JP6174836B2 - 白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物及びその硬化物、光半導体素子搭載用基板、並びに光半導体装置 - Google Patents
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また、本発明の他の目的は、生産性及び耐熱性に優れ、白色リフレクターの構成材料として有用な硬化物を提供することにある。
さらに、本発明の他の目的は、生産性及び耐熱性に優れた白色リフレクターを有する高品質な光半導体素子搭載用基板を提供することにある。
さらに、本発明の他の目的は、上記光半導体素子搭載用基板を有する高品質な光半導体装置を提供することにある。
で表される化合物であることが好ましい。
で表される基、又は下記式(IIIb)
で表される基を示す。但し、式(III)におけるR4〜R6の少なくとも1つは式(IIIa)で表される基である]
で表される化合物であることが好ましい。
[1]エポキシ化合物(A)と、下記式(1)
[2]エポキシ化合物(A)として、脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基を有する化合物(A−1−1)、脂環に直接単結合で結合しているエポキシ基を有する化合物(A−1−2)、及び複素環式エポキシ化合物(A−2)からなる群より選択される少なくとも一種の化合物を含む、[1]に記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
[3]エポキシ化合物(A)として、脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基を有する化合物(A−1−1)と、脂環に直接単結合で結合しているエポキシ基を有する化合物(A−1−2)及び複素環式エポキシ化合物(A−2)からなる群より選択される少なくとも一種の化合物と、を含む、[1]又は[2]に記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
[4]エポキシ化合物(A)中の化合物(A−1−1)、化合物(A−1−2)、及び化合物(A−2)の合計の含有量が、硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ化合物(A)の全量(100重量%)に対して、50重量%以上である、[2]又は[3]に記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
[5]エポキシ化合物(A)として、脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基を有する化合物(A−1−1)と、複素環式エポキシ化合物(A−2)及び脂環に直接単結合で結合しているエポキシ基を有する化合物(A−1−2)からなる群より選択される少なくとも一種の化合物と、を含み、化合物(A−1−1)と、化合物(A−2)及び化合物(A−1−2)からなる群より選択される少なくとも一種の化合物との重量基準の割合が、1/99〜99/1である[1]〜[4]のいずれか一つに記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
[6]エポキシ化合物(A)が、脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基を有する化合物(A−1−1)と、複素環式エポキシ化合物(A−2)及び脂環に直接単結合で結合しているエポキシ基を有する化合物(A−1−2)からなる群より選択される少なくとも一種の化合物と、から構成されている[5]に記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
[7]化合物(A−1−1)が、シクロヘキセンオキシド基を有する化合物である[2]〜[6]のいずれか一つに記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
[8]化合物(A−1−1)が、下記式(I−1)
[9]化合物(A−1−2)が、下記式(II)
で表される化合物である[2]〜[8]のいずれか一つに記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
[10]複素環式エポキシ化合物(A−2)を構成する原子が、炭素原子、水素原子、酸素原子、及び窒素原子である[2]〜[9]のいずれか一つに記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
[11]複素環式エポキシ化合物(A−2)が、下記式(III)
で表される基、又は下記式(IIIb)
で表される基を示す。但し、式(III)におけるR4〜R6の少なくとも1つは式(IIIa)で表される基である]
で表される化合物である[2]〜[10]のいずれか一つに記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
[12]硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ化合物(A)の全量(100重量%)に対する、化合物(A−1−1)の割合が5〜95重量%である[2]〜[11]のいずれか一つに記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
[13]硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ化合物(A)の全量(100重量%)に対する、化合物(A−2)及び化合物(A−1−2)の割合が1〜90重量%である[2]〜[12]のいずれか一つに記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
[14]エポキシ化合物(A)の含有量が、硬化性エポキシ樹脂組成物100重量%に対して1.5〜15重量%である[1]〜[13]のいずれか一つに記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
[15]硬化性エポキシ樹脂組成物100重量%に対して、硬化剤(B)の含有量が0.3〜45重量%であり、無機充填剤(C)の含有量が20〜90重量%であり、白色顔料(D)の含有量が2〜40重量%である[1]〜[14]のいずれか一つに記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
[16]さらに、硬化剤(B)以外の硬化剤を含む[1]〜[15]のいずれか一つに記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
[17]前記硬化剤(B)以外の硬化剤が25℃で液状の硬化剤である[16]に記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
[18]前記硬化剤(B)以外の硬化剤が硬化剤(B)以外の酸無水物類である[16]又は[17]に記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
[19]硬化性エポキシ樹脂組成物における前記硬化剤(B)以外の硬化剤の含有量(配合量)が、硬化剤(B)100重量部に対して10〜1200重量部である[16]〜[18]のいずれか一つに記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
[20]硬化性エポキシ樹脂組成物における硬化剤(B)の含有量が、硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ化合物(A)の全量100重量部に対して1〜300重量部である[1]〜[19]のいずれか一つに記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
[21]硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれる硬化剤の全量(100重量%)に対する硬化剤(B)の割合が10重量%以上である[1]〜[20]のいずれか一つに記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
[22]さらに、硬化促進剤を含む[1]〜[21]のいずれか一つに記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
[23]硬化性エポキシ樹脂組成物における硬化促進剤の含有量が、硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ化合物(A)の全量100重量部に対して0.1〜10重量部である[22]に記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
[24]硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれる無機充填剤(C)と白色顔料(D)の総量(100重量%)に対する酸化チタンの割合が5〜40重量%である[1]〜[23]のいずれか一つに記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
[25]トランスファー成型用又はコンプレッション成型用の樹脂組成物である[1]〜[24]のいずれか一つに記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
[26][1]〜[25]のいずれか一つに記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物。
[27][26]に記載の硬化物により形成された白色リフレクターを有する光半導体素子搭載用基板。
[28][27]に記載の光半導体素子搭載用基板と、該基板に搭載された光半導体素子とを有する光半導体装置。
本発明の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物(単に「本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物」や「硬化性エポキシ樹脂組成物」と称する場合がある)は、エポキシ化合物(A)と、下記式(1)で表される硬化剤(B)(単に「硬化剤(B)」と称する場合がある)と、無機充填剤(C)と、白色顔料(D)と、を必須成分として含む組成物(硬化性組成物)である。本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、上記必須成分以外にも、必要に応じてその他の成分を含んでいてもよい。なお、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、加熱により硬化させて硬化物へと転化可能な熱硬化性組成物(熱硬化性エポキシ樹脂組成物)として使用できる。
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物におけるエポキシ化合物(A)は、分子内にエポキシ基(オキシラニル基)を1つ以上有する化合物である。中でも、エポキシ化合物(A)としては、分子内にエポキシ基を2つ以上(好ましくは2〜6つ、より好ましくは2〜4つ)有する化合物が好ましい。
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物における硬化剤(B)は、上記式(1)で表される化合物である。本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物において式(1)で表される特定の構造を有する硬化剤(B)を使用することにより、硬化性エポキシ樹脂組成物に対して優れた粉砕性及び打錠性が付与され、また、硬化物(白色リフレクター)に対して優れた耐熱性及び密着性(特に密着性)、さらに優れた靭性が付与される。
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、硬化剤として、硬化剤(B)以外の硬化剤(「その他の硬化剤」と称する場合がある)を含んでいてもよい。その他の硬化剤としては、公知乃至慣用のエポキシ樹脂用硬化剤を使用することができ、特に限定されないが、例えば、硬化剤(B)以外の酸無水物類(酸無水物系硬化剤)、アミン類(アミン系硬化剤)、ポリアミド樹脂、イミダゾール類(イミダゾール系硬化剤)、ポリメルカプタン類(ポリメルカプタン系硬化剤)、フェノール類(フェノール系硬化剤)、ポリカルボン酸類、ジシアンジアミド類、有機酸ヒドラジド等が挙げられる。中でも、均一な硬化性エポキシ樹脂組成物を効率的に調製することができる点で、25℃で液状(液体)の硬化剤が好ましい。なお、本明細書において「25℃で液状」とは、常圧での状態を意味する。25℃で液状の硬化剤を用いた場合、硬化剤(B)と混合して25℃で液状の混合物(硬化剤組成物)としやすいため、硬化性エポキシ樹脂組成物の生産性がより向上する傾向がある。
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、硬化促進剤を含んでいてもよい。硬化促進剤は、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ化合物(A)が硬化剤(B)等の硬化剤と反応する際の反応速度(硬化速度)を促進する機能を有する化合物である。上記硬化促進剤としては、公知乃至慣用の硬化促進剤を使用することができ、例えば、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7(DBU)又はその塩(例えば、フェノール塩、オクチル酸塩、p−トルエンスルホン酸塩、ギ酸塩、テトラフェニルボレート塩等);1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−5(DBN)又はその塩(例えば、フェノール塩、オクチル酸塩、p−トルエンスルホン酸塩、ギ酸塩、テトラフェニルボレート塩等);ベンジルジメチルアミン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン等の3級アミン;2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール;リン酸エステル、トリフェニルホスフィン等のホスフィン類;テトラフェニルホスホニウムテトラ(p−トリル)ボレート等のホスホニウム化合物;オクチル酸亜鉛やオクチル酸スズ等の有機金属塩;金属キレート等が挙げられる。
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物における無機充填剤(C)は、主に、硬化性エポキシ樹脂組成物に対して良好な粉砕性及び打錠性を付与し、また、硬化物(白色リフレクター)の線膨張率を低減させる働きを有する。また、無機充填剤(C)の種類によっては、硬化物(白色リフレクター)に対して優れた光反射性を付与できる場合もある。
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物における白色顔料(D)は、主に、硬化物(白色リフレクター)に対して高い光反射性を付与し、また、その線膨張率を低減させる働きを有する。白色顔料(D)としては、公知乃至慣用の白色顔料を使用することができ、特に限定されないが、例えば、ガラス、クレー、雲母、タルク、カオリナイト(カオリン)、ハロイサイト、ゼオライト、酸性白土、活性白土、ベーマイト、擬ベーマイト、無機酸化物、金属塩[例えば、アルカリ土類金属塩等]等の無機白色顔料;スチレン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂、尿素−ホルマリン系樹脂、メラミン−ホルマリン系樹脂、アミド系樹脂等の樹脂顔料等の有機白色顔料(プラスチックピグメント等);中空構造(バルーン構造)を有する中空粒子等が挙げられる。
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、さらに、離型剤を含んでいてもよい。離型剤を含むことにより、トランスファー成型等の金型を使用した成型法による連続成型が容易となり、高い生産性で硬化物(白色リフレクター)を製造することが可能となる。離型剤としては、公知乃至慣用の離型剤を使用することができ、特に限定されないが、例えば、フッ素系離型剤(フッ素原子含有化合物;例えば、フッ素オイル、ポリテトラフルオロエチレン等)、シリコーン系離型剤(シリコーン化合物;例えば、シリコーンオイル、シリコーンワックス、シリコーン樹脂、ポリオキシアルキレン単位を有するポリオルガノシロキサン等)、ワックス系離型剤(ワックス類;例えば、カルナウバワックス等の植物ロウ、羊毛ワックス等の動物ロウ、パラフィンワックス等のパラフィン類、ポリエチレンワックス、酸化ポリエチレンワックス等)、高級脂肪酸又はその塩(例えば、金属塩等)、高級脂肪酸エステル、高級脂肪酸アミド、鉱油等が挙げられる。
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、酸化防止剤を含んでいてもよい。酸化防止剤を含むことにより、いっそう耐熱性(特に、耐黄変性)に優れた硬化物(白色リフレクター)を製造することが可能となる。酸化防止剤としては、公知乃至慣用の酸化防止剤を使用することができ、特に限定されないが、例えば、フェノール系酸化防止剤(フェノール系化合物)、ヒンダードアミン系酸化防止剤(ヒンダードアミン系化合物)、リン系酸化防止剤(リン系化合物)、イオウ系酸化防止剤(イオウ系化合物)等が挙げられる。
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、上述の成分以外にも、本発明の効果を損なわない範囲内で各種添加剤を含有していてもよい。上記添加剤として、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等のヒドロキシ基を有する化合物を含有させると、反応を緩やかに進行させることができる。その他にも、粘度や透明性を損なわない範囲内で、消泡剤、レベリング剤、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランや3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤、界面活性剤、難燃剤、着色剤、イオン吸着体、顔料、蛍光体(例えば、YAG系の蛍光体微粒子、シリケート系蛍光体微粒子等の無機蛍光体微粒子等)等の慣用の添加剤を使用することができる。これら添加剤の含有量は特に限定されず、適宜選択可能である。
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物を加熱によって硬化させることにより、耐熱性及び密着性に優れた硬化物を得ることができる。硬化の際の加熱温度(硬化温度)は、特に限定されないが、100〜200℃が好ましく、より好ましくは150〜190℃である。また、硬化の際に加熱する時間(硬化時間)は、特に限定されないが、60〜600秒が好ましく、より好ましくは90〜240秒である。硬化温度と硬化時間が上記範囲の下限値より低い場合は硬化が不十分となり、逆に上記範囲の上限値より高い場合は熱分解による黄変が発生したり、タクトタイムが長くなり生産性が低下することがある。硬化条件は種々の条件に依存するが、例えば、硬化温度を高くした場合は硬化時間を短く、硬化温度を低くした場合は硬化時間を長くする等により、適宜調整することができる。また、硬化処理は一段階(例えば、トランスファー成型のみ)で行ってもよいし、例えば、多段階(例えば、トランスファー成型後にポストキュアー(二次硬化)としてオーブン等でさらに加熱する等)で行ってもよい。
本発明の光半導体素子搭載用基板は、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物(本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物を硬化させることにより得られる硬化物)により形成された白色リフレクターを少なくとも有する基板である。図1は、本発明の光半導体素子搭載用基板の一例を示す概略図であり、(a)は斜視図、(b)は断面図を示す。図1における100は白色リフレクター、101は金属配線(リードフレーム)、102は光半導体素子の搭載領域、103はパッケージ基板を示す。なお、パッケージ基板103には、金属配線101、さらに白色リフレクター100が取り付けられており、その中央(光半導体素子の搭載領域102)に光半導体素子107が置かれてダイ・ボンディングされ、光半導体素子107とパッケージ基板103上の金属配線101の間はワイヤ・ボンディングで接続される。パッケージ基板103の材質としては、樹脂、セラミックなどが使用されるが、白色リフレクターと同じものであってもよい。本発明の光半導体素子搭載用基板における上側の白色リフレクター100は、光半導体素子の搭載領域102の周囲を環状に取り囲み、上方に向かってその環の径が拡大するように傾斜した凹状の形状を有している。本発明の光半導体素子搭載用基板は、上記凹状の形状の内側の表面が少なくとも本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物により形成されていればよい。また、図1に示すように、金属配線101に囲まれた部分(102の下部)は、パッケージ基板103の場合もあるし、白色リフレクター100の場合もある(即ち、図1における「100/103」は、白色リフレクター100であってもよいし、パッケージ基板103であってもよいことを意味する)。但し、本発明の光半導体素子搭載用基板は、図1に示す態様には限定されない。
本発明の光半導体装置は、本発明の光半導体素子搭載用基板と、該基板に搭載された光半導体素子とを少なくとも有する光半導体装置である。本発明の光半導体装置は、白色リフレクターとして本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物により形成された白色リフレクターを有するため、生産性に優れ、光の取り出し効率が高く、また、経時で光度が低下しにくい等、耐久性にも優れる。図2は、本発明の光半導体装置の一例を示す概略図(断面図)である。図2における100は白色リフレクター、101は金属配線(リードフレーム)、103はパッケージ基板、104はボンディングワイヤ、105は封止材、106はダイボンディング材、107は光半導体素子(LED素子)を示す。図2に示す光半導体装置においては、光半導体素子107から発せられた光が白色リフレクター100の表面(反射面)で反射するため、高い効率で光半導体素子107からの光が取り出される。なお、図2に示すように、本発明の光半導体装置における光半導体素子は、通常、透明な封止材(図2における105)によって封止されている。
[硬化剤の製造]
反応容器に、窒素雰囲気下で、1,3,5−トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌル酸438.5g、メチルアミルケトン440.4g、及びメチルヘキサヒドロフタル酸無水物840.0gを入れた。なお、合成の間は、反応容器にゆっくり窒素パージを継続した。次に、反応容器中の混合物を攪拌しながら150℃に加熱した(123℃でほとんどの1,3,5−トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌル酸は溶解したことを確認した)。約150℃に1時間保持した後、混合物を134℃まで冷却し、n−ブタノール248.4gを添加した。このようにして得られた生成物は、固体成分(不揮発分)が68.1%であり、粘度が2.78Pa・sであった。また、不揮発分1gあたりの酸価は224.8mgKOH/gであった。
表1に示すように、脂環式エポキシ化合物(商品名「セロキサイド2021P」、(株)ダイセル製)20重量部、脂環式エポキシ化合物(商品名「EHPE3150」、(株)ダイセル製)20重量部、酸無水物硬化剤(商品名「リカシッドMH−700」、新日本理化(株)製)30重量部、合成例1で得られた硬化剤20重量部、硬化促進剤(商品名「UCAT−5003」、サンアプロ(株)製)1.5重量部、酸化防止剤(商品名「AO80」、ADEKA(株)製)0.3重量部、酸化防止剤(商品名「アデカスタブPEP36」、ADEKA(株)製)0.3重量部、離型剤(商品名「エレクトールWEP−5」、日油(株)製)2重量部、白色顔料(酸化チタン;商品名「DCF−T−17007」、レジノカラー工業(株)製)140重量部、及びシリカフィラー(商品名「MSR−2212」、龍森(株)製)480重量部を、プラネタリーミキサーを用いて90℃で10分間混合し、冷却後に粉砕することによって、粉体状の硬化性エポキシ樹脂組成物を得た。
硬化性エポキシ樹脂組成物の配合組成を表1に示すように変更したこと以外は、実施例1と同様にして硬化性エポキシ樹脂組成物を得た。
実施例及び比較例で得られた硬化性エポキシ樹脂組成物及びその硬化物について、下記の評価を実施した。なお、下記の評価において用いた各試験片(硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物)は、トランスファー成型機を使用してトランスファー成型により作製した(硬化条件:180℃×180秒)。成型後の硬化物は150℃で4時間のポストキュアーを行った。
硬化性エポキシ樹脂組成物についての粉砕性、打錠性(粉砕、打錠の可否)の評価を以下の手順で実施した。粉砕性及び打錠性の両方において○(良好)の評価が得られた場合を○(粉砕及び打錠が可能)、それ以外の場合[粉砕性及び打錠性のいずれか一方又は両方において×(不良)の評価が得られた場合]を×(粉砕及び打錠が不可)と評価した。結果を表1に示す。
・粉砕性:硬化性エポキシ樹脂組成物を粉砕機で粉砕にかけた場合、粉砕機内で樹脂融着の発生が全くない場合を○(粉砕性良好)、樹脂融着が発生した場合を×(粉砕性不良)とした。
・打錠性:硬化性エポキシ樹脂組成物を打錠機で打錠した場合、打錠機(ダイス及びパンチ)への樹脂付着がなく、かつ打錠後のタブレット変形がない場合を○(打錠性良好)、樹脂付着及びタブレット変形のいずれか一方又は両方があった場合を×(打錠性不良)とした。
硬化性エポキシ樹脂組成物を用いて長さ30mm×幅30mm×3mm厚の試験片(硬化物)を作製し、分光光度計(UV−3150、(株)島津製作所製)を用いて、上記試験片の波長460nmの光の反射率(これを「初期反射率」とする)を測定した。結果を表1に示す。
初期反射率の評価を行った試験片(硬化物;長さ30mm×幅30mm×3mm厚)を用いて、当該試験片を150℃の乾燥機に入れて1000時間放置する試験(耐熱試験)を行った後、波長460nmの光の反射率を初期反射率と同様に測定した。結果を表1に示す。この耐熱試験後の反射率が高いほど、硬化物が耐熱性に優れることが示唆される。
(エポキシ化合物)
セロキサイド2021P:商品名「セロキサイド2021P」(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(3,4−エポキシ)シクロヘキサンカルボキシレート)、(株)ダイセル製
EHPE3150:商品名「EHPE3150」(2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物)、(株)ダイセル製
TEPIC−S:商品名「TEPIC−S」(トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート)、日産化学工業(株)製
MA−DGIC:商品名「MA−DGIC」(モノアリルジグリシジルイソシアヌレート)、四国化成工業(株)製
DA−MGIC:商品名「DA−MGIC」(ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート)、四国化成工業(株)製
(硬化剤)
リカシッドMH−700:商品名「リカシッドMH−700」(4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸/ヘキサヒドロ無水フタル酸)、新日本理化(株)製
H−TMAn:商品名「H−TMAn」(シクロヘキサン−1,2,4−トリカルボン酸−1,2−無水物)、三菱ガス化学(株)製
YH1120:商品名「YH1120」(2,4−ジエチルグルタル酸無水物)、三菱化学(株)製
合成例1で得られた硬化剤:上記式(1)で表される化合物
(硬化促進剤)
UCAT−5003:商品名「UCAT−5003」(第四級ホスホニウムブロマイド)、サンアプロ(株)製
DBU・オクチル酸塩:商品名「DBU・オクチル酸塩」、サンアプロ(株)製
PX−4ET:商品名「ヒシコーリンPX−4ET」(テトラ−n−ブチルホスホニウム−o,o−ジエチルホスホロジチオネート)、日本化学工業(株)製
(酸化防止剤)
AO80:商品名「AO80」(フェノール系酸化防止剤)、(株)ADEKA製
PEP36:商品名「アデカスタブPEP36」(リン系酸化防止剤)、(株)ADEKA製
(離型剤)
エレクトールWEP−5:商品名「エレクトールWEP−5」、日油(株)製
(白色顔料)
DCF−T−17007:商品名「DCF−T−17007」(酸化チタン)、レジノカラー工業(株)製
(無機充填剤)
MSR−2212:商品名「MSR−2212」、(株)龍森製、シリカフィラー
101:金属配線(電極)
102:光半導体素子の搭載領域
103:パッケージ基板
104:ボンディングワイヤ
105:光半導体素子の封止材
106:ダイボンディング材
107:光半導体素子
108:ヒートシンク
109:カソードマーク
Claims (14)
- エポキシ化合物(A)として、脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基を有する化合物(A−1−1)と、複素環式エポキシ化合物(A−2)及び脂環に直接単結合で結合しているエポキシ基を有する化合物(A−1−2)からなる群より選択される少なくとも一種の化合物と、を含み、化合物(A−1−1)と、化合物(A−2)及び化合物(A−1−2)からなる群より選択される少なくとも一種の化合物との重量基準の割合が、1/99〜99/1である請求項1に記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
- 化合物(A−1−1)が、シクロヘキセンオキシド基を有する化合物である請求項2に記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
- 化合物(A−1−2)が、下記式(II)
で表される化合物である請求項2〜4のいずれか一項に記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。 - 複素環式エポキシ化合物(A−2)を構成する原子が、炭素原子、水素原子、酸素原子、及び窒素原子である請求項2〜5のいずれか一項に記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
- エポキシ化合物(A)の含有量が、硬化性エポキシ樹脂組成物100重量%に対して1.5〜15重量%である請求項1〜7のいずれか一項に記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
- 硬化性エポキシ樹脂組成物100重量%に対して、硬化剤(B)の含有量が0.3〜45重量%であり、無機充填剤(C)の含有量が20〜90重量%であり、白色顔料(D)の含有量が2〜40重量%であり、硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれる無機充填剤(C)と白色顔料(D)の総量に対する酸化チタンの割合が5〜40重量%である請求項8に記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
- さらに、25℃で液状の硬化剤を含む請求項1〜9のいずれか一項に記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
- トランスファー成型用又はコンプレッション成型用の樹脂組成物である請求項1〜10のいずれか一項に記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物。
- 請求項1〜11のいずれか一項に記載の白色リフレクター成型用硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物。
- 請求項12に記載の硬化物により形成された白色リフレクターを有する光半導体素子搭載用基板。
- 請求項13に記載の光半導体素子搭載用基板と、該基板に搭載された光半導体素子とを有する光半導体装置。
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