JP6188051B2 - 部品製造方法、接合剥離装置、および複合キャリア - Google Patents
部品製造方法、接合剥離装置、および複合キャリア Download PDFInfo
- Publication number
- JP6188051B2 JP6188051B2 JP2012281560A JP2012281560A JP6188051B2 JP 6188051 B2 JP6188051 B2 JP 6188051B2 JP 2012281560 A JP2012281560 A JP 2012281560A JP 2012281560 A JP2012281560 A JP 2012281560A JP 6188051 B2 JP6188051 B2 JP 6188051B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- adhesive
- carrier
- composite carrier
- processed
- solvent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
図1は、本発明の第1実施形態に係る部品製造方法のフローチャートを示す図である。図2は、本実施形態に係る部品製造方法の各ステップを説明するための説明図である。以下、図1および図2を参照して本実施形態に係る部品製造方法および複合キャリアについて説明する。
図7は、本発明の第2実施形態に係る部品製造方法のフローチャートを示す図である。図8は、本実施形態に係る部品製造方法の各ステップを説明するための説明図である。以下、図7および図8を参照して本実施形態に係る部品製造方法および複合キャリアについて説明する。
図9は、本発明の第3実施形態に係る部品製造方法のフローチャートを示す図である。図10は、本実施形態に係る部品製造方法の各ステップを説明するための説明図である。以下、図9および図10を参照して本実施形態に係る部品製造方法について説明する。
本発明の第1実施形態の実施例について説明する。
1.接着剤
溶媒であるNメチルピロリジノンに溶解したポリイミドにさらに熱伝導フィラーとしてのアルミナ粉末を混合し、攪拌することで接着剤を作製した。ここで、ポリイミドは10重量%、アルミナ粉末は5重量%になるようにした。
2.複合キャリアの作製
被処理部材であるSi基板(以下、「第一Si基板」と称する)上に、接着剤をスピンコート法で毎分1500回転で30秒間塗布した後、100℃で5分、150℃で5分、および200℃で5分の加熱を行うことにより、塗布された接着剤から溶媒を揮発することで除去した。その後、搬送キャリアであるSi基板(以下、「第二Si基板」と称する)と第一Si基板とを、第一Si基板上に塗布された接着剤を介して積層し、積層体に対し真空加熱プレス装置で250℃の加熱および800Nの加圧を同時に10分間行うことで第二Si基板と第一Si基板とを接合した。
3.被処置部材の剥離
作製した複合キャリアに対し真空加熱プレス装置でポリイミドの分解温度である350℃の加熱および0.2Nの加圧を同時に4分間行うことで複合キャリアから第一Si基板を剥離した。
1.複合キャリアの作製
第一Si基板と第二Si基板とは空孔のない良好な接合が得られた。
2.被処置部材の剥離
図11は、複合キャリアから第一Si基板を剥離したときの第一Si基板の下面と第二Si基板の上面との写真である。図11のAは、第一Si基板の下面の写真であり、図11のBは、第二Si基板の上面の写真である。第一Si基板の下面には接着層が残存しておらず、第二Si基板の上面のみに接着層が残存していることが判る。このように、第二Si基板の上面のみに接着層が残存するのは、真空加熱プレス装置において第一Si基板側から複合キャリアを加熱するため、第一Si基板と第二Si基板とで温度差が生じ、接合層の分解が第一Si基板側から始まるためである。
本発明の第3実施形態の実施例について説明する。
1.接着剤
溶媒であるNメチルピロリジノンに溶解したポリイミドにさらに熱伝導フィラーとしてのアルミナ粉末を混合し攪拌することで接着剤を作成した。ここで、ポリイミドは10重量%、アルミナ粉末は5重量%になるようにした。
2.剥離剤
市販されている50μmから100μmの針状結晶の発泡剤に対し、直径5mmのジルコニアボールでの湿式ボールミル粉砕を22時間行うことにより、2〜3μmの針状結晶の発泡剤を作製した。作製した発泡剤を上記接着剤に混合し、自公転攪拌機およびディスパーを用いて分散することにより剥離剤を作製した。なお、発泡剤として、発泡温度が325℃〜375℃のビステトラゾール・ジアンモニウム(永和化成工業株式会社製セルテトラBHT−2NH3)、発泡温度が350℃〜375℃のビステトラゾール・ピペラジン(永和化成工業株式会社製セルテトラBHT−PIPE)、発泡温度が230℃〜280℃の5−フェニールテトラゾール(永和化成工業株式会社製セルテトラP5T)をそれぞれ用いた。
3.複合キャリアの作製
被処理部材であるガラス基板(以下、「第一基板」と称する)上に、剥離剤を塗布した後、剥離剤の上に接着剤を塗布し、100℃で5分、150℃で5分、および200℃で5分の加熱を行うことにより、塗布された剥離剤および接着剤から溶媒を揮発することで除去した。この段階で、剥離剤の厚さおよび接着剤の厚さがそれぞれ10μmおよび5μmになるようにした。その後、搬送キャリアであるSi基板(以下、「第二基板」と称する)と第一基板とを、第一基板上に塗布された剥離剤および接着剤を介して積層し、積層体に対し真空加熱プレス装置で250℃の加熱および800Nの加圧を同時に10分間行うことで第一基板と第二基板とを接合した。
4.被処置部材の剥離
作製した複合キャリアに対しホットプレートで直接加熱することで発泡剤の発泡温度である230〜375℃の加熱を4分間行うことで複合キャリアから第一基板を剥離した。
1.複合キャリアの作製
第一基板と第二基板とは空孔のない良好な接合が得られた。
2.被処置部材の剥離
第一基板を複合キャリアから良好に剥離することができた。第二基板の上面に残存した接着層は、有機洗浄により容易に除去できた。
本発明の第3実施形態において、剥離剤および接着剤に熱伝導性フィラーを混合した場合(以下、「フィラー有りの場合」と称する)と混合しない場合(以下、「フィラー無しの場合」と称する)とで、剥離効果を比較した。
1.接着剤
(a)フィラー有りの場合
熱伝導フィラー溶媒であるNメチルピロリジノンに溶解したポリイミドにさらに熱伝導フィラーとしてのアルミナ粉末を混合し、攪拌することで接着剤を作成した。ここで、ポリイミドは10重量%、アルミナ粉末は5重量%になるようにした。
溶媒であるNメチルピロリジノンに溶解したポリイミドからなる接着剤を作成した。ここで、ポリイミドは10重量%になるようにした。
2.剥離剤
(a)フィラー有りの場合
市販されている50μmから100μmの針状結晶の発泡剤に対し、直径5mmのジルコニアボールでの湿式ボールミル粉砕を22時間行うことにより、2〜3μmの針状結晶の発泡剤を作製した。作製した発泡剤を上記1.(a)の接着剤に混合および分散することにより剥離剤を作製した。
上記2.(a)で作製した発泡剤を上記1.(b)の接着剤に混合および分散することにより剥離剤を作製した。3.複合キャリアの作製
第2実施例と同様の方法で第一基板と第二基板とを接合した。
4.被処置部材の剥離
作製した複合キャリアに対しホットプレートで直接加熱することで発泡剤の発泡温度である450℃の加熱を行い、複合基板から第一基板が剥離されるまでの時間を測定した。
1.被処置部材の剥離
フィラー無しの場合は、450℃の加熱で、複合基板から第一基板が剥離されるまでに要した時間は20分以上であったのに対し、フィラー有りの場合は、450℃の加熱で、複合基板から第一基板が剥離されるまでに要した時間は5分以下であった。これにより、接着剤および剥離剤に熱伝導フィラーを混合することにより、剥離に要する時間が大幅に短縮できることが実証された。これは、接着剤および剥離剤に熱伝導性フィラーを混合することにより接着層および剥離層の熱伝導性が向上し、発泡剤の発泡が促進されたためであると推察される。
本発明の第2実施形態の実施例について説明する。
1.接着剤
溶媒であるNメチルピロリジノンに溶解したポリイミドにさらに熱伝導フィラーとしてのアルミナ粉末を混合し攪拌することで接着剤を作成した。ここで、ポリイミドは10重量%、アルミナ粉末は5重量%になるようにした。さらに、市販されている50μmから100μmの針状結晶の発泡剤に対し、直径5mmのジルコニアボールでの湿式ボールミル粉砕を22時間行うことにより、2〜3μmの針状結晶の発泡剤を作製し、接着剤に混合した。
2.複合キャリアの作製
被処理部材である3インチ径のSiCウェーハ上に、剥離剤を塗布し、100℃で5分、150℃で5分、および200℃で5分の加熱を行うことにより、塗布された接着剤から溶媒を揮発することで除去した。その後、搬送キャリアである8インチ径のSiウェーハとSiCウェーハとを、SiCウェーハ上に塗布された接着剤を介して積層し、積層体に対し真空加熱プレス装置で250℃の加熱および800Nの加圧を同時に10分間行うことでSiCウェーハとSiウェーハとを接合した。この際、複合キャリアの厚みが増大することを避けるために、Siウェーハに3インチ径のSiCウェーハが収まるようにザグリ加工を施した。
1.複合キャリアの作製
(a)SiCウェーハとSiウェーハとの接合界面にはボイドはなく、良好な接合が得られた。
101、106 接着剤、
101' 接合層、
102 Si基板(搬送キャリア)、
103 積層体、
103' 複合キャリア、
104 発泡剤、
105 剥離剤、
105' 剥離層、
106' 接着層。
Claims (51)
- 表面上に接着剤を付着した被処理部材を前記接着剤に含まれる溶媒の沸点以上の温度で加熱することにより、前記接着剤から溶媒を除去する段階(a)と、
搬送キャリアと被処理部材とを前記段階(a)で溶媒が除去された接着剤を介して積層させて積層体とし、前記積層体を加熱するとともに、前記搬送キャリアおよび前記被処理部材により前記接着剤が加圧されるように前記積層体を加圧することにより、前記接着剤が加熱および加圧されてなる接合層を介して前記搬送キャリアと前記被処理部材とが接合した複合キャリアを作製する段階(b)と、
前記段階(b)で作製された前記複合キャリアにおいて前記被処理部材を、前記溶媒の沸点以上の温度において処理することにより部品を製造する段階(c)と、
前記接合層の分解温度以上の温度まで前記複合キャリアを加熱することにより、前記複合キャリアの搬送キャリアと前記段階(c)で製造された前記部品とを剥離する段階(d)と、
を有することを特徴とする部品製造方法。 - 前記接着剤は樹脂を有することを特徴とする請求項1に記載の部品製造方法。
- 前記樹脂はポリイミドであることを特徴とする請求項2に記載の部品製造方法。
- 前記樹脂は前記溶媒に可溶であることを特徴とする請求項2または3に記載の部品製造方法。
- 前記接着剤はさらに金属およびセラミックの少なくともいずれかからなる粒子を含むことを特徴とする請求項2〜4のいずれか一項に記載の部品製造方法。
- 前記粒子は、直径5μm以下の球状のアルミナセラミックスであることを特徴とする請求項5に記載の部品製造方法。
- 前記段階(c)は、前記搬送キャリアの処理が可能な装置によって前記被処理部材の処理を行うことを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の部品製造方法。
- 前記搬送キャリアは、前記装置の搬送規格を満たす重量および形状を有するシリコン、金属、およびセラミックの少なくともいずれかであることを特徴とする請求項7に記載の部品製造方法。
- 前記段階(b)は、前記積層体を接着剤の溶媒の沸点以上の温度に加熱することを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の部品製造方法。
- 前記段階(a)、前記段階(b)、および前記段階(c)は、真空で行われることを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項に記載の部品製造方法。
- 前記段階(b)が行われる真空の真空度は、前記段階(c)が行われる真空の真空度以上であることを特徴とする請求項10に記載の部品製造方法。
- 前記段階(b)は、前記積層体を加熱および加圧することにより前記接着剤の軟化および流動化の少なくともいずれかを生じさせることを特徴とする請求項1〜11のいずれか一項に記載の部品製造方法。
- 前記分解温度は、前記接合層に含まれる発泡剤が発泡する温度であることを特徴とする請求項1〜12のいずれか一項に記載の部品製造方法。
- 前記分解温度は、前記接合層に含まれる樹脂が分解する温度であることを特徴とする請求項1〜13のいずれか一項に記載の部品製造方法。
- 前記段階(d)は、前記接合層に含まれる樹脂の分解と、前記接合層に含まれる発泡剤の発泡の両方の作用により前記複合キャリアの搬送キャリアと前記部品とが剥離されることを特徴とする請求項1〜13のいずれか一項に記載の部品製造方法。
- 前記発泡剤は、ジニトロソペンタメチレンテトラミン、アゾジカルボンアミド、p,p’−オキシビスベンゼンスルホニルヒドラジド、およびヒドラゾジカルボンアミドの少なくともいずれかを含むことを特徴とする請求項13または15に記載の部品製造方法。
- 前記接合層は前記発泡剤が混在していることを特徴とする請求項13、15、16のいずれか一項に記載の部品製造方法。
- 前記段階(b)は、前記搬送キャリアと前記被処理部材とが、前記搬送キャリア側に設けられた前記接着剤および前記被処理部材側に設けられた加熱により分解する剥離剤を介して積層されてなる前記積層体を加熱するとともに、前記搬送キャリアおよび前記被処理部材により前記接着剤および前記剥離剤が加圧されるように前記積層体を加圧することにより、前記接着剤および前記剥離剤がそれぞれ加熱および加圧されてなる接着層および剥離層の二重層からなる前記接合層を介して前記搬送キャリアと前記被処理部材とが接合した前記複合キャリアを作製し、
前記段階(d)は、前記剥離層の分解温度以上の温度まで前記複合キャリアを加熱することにより、前記複合キャリアの搬送キャリアと前記被処理部材とを剥離することを特徴とする請求項1〜13のいずれか一項に記載の部品製造方法。 - 表面上に接着剤を付着した被処理部材を前記接着剤に含まれる溶媒の沸点以上の温度で加熱することにより、前記接着剤から溶媒を除去した後、搬送キャリアと被処理部材とを接着剤を介して積層させて積層体とし、前記積層体を加熱するとともに、前記搬送キャリアおよび前記被処理部材により前記接着剤が加圧されるように前記積層体を加圧することにより、前記接着剤が加熱および加圧されてなり、分解温度以上の温度で分解する接合層を介して前記搬送キャリアと前記被処理部材とが接合されてなり、前記溶媒の沸点以上で処理されるための複合キャリア。
- 前記接着剤は、前記接着剤に含まれる溶媒の沸点以上の温度で前記積層体を加熱することにより、前記溶媒が除去されたことを特徴とする請求項19に記載の複合キャリア。
- 前記接着剤は樹脂を有することを特徴とする請求項20に記載の複合キャリア。
- 前記樹脂はポリイミドであることを特徴とする請求項21に記載の複合キャリア。
- 前記樹脂は前記溶媒に可溶であることを特徴とする請求項21または22に記載の複合キャリア。
- 前記接着剤はさらに金属およびセラミックの少なくともいずれかからなる粒子を含むことを特徴とする請求項21〜23のいずれか一項に記載の複合キャリア。
- 前記粒子は、直径5μm以下の球状のアルミナセラミックスであることを特徴とする請求項24に記載の複合キャリア。
- 前記搬送キャリアは、前記搬送キャリアの処理が可能な装置であって前記被処理部材の処理を行う装置の搬送規格を満たす重量および形状を有するシリコン、金属、およびセラミックの少なくともいずれかであることを特徴とする請求項19〜25のいずれか一項に記載の複合キャリア。
- 前記接着剤の溶媒の沸点以上の温度で前記積層体の加圧が行われることを特徴とする請求項19〜26のいずれか一項に記載の複合キャリア。
- 前記接合層には、前記分解温度で発泡する発泡剤が含まれていることを特徴とする請求項19〜27のいずれか一項に記載の複合キャリア。
- 前記接合層に含まれる樹脂は、前記分解温度で分解することを特徴とする請求項19〜28のいずれか一項に記載の複合キャリア。
- 前記接合層には、前記分解温度で分解する樹脂と、前記分解温度で発泡する発泡剤とが含まれ、前記分解温度において前記接合層に含まれる樹脂の分解と、前記接合層に含まれる発泡樹脂の発泡の両方の作用により前記複合キャリアの搬送キャリアと前記被処理部材とが剥離されることを特徴とする請求項19〜29のいずれか一項に記載の複合キャリア。
- 前記発泡剤は、ジニトロソペンタメチレンテトラミン、アゾジカルボンアミド、p,p’−オキシビスベンゼンスルホニルヒドラジド、およびヒドラゾジカルボンアミドの少なくともいずれかを含むことを特徴とする請求項28または30に記載の複合キャリア。
- 前記接合層には前記発泡剤が混在していることを特徴とする請求項28、30、31のいずれか一項に記載の複合キャリア。
- 前記接合層は、前記搬送キャリア側に設けられた前記接着剤および前記被処理部材側に設けられた加熱により分解する剥離剤がそれぞれ加熱および加圧されてなる接着層および剥離層の二重層からなることを特徴とする請求項20〜32のいずれか一項に記載の複合キャリア。
- 表面上に接着剤を付着した被処理部材を前記接着剤に含まれる溶媒の沸点以上の温度で加熱することにより、前記接着剤から溶媒を除去する溶媒除去手段と、
搬送キャリアと被処理部材とを前記溶媒除去手段で溶媒が除去された接着剤を介して積層させて積層体とし、前記積層体を加熱するとともに、前記搬送キャリアおよび前記被処理部材により前記接着剤が加圧されるように前記積層体を加圧することにより、前記接着剤が加熱および加圧されてなる接合層を介して前記搬送キャリアと前記被処理部材とが接合した複合キャリアを作製する複合キャリア作製手段と、
前記溶媒の沸点以上の温度において処理された前記複合キャリアを、前記接合層の分解温度以上の温度まで加熱することにより、前記複合キャリアから処理がなされた前記被処理部材を剥離する剥離手段と、
を有することを特徴とする接合剥離装置。 - 前記接着剤は樹脂を有することを特徴とする請求項34に記載の接合剥離装置。
- 前記樹脂はポリイミドであることを特徴とする請求項35に記載の接合剥離装置。
- 前記樹脂は前記溶媒に可溶であることを特徴とする請求項35または36に記載の接合剥離装置。
- 前記接着剤はさらに金属およびセラミックの少なくともいずれかからなる粒子を含むことを特徴とする請求項34〜37のいずれか一項に記載の接合剥離装置。
- 前記粒子は、直径5μm以下の球状のアルミナセラミックスであることを特徴とする請求項38に記載の接合剥離装置。
- 前記剥離手段により剥離される前記被処理部材は、前記搬送キャリアの処理が可能な装置によって前記被処理部材の処理を行われたことを特徴とする請求項34〜39のいずれか一項に記載の接合剥離装置。
- 前記搬送キャリアは、前記装置の搬送規格を満たす重量および形状を有するシリコン、金属、およびセラミックの少なくともいずれかであることを特徴とする請求項40に記載の接合剥離装置。
- 前記複合キャリア作製手段は、前記積層体を接着剤の溶媒の沸点以上の温度に加熱することを特徴とする請求項37〜41のいずれか一項に記載の接合剥離装置。
- 前記溶媒除去手段による溶媒の除去、および前記複合キャリア作製手段による前記複合キャリアの作製は、真空で行われることを特徴とする請求項37〜42のいずれか一項に記載の接合剥離装置。
- 前記複合キャリア作製手段による前記複合キャリアの作製が行われる真空の真空度は、前記溶媒除去手段により溶媒の除去が行われる真空の真空度以上であることを特徴とする請求項43に記載の接合剥離装置。
- 前記複合キャリア作製手段による前記複合キャリアの作製においては、前記積層体を加熱および加圧することにより前記接着剤の軟化および流動化の少なくともいずれかを生じさせることを特徴とする請求項37〜44のいずれか一項に記載の接合剥離装置。
- 前記分解温度は、前記接合層に含まれる発泡剤が発泡する温度であることを特徴とする請求項37〜45のいずれか一項に記載の接合剥離装置。
- 前記分解温度は、前記接合層に含まれる樹脂が分解する温度であることを特徴とする請求項37〜46のいずれか一項に記載の接合剥離装置。
- 前記剥離手段は、前記接合層に含まれる樹脂の分解と、前記接合層に含まれる発泡剤の発泡の両方の作用により前記複合キャリアの搬送キャリアと前記被処理部材とを剥離することを特徴とする請求項37〜46のいずれか一項に記載の接合剥離装置。
- 前記発泡剤は、ジニトロソペンタメチレンテトラミン、アゾジカルボンアミド、p,p’−オキシビスベンゼンスルホニルヒドラジド、およびヒドラゾジカルボンアミドの少なくともいずれかを含むことを特徴とする請求項46または48に記載の接合剥離装置。
- 前記接合層は前記発泡剤が混在していることを特徴とする請求項46、48、49のいずれか一項に記載の接合剥離装置。
- 前記複合キャリア作製手段は、前記搬送キャリアと前記被処理部材とが、前記搬送キャリア側に設けられた前記接着剤および前記被処理部材側に設けられた加熱により分解する剥離剤を介して積層されてなる前記積層体を加熱するとともに、前記搬送キャリアおよび前記被処理部材により前記接着剤および前記剥離剤が加圧されるように前記積層体を加圧することにより、前記接着剤および前記剥離剤がそれぞれ加熱および加圧されてなる接着層および剥離層の二重層からなる前記接合層を介して前記搬送キャリアと前記被処理部材とが接合した前記複合キャリアを作製し、
前記剥離手段は、前記剥離層の分解温度以上の温度まで前記複合キャリアを加熱することにより、前記複合キャリアから前記被処理部材を剥離することを特徴とする請求項37〜45のいずれか一項に記載の接合剥離装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012281560A JP6188051B2 (ja) | 2012-12-25 | 2012-12-25 | 部品製造方法、接合剥離装置、および複合キャリア |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012281560A JP6188051B2 (ja) | 2012-12-25 | 2012-12-25 | 部品製造方法、接合剥離装置、および複合キャリア |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014125505A JP2014125505A (ja) | 2014-07-07 |
JP6188051B2 true JP6188051B2 (ja) | 2017-08-30 |
Family
ID=51405275
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012281560A Expired - Fee Related JP6188051B2 (ja) | 2012-12-25 | 2012-12-25 | 部品製造方法、接合剥離装置、および複合キャリア |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6188051B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11164762B2 (en) | 2019-09-05 | 2021-11-02 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Ultraviolet irradiation apparatus and method of manufacturing a semiconductor package using the same |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102015103118A1 (de) * | 2014-10-06 | 2016-04-07 | Siltectra Gmbh | Splitting-Verfahren und Verwendung eines Materials in einem Splitting-Verfahren |
WO2020121999A1 (ja) * | 2018-12-13 | 2020-06-18 | 日東電工株式会社 | 粘着剤組成物および粘着シート |
KR20210102234A (ko) * | 2018-12-13 | 2021-08-19 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 점착제 조성물 및 점착 시트 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04188818A (ja) * | 1990-11-22 | 1992-07-07 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体ウエハ |
JP2003193021A (ja) * | 2001-12-27 | 2003-07-09 | Hitachi Chem Co Ltd | 高熱伝導接着フィルム |
JP2004273597A (ja) * | 2003-03-06 | 2004-09-30 | Jsr Corp | ウェハ加工方法 |
JP2004022634A (ja) * | 2002-06-13 | 2004-01-22 | Sekisui Chem Co Ltd | ウエハ支持体及び半導体ウエハの製造方法 |
JP4360077B2 (ja) * | 2002-10-16 | 2009-11-11 | 富士電機デバイステクノロジー株式会社 | 半導体素子の製造方法 |
JP4645004B2 (ja) * | 2003-02-05 | 2011-03-09 | 日立化成工業株式会社 | 接着シートならびに半導体装置およびその製造方法 |
US20060102078A1 (en) * | 2004-11-18 | 2006-05-18 | Intevac Inc. | Wafer fab |
WO2006129458A1 (ja) * | 2005-05-30 | 2006-12-07 | Jsr Corporation | 固定剤付きウエハ及び固定剤付きウエハの製造方法 |
JP4613709B2 (ja) * | 2005-06-24 | 2011-01-19 | セイコーエプソン株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP5217114B2 (ja) * | 2006-05-26 | 2013-06-19 | 富士電機株式会社 | 半導体素子の製造方法 |
JP2008153337A (ja) * | 2006-12-15 | 2008-07-03 | Tokyo Electron Ltd | 貼り合せ基板の分離方法、貼り合せ基板の分離装置及びプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
JP5418505B2 (ja) * | 2009-02-03 | 2014-02-19 | コニカミノルタ株式会社 | 有機エレクトロニクス素子及びその製造方法 |
TWI479259B (zh) * | 2009-06-15 | 2015-04-01 | Sumitomo Bakelite Co | A temporary fixing agent for a semiconductor wafer, and a method of manufacturing the semiconductor device using the same |
JP2011023607A (ja) * | 2009-07-16 | 2011-02-03 | Nitto Denko Corp | 放熱性ダイボンドフィルム |
CN104091777B (zh) * | 2009-11-17 | 2017-09-12 | 伊帆科技股份有限公司 | 用于处理基材的设备 |
JP5622432B2 (ja) * | 2010-04-23 | 2014-11-12 | シーアイ化成株式会社 | 農業用ポリオレフィン系樹脂フィルムおよびその製造方法 |
JP2012126800A (ja) * | 2010-12-14 | 2012-07-05 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 基材の加工方法 |
JP2012242090A (ja) * | 2011-05-16 | 2012-12-10 | Panasonic Corp | 超音波流量計 |
-
2012
- 2012-12-25 JP JP2012281560A patent/JP6188051B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11164762B2 (en) | 2019-09-05 | 2021-11-02 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Ultraviolet irradiation apparatus and method of manufacturing a semiconductor package using the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014125505A (ja) | 2014-07-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9064686B2 (en) | Method and apparatus for temporary bonding of ultra thin wafers | |
JP5439583B2 (ja) | 一時的なウェハーボンディング及びデボンディングのための改善された装置 | |
EP2551322B1 (en) | Wafer processing laminate, wafer processing member, temporary bonding arrangement, and thin wafer manufacturing method | |
JP6188051B2 (ja) | 部品製造方法、接合剥離装置、および複合キャリア | |
JP6429388B2 (ja) | 積層デバイスの製造方法 | |
WO2014157082A1 (ja) | 貼付方法 | |
KR20070049063A (ko) | 기판 적재 부재의 분해 방법 및 재이용 방법 | |
TWI745532B (zh) | 半導體基板之處理方法及處理裝置 | |
JP2002237515A (ja) | 薄葉化半導体基板の剥離装置および剥離法 | |
CN110892506A (zh) | 具有高热导率的器件基板及其制造方法 | |
JP4624836B2 (ja) | 貼り合わせウエーハの製造方法及びそれに用いるウエーハ保持用治具 | |
JP2018026427A (ja) | 基板固定装置及びその製造方法 | |
JP3763710B2 (ja) | 防塵用カバーフィルム付きウエハ支持台及びその製造方法 | |
TW201448107A (zh) | 支承體分離裝置及支承體分離方法 | |
JP2015079832A (ja) | 薄基板の矯正方法および矯正装置 | |
Phommahaxay et al. | The growing application field of laser debonding: from advanced packaging to future nanoelectronics | |
JP2005302982A (ja) | 半導体チップの製造方法 | |
JP5704602B2 (ja) | 薄型半導体装置の製造方法および脆質部材用支持体 | |
JP6224330B2 (ja) | 吸着部材、これを用いた真空吸着装置および冷却装置 | |
JP2010056562A (ja) | 半導体チップの製造方法 | |
JP2012043928A (ja) | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | |
Montméat et al. | Temporary polymer bonding for the manufacturing of thin wafers: An innovative low temperature process | |
Puligadda | Temporary Bonding for Enabling Three‐Dimensional Integration and Packaging | |
JP6698337B2 (ja) | 半導体ウェハの保持方法及び半導体デバイスの製造方法 | |
JP5617659B2 (ja) | 太陽電池の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151202 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20151202 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161206 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170214 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170414 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170425 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170621 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170704 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170727 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6188051 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |