時間未満では析出が不十分となりやすく、30時間を超えると生産性低下への影響が大きくなる。従って、保持時間は0.5〜30時間、望ましくは1〜25時間、さらに望ましくは1.5〜20時間程度とする。
No.1〜28の熱間圧延板の両面を面削して酸化スケールを除去し、厚さ16mmとした後、冷間圧延、再結晶熱処理、析出熱処理、最終冷間圧延及び歪み取り焼鈍を行って、厚さが0.15mmのFe−P系銅合金板を得た。なお、析出熱処理の回数は、No.1〜10,13〜25,28は1回とした。No.11,12,26,27は析出熱処理を2回行い、1回目の析出熱処理後60%の加工率で冷間圧延を行った。
熱間圧延終了温度、再結晶熱処理、析出熱処理及び最終冷間圧延の圧延率の工程条件を表2に示す。
供試材の圧延方向に平行で板面に垂直な断面の結晶組織をEBSDで観察し、粒界条件:方位差5°以上で解析した全結晶粒を円相当直径で数値化し、各結晶粒の円相当直径を面積で重み付けして加重平均を求め、これを供試材の平均結晶粒径とした。従って、平均結晶粒径は、以下の式で算出される。
平均結晶粒径=(a1×d1+・・・+aN×dN)/A
ただし、ai:各結晶粒の面積(i:1〜Nの整数)
di:各結晶粒の直径(i:1〜Nの整数)
A:N個の結晶粒の面積の和である。
供試材の組織を15万倍の透過型電子顕微鏡で観察し、粒径が10nm以上で40nm以下の析出粒子の個数を測定し、単位面積当たりの個数(個/μm 2 )を算出し、これを析出物密度とした。
(引張強さ)
供試材から長手方向を圧延方向に平行としたJIS−5号試験片を作製し、JISZ2241の基点に準じて引張試験を行い、測定した。
供試材から採取した試験片の加熱前の硬さと、550℃で1分間加熱後の硬さを、マイクロビッカース硬度計にて、4.9Nの荷重を加えて測定した。次いで、加熱後/加熱前硬さ比を算出した。加熱前の硬さは180Hv以上を良好とし、加熱後/加熱前硬さ比は0.90以上を良好と評価した。
(導電率)
供試材をミーリングにより幅10mm×長さ300mmの短冊状の試験片に加工し、ダブルブリッジ式抵抗測定装置により電気抵抗を測定して平均断面積法により算出した。本発明では導電率50%IACS以上を良好と評価した。
供試材から採取した幅10mmのL.D.及びT.D.試験片に、JCBA−T307に準じてW曲げ(R/t=1)を行い、曲げ部の外観を観察して評価した。L.D.及びT.D.試験片のどちらかに割れが発生したものを×(不良)、肌荒れが発生したものを△(不良)、どちらにも割れ又は肌荒れが発生しなかったものを○(良)と評価した。なお、L.D.(Londitudinal to Rolling Direction)試験片とは、長さ方向が圧延平行方向で曲げ線が圧延垂直方向となる試験片、T.D.(Transverse to Rolling Direction)試験片とは、長さ方向が圧延垂直方向で曲げ線が圧延平行方向となる試験片を意味する。
供試材から採取した短冊状の試験片に弱活性フラックスを塗布し、245℃に保持したはんだ浴(Sn−3%Ag−0.5%Cu)に5秒間浸漬後、150℃のオーブンで1000hr加熱した。その後、この試験片に180°曲げ及び曲げ戻し加工を加え、曲げ戻し加工部に透明なメンディングテープを貼付けた後引き剥がし、メンディングテープに付着するはんだの有無により、加工部のはんだが剥離するか否かを観察した。メンディングテープに剥離片が付着したものを剥離が生じたとして×(不良)、剥離片が付着しなかったものを剥離が生じなかったとして○(良)と評価した。
酸化膜密着性は、酸化膜密着保持温度で評価した。供試材をアルカリ陰極電解洗浄後、さらに水洗→酸洗浄(10%硫酸)→水洗→乾燥を行った後、大気中にて種々の温度で5分間加熱し、加熱後の供試材を用いて、テープによるピーリング試験を行った。加熱温度は10℃刻みで変化させ、酸化膜の剥離が生じない最高の温度を、酸化膜密着保持温度とした。酸化膜密着保持温度は300℃以上を良好とした。アルカリ陰極電解洗浄は、液温:60℃、陰極電流密度:5A/dm2、時間:30secの条件で行った。洗浄液は、水酸化ナトリウムを主成分(40%)とし、その他りん酸塩・ケイ酸塩・炭酸塩・界面活性剤を含有する、代表的な市販のアルカリ陰極電解洗浄用薬剤を50g/Lの濃度で溶解した水溶液である。テープによるピーリング試験は、市販のテープ(住友スリーエム社製メンディングテープ)を貼り付け、引き剥がす方法で行った。
このうちNo.11,12は、析出熱処理を2回行い、析出熱処理間の冷間加工率を60%としたものであり、化学組成がほぼ同じ発明例No.1と比べて、平均結晶粒径が小さく、析出物密度が高く、強度が高い。
No.15は、Pの含有量が本発明の規定範囲外で少ないため、結晶粒径が大きく、析出物密度が低く、強度(特にビッカース硬さ)及び耐熱性が低く、曲げ性が劣る。
No.16は、平均結晶粒径が小さく、析出物密度が高く、高い強度、耐熱性、曲げ性を有する。しかし、Znの含有量が本発明の規定範囲外で少ないため、はんだ耐熱剥離性が劣る。
No.17は、平均結晶粒径が小さく、析出物密度が高く、高い強度、耐熱性、曲げ性を有する。しかし、Znの含有量が本発明の規定範囲外で多いため、導電率が低い。
No.19は、SnとMgの合計含有量が本発明の規定範囲外で多いため、導電率が低く、酸化膜密着性が劣る。
No.20は、Cの含有量が本発明の規定範囲外で多いため、図1(a)に示すように、粗大Fe粒子が多く生成しており、Agなどのめっきを行った場合に突起や未めっき部が生成しやすいなど、めっき性が低いことが推測される。また、No.20は、平均結晶粒径が大きく、析出物密度が低く、組成が類似するNo.2と比べて強度及び耐熱性が低く、曲げ性が劣る。
No.21は、Co,Si,Crの合計含有量が本発明の規定範囲外で多いため、図1(b)に示すように、粗大Fe粒子が多く生成しており、めっき性が低いことが推測される。また、No.21は、平均結晶粒径が大きく、析出物密度が低く、組成が類似するNo.2と比べて強度及び耐熱性が低く、曲げ性が劣る。
No.23は、平均結晶粒径が小さく、析出物密度が高く、高い強度、耐熱性、曲げ性を有する。しかし、Feの含有量が本発明の規定範囲外で多いため、図1(c)に示すように、粗大Fe粒子が多く生成しており、めっき性が低いことが推測される。
No.24は、熱間圧延の終了温度が750℃未満と低く、このため、平均結晶粒径が大きく、析出物密度が低く、強度及び耐熱性が低く、曲げ性が劣る。
No.25は、再結晶熱処理の加熱・冷却速度が小さく、かつ比較的低温で長時間の保持条件であるため、平均結晶粒径が大きく、析出物密度が低く、強度及び耐熱性が低く、曲げ性が劣る。
No.27は、2回目の析出熱処理の温度がさらに高いため、同じ組成で析出熱処理以外の工程条件が類似するNo.12と比べて、析出物密度、強度(ビッカース硬さを含む)及び耐熱性が低下している。また、平均結晶粒径が大きく、曲げ性が劣る。
No.28は、再結晶熱処理の保持温度が高いため、平均結晶粒径が大きく、強度(特にビッカース硬さ)が低く、曲げ性が劣る。
Claims (1)
- Fe:1.6〜2.6質量%、P:0.01〜0.15質量%、Zn:0.01〜1.0質量%、Sn及びMgの1種以上:0.2〜0.5質量%、C:0.003質量%以下、Co、Si及びCrが合計で0.05質量%以下、残部Cu及び不可避不純物からなり、圧延方向に平行で板面に垂直な断面の結晶組織をEBSDで観察した場合に、各結晶粒の円相当直径を面積で重み付けした加重平均が10μm以下であり、導電率が50%IACS以上、ビッカース硬さが180Hv以上、円相当直径が10〜40nmのFe又はFe−P化合物の析出粒子の存在密度が20個/μm 2 以上であることを特徴とする強度、耐熱性及び曲げ加工性に優れたFe−P系銅合金板。
ただし、「各結晶粒の円相当直径を面積で重み付けした加重平均」は、下記式で算出される平均結晶粒径を意味する。
N:結晶粒の個数
ai:各結晶粒の面積
di:各結晶粒の円相当直径
A:N個の結晶粒の面積の和である。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014054748A JP6210910B2 (ja) | 2014-03-18 | 2014-03-18 | 強度、耐熱性及び曲げ加工性に優れたFe−P系銅合金板 |
TW103145001A TWI537401B (zh) | 2014-03-18 | 2014-12-23 | Strength and heat resistance and flexographic workability of the Fe-P copper alloy plate |
CN201510101381.7A CN104928521B (zh) | 2014-03-18 | 2015-03-06 | 强度、耐热性和弯曲加工性优异的Fe-P系铜合金板 |
KR1020150036550A KR101682801B1 (ko) | 2014-03-18 | 2015-03-17 | 강도, 내열성 및 굽힘 가공성이 우수한 Fe-P계 구리 합금판 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014054748A JP6210910B2 (ja) | 2014-03-18 | 2014-03-18 | 強度、耐熱性及び曲げ加工性に優れたFe−P系銅合金板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015175056A JP2015175056A (ja) | 2015-10-05 |
JP6210910B2 true JP6210910B2 (ja) | 2017-10-11 |
Family
ID=54115942
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014054748A Active JP6210910B2 (ja) | 2014-03-18 | 2014-03-18 | 強度、耐熱性及び曲げ加工性に優れたFe−P系銅合金板 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6210910B2 (ja) |
KR (1) | KR101682801B1 (ja) |
CN (1) | CN104928521B (ja) |
TW (1) | TWI537401B (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101977508B1 (ko) * | 2017-12-24 | 2019-05-10 | 주식회사 포스코 | 고 전기전도도 고강도 동합금 및 그 제조방법 |
JP7242996B2 (ja) * | 2018-03-28 | 2023-03-22 | 三菱マテリアル株式会社 | 銅合金 |
JP7234501B2 (ja) * | 2018-03-28 | 2023-03-08 | 三菱マテリアル株式会社 | 銅合金 |
CN115821107A (zh) * | 2022-12-15 | 2023-03-21 | 安徽鑫科铜业有限公司 | 一种蚀刻引线框架铜铸坯及其生产方法 |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2673967B2 (ja) | 1990-06-04 | 1997-11-05 | 三菱伸銅 株式会社 | 高強度を有する半導体装置のCu合金製リードフレーム材 |
JP3772319B2 (ja) * | 1997-03-24 | 2006-05-10 | 同和鉱業株式会社 | リードフレーム用銅合金およびその製造方法 |
JPH1180862A (ja) * | 1997-09-09 | 1999-03-26 | Kobe Steel Ltd | 耐熱性に優れたリードフレーム用Cu−Fe系合金材 |
JP3729662B2 (ja) | 1998-09-28 | 2005-12-21 | 株式会社神戸製鋼所 | 高強度・高導電性銅合金板 |
JP3980808B2 (ja) * | 2000-03-30 | 2007-09-26 | 株式会社神戸製鋼所 | 曲げ加工性および耐熱性に優れた高強度銅合金およびその製造方法 |
JP3896793B2 (ja) * | 2001-02-16 | 2007-03-22 | 日立電線株式会社 | 高強度・高導電性銅合金材の製造方法 |
JP4159757B2 (ja) * | 2001-03-27 | 2008-10-01 | 株式会社神戸製鋼所 | 強度安定性および耐熱性に優れた銅合金 |
JP4567906B2 (ja) * | 2001-03-30 | 2010-10-27 | 株式会社神戸製鋼所 | 電子・電気部品用銅合金板または条およびその製造方法 |
JP3725506B2 (ja) * | 2002-09-10 | 2005-12-14 | 株式会社神戸製鋼所 | 高強度および高導電率を備えた銅合金及びその製造方法 |
US8715431B2 (en) * | 2004-08-17 | 2014-05-06 | Kobe Steel, Ltd. | Copper alloy plate for electric and electronic parts having bending workability |
JP3838521B1 (ja) * | 2005-12-27 | 2006-10-25 | 株式会社神戸製鋼所 | 高強度および優れた曲げ加工性を備えた銅合金およびその製造方法 |
WO2007007517A1 (ja) * | 2005-07-07 | 2007-01-18 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | 高強度および優れた曲げ加工性を備えた銅合金および銅合金板の製造方法 |
JP4684787B2 (ja) * | 2005-07-28 | 2011-05-18 | 株式会社神戸製鋼所 | 高強度銅合金 |
JP4407953B2 (ja) * | 2005-08-22 | 2010-02-03 | 株式会社神戸製鋼所 | 高強度・高導電性銅合金板 |
EP2045344B1 (en) * | 2006-07-21 | 2012-05-23 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Process for producing copper alloy sheets for electrical/electronic part |
JP4168077B2 (ja) * | 2006-07-21 | 2008-10-22 | 株式会社神戸製鋼所 | 酸化膜密着性に優れた電気電子部品用銅合金板 |
JP4950584B2 (ja) * | 2006-07-28 | 2012-06-13 | 株式会社神戸製鋼所 | 高強度および耐熱性を備えた銅合金 |
CN100469923C (zh) * | 2006-09-27 | 2009-03-18 | 苏州有色金属加工研究院 | 耐高温软化引线框架用铜合金及其制造方法 |
JP5570109B2 (ja) * | 2008-10-15 | 2014-08-13 | 三菱伸銅株式会社 | 電子機器用銅合金およびリードフレーム材 |
JP4527198B1 (ja) * | 2009-08-20 | 2010-08-18 | 三菱伸銅株式会社 | 電子機器用銅合金の製造方法 |
JP5610789B2 (ja) * | 2010-02-25 | 2014-10-22 | Dowaメタルテック株式会社 | 銅合金板材および銅合金板材の製造方法 |
JP2012057242A (ja) | 2010-09-13 | 2012-03-22 | Hitachi Cable Ltd | 高強度高導電率高耐熱性銅基合金の製造方法及び高強度高導電率高耐熱性銅基合金 |
-
2014
- 2014-03-18 JP JP2014054748A patent/JP6210910B2/ja active Active
- 2014-12-23 TW TW103145001A patent/TWI537401B/zh active
-
2015
- 2015-03-06 CN CN201510101381.7A patent/CN104928521B/zh active Active
- 2015-03-17 KR KR1020150036550A patent/KR101682801B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN104928521B (zh) | 2017-05-31 |
JP2015175056A (ja) | 2015-10-05 |
TWI537401B (zh) | 2016-06-11 |
KR101682801B1 (ko) | 2016-12-05 |
CN104928521A (zh) | 2015-09-23 |
TW201536934A (zh) | 2015-10-01 |
KR20150108769A (ko) | 2015-09-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101158113B1 (ko) | 전기 전자 부품용 동 합금판 | |
JP4143662B2 (ja) | Cu−Ni−Si系合金 | |
TWI381397B (zh) | Cu-Ni-Si-Co based copper alloy for electronic materials and its manufacturing method | |
TWI422692B (zh) | Cu-Co-Si based copper alloy for electronic materials and method for producing the same | |
CN107208191B (zh) | 铜合金材料及其制造方法 | |
TWI429768B (zh) | Cu-Co-Si based copper alloy for electronic materials and method for producing the same | |
JP4168077B2 (ja) | 酸化膜密着性に優れた電気電子部品用銅合金板 | |
JP5700834B2 (ja) | 酸化膜密着性に優れた高強度銅合金板 | |
JP2011184775A (ja) | 高強度高耐熱性銅合金材 | |
TWI628407B (zh) | Copper alloy plate and coil for heat dissipation parts | |
JP5214282B2 (ja) | ダイシング加工性に優れるqfnパッケージ用銅合金板 | |
JP6210910B2 (ja) | 強度、耐熱性及び曲げ加工性に優れたFe−P系銅合金板 | |
JP6210887B2 (ja) | 強度、耐熱性及び曲げ加工性に優れたFe−P系銅合金板 | |
JP4567906B2 (ja) | 電子・電気部品用銅合金板または条およびその製造方法 | |
JP6230341B2 (ja) | 応力緩和特性に優れる銅合金板 | |
JP5291494B2 (ja) | 高強度高耐熱性銅合金板 | |
JP2010285671A (ja) | 高強度高導電性銅合金とその製造方法 | |
JP5858961B2 (ja) | 応力緩和特性に優れる銅合金板 | |
JP5236973B2 (ja) | ダイシング加工性に優れるqfnパッケージ用銅合金板 | |
JP5755892B2 (ja) | 銅合金板の製造方法 | |
TWI391952B (zh) | Cu-Ni-Si-Co based copper alloy for electronic materials and its manufacturing method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160901 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170627 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170704 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170824 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170912 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170912 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6210910 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |