JP6163804B2 - 相容化樹脂の製造法、熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ及び積層板 - Google Patents
相容化樹脂の製造法、熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ及び積層板 Download PDFInfo
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Description
また、近年の環境問題から、鉛フリーはんだによる電子部品の搭載やハロゲンフリーによる難燃化が要求され、そのため従来のものよりも高い耐熱性及び難燃性が必要とされる。さらに、製品の安全性や作業環境の向上化のため、毒性の低い成分のみで構成され、毒性ガス等が発生しない熱硬化性樹脂組成物が望まれている。
このため、シアネート化合物と無機充填剤からなる低熱膨張性を発現させる樹脂組成物が開示されている(例えば、特許文献1、2および3参照)。しかし、これらは低熱膨張性を発現させるため無機充填剤の配合使用量が多く、銅張積層板や層間絶縁材料として使用した場合にドリル加工性や成形性が不足する。
即ち本発明は、以下の相容化樹脂の製造方法、熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ及び積層板を提供するものである。
4.上記3のプリプレグを用いて形成された積層板。
先ず、本発明の相容化樹脂の製造方法は、下記一般式(I)で示される末端にフェノール性水酸基を有するシロキサン樹脂(a1)と、1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有する化合物(a2)をエーテル化反応させることにより得られる、分子構造中に水酸基とエポキシ基を有する化合物(a)と、1分子中に少なくとも2個のシアネート基を有する化合物(b)を、好ましくは有機金属塩(c)の存在下、有機溶媒中で反応させ、(b)成分の反応率が30〜70モル%であることを特徴とする方法である。
このエーテル化反応に用いられるシロキサン樹脂(a1)は、上記一般式(I)で示される構造の両末端にフェノール性水酸基を含有するシロキサン樹脂であれば特に限定されない。例えば信越化学工業(株)製の商品名X−22−1876(水酸基価:120KOHmg/g)、商品名X−22−1857(水酸基価:60KOHmg/g)、商品名X−22−1821(水酸基価:30KOHmg/g)、商品名X−22−1822(水酸基価:20KOHmg/g)、商品名X−26−1064(水酸基価:25KOHmg/g)、東レ・ダウコーニング(株)製の商品名BY16-752A(水酸基価:30KOHmg/g)、商品名BY16-799(水酸基価:60KOHmg/g)等が挙げられる。これらの中で、耐熱性、低熱膨張性、及び溶剤溶解性に優れる点から、信越化学工業(株)製、商品名X−22−1876(水酸基価:120KOHmg/g)、商品名X−22−1875(水酸基価:60KOHmg/g)、商品名X−22−1821(水酸基価:30KOHmg/g)、東レ・ダウコーニング(株)製、商品名BY16−752A(水酸基価:30KOHmg/g)、商品名BY16−799(水酸基価:60KOHmg/g)が特に好ましい。
これらの中で、高剛性、誘電特性、耐熱性、難燃性、耐湿性、低熱膨張性、及び室温で固形であるためプリプレグを製造した際にプリプレグのタック性がなく取り扱い易い点から、ナフタレン環含有エポキシ樹脂、ビフェニル基含有エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂が好ましい。
また、芳香族系有機溶剤への溶解性の点からナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル・クレゾール共重合型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂がより好ましい。
更に、多層材料をプレス成形する際の成形性の点から、下記式(III)に示すナフトールアラルキル・クレゾール共重合型エポキシ樹脂、下記式(IV)に示すビフェニル型エポキシ樹脂、下記一般式(V)で表されるビフェニルアラルキルエポキシ樹脂が特に好ましい。
このエーテル化反応において、(a1)の水酸数が(a2)のエポキシ基数以上であると、分子構造中にエポキシ基を有する所望の生成物が得られない。また、(a2)のエポキシ基数と(a1)の水酸基数との比率((a2)のエポキシ基数/(a1)の水酸基数)が1.5以上であると、合成中に不溶化を起こしたり、また、これをもとに得られる積層板の耐湿性が低下することがなく、また、この比率が10.0以下であると、合成中にゲル化を起こしたり、また、これをもとに得られる積層板の銅箔接着性が低下することがない。
なお、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等の窒素原子含有溶剤を使用した場合、得られる積層板の耐湿性が低下する場合があり好ましくない場合がある。
前記の有機溶媒の中で、溶解性や揮発性が高くプリプレグの製造時に残溶剤として残りにくい点から、また、得られる積層板の耐湿耐熱性、銅箔接着性、低誘電率性の点から、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族系溶剤が特に好ましい。
この中和滴定による酸価の測定方法はJIS規格(K 0211 1469号)による方法に準拠し、例えば、取り出した少量の試料に、指示薬としてフェノールフタレインを添加し、このものをメタノール性の水酸化カリウム溶液により滴定し、中和点を確認する方法等が望ましい。合成反応の終点の酸価は、反応初期の酸価の1/2以下になっていることが望ましい。終点での酸価が、反応初期の酸価の1/2より大きい値であると、生成される分子構造中に水酸基とエポキシ基を有する化合物(a)の生成量が不足し、相容性が不足する場合がある。
反応触媒の(c)成分の使用量は、(a)成分と(b)成分の合計量100質量部に対して、0.0001〜0.004質量部が好ましい。0.0001質量部以上とすることにより、反応に長時間を要したり、所望の反応率に達しないことがない。また、0.004重量部以下とすることにより、反応速度が速すぎて終点管理が難しくなることがない。ここで、(b)成分のシアネート基を有する化合物の反応率は、GPC測定により反応開始時の(b)のシアネート基を有する化合物のピーク面積と、所定時間反応後のピーク面積を比較し、ピーク面積の消失率から求められる。
プレ反応の反応率は、シアネート基を有する化合物(b)の反応率(消失率)を30〜70モル%となるようし、好ましくは40〜68モル%となるようする。反応率が30モル%未満であると、得られる樹脂が相容化されておらず、樹脂が分離して白濁し、Bステージの塗工布が製造でない。また、反応率が70モル%を超えると、得られる熱硬化性樹脂が溶剤に不溶化し、Aステージのワニス(熱硬化性樹脂組成物)が製造できなくなったり、プリプレグのゲルタイムが短くなり過ぎ、プレスの際に成形性が低下する場合がある。
難燃剤や難燃助剤の例としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリスジクロロプロピルホスフェート、リン酸エステル系化合物、ホスファゼン、赤リン等のリン系難燃剤、三酸化アンチモン、モリブデン酸亜鉛等の無機難燃助剤等が挙げられる。特に、モリブデン酸亜鉛をタルク等の無機充填剤に担持した無機難燃助剤は、難燃性のみならずドリル加工性をも著しく向上化させるので、特に好ましい無機難燃助剤である。モリブデン酸亜鉛の使用量は相容化樹脂(A)100質量部に対し、5〜20質量部とすることが好ましい。5質量部以上とすることにより、難燃性やドリル加工性が向上し、また20質量部以下とすることにより、ワニスのゲルタイムが短くなり過ぎてプレスにより積層板を成形する際に成形性が低下することがない。
熱可塑性樹脂の例としては、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリフェニレンエーテル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、キシレン樹脂、石油樹脂及びシリコーン樹脂等が挙げられる。
エラストマーの例としては、ポリブタジエン、ABS樹脂、エポキシ変性ポリブタジエン、無水マレイン酸変性ポリブタジエン、フェノール変性ポリブタジエン及びカルボキシ変性アクリロニトリル等が挙げられる。
有機充填剤の例としては、シリコーンパウダー、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、並びにポリフェニレンエーテル等の有機物粉末等が挙げられる。
即ち、本発明のプリプレグは、本発明の熱硬化性樹脂組成物を、基材に含浸又は塗工し、加熱等により半硬化(Bステージ化)して本発明のプリプレグを製造することができる。
本発明のプリプレグは、該基材に対する熱硬化性樹脂組成物の付着量が、乾燥後のプリプレグの樹脂含有率で20〜90質量%となるように基材に含浸又は塗工した後、通常、100〜200℃の温度で1〜30分加熱乾燥し、半硬化(Bステージ化)させて得ることができる。
即ち、本発明の積層板は前述のプリプレグを、例えば1〜20枚重ね、その片面又は両面に銅及びアルミニウム等の金属箔を配置した構成で積層成形することにより製造することができる。金属箔は、電気絶縁材料用途で用いるものであれば特に制限されない。
また、成形条件は、例えば、電気絶縁材料用積層板及び多層板の手法が適用でき、例えば多段プレス、多段真空プレス、連続成形、オートクレーブ成形機等を使用し、温度100〜250℃、圧力2〜100kg/cm2(0.2〜10MPa)、加熱時間0.1〜5時間の範囲で成形することができる。また、本発明のプリプレグと内層用配線板とを組合せ、積層成形して、多層板を製造することもできる。
なお、以下の実施例および比較例において得られた銅張積層板を以下の方法により測定し、評価を行った。
銅張積層板を銅エッチング液に浸漬することにより1cm幅の銅箔を形成して評価基板を作製し、引張り試験機を用いて銅箔の接着性(ピール強度)を測定した。
銅張積層板を銅エッチング液に浸漬することにより銅箔を取り除いた5mm角の評価基板を作製し、TMA試験装置(デュポン社製、TMA2940)を用い、評価基板の面方向の熱膨張特性を観察することにより評価した。
銅張積層板を銅エッチング液に浸漬することにより銅箔を取り除いた5cm角の評価基板を作製し、平山製作所(株)製プレッシャー・クッカー試験装置を用いて、121℃、2atm(0.2MPa)の条件で4時間までプレッシャー・クッカー処理を行った後、温度288℃又は300℃のはんだ浴に、評価基板を20秒間浸漬した後、外観を観察することによりはんだ耐熱性を評価した。
銅張積層板を銅エッチング液に浸漬することにより銅箔を取り除いた5mm角の評価基板を作製し、TMA試験装置(デュポン社製、TMA2940)を用い、評価基板の面方向の30〜100℃の線熱膨張率を測定した。
銅張積層板を銅エッチング液に浸漬することにより銅箔を取り除いた評価基板から、長さ127mm、幅12.7mmに切り出した試験片を作製し、UL94の試験法(V法)に準じて評価した。
銅張積層板から5mm角の評価基板を作製し、TMA試験装置(デュポン社製、TMA2940)を用い、300℃で評価基板の膨れが発生するまでの時間を測定することにより評価した。
得られた銅張積層板を銅エッチング液に浸漬することにより銅箔を取り除いた評価基板を作製し、Hewllet・Packerd社製比誘電率測定装置(製品名:HP4291B)を用いて、周波数1GHzでの比誘電率及び誘電正接を測定した。
ドリルに径0.105mm(ユニオンツールMV J676)を用い、回転数:160,000rpm、送り速度:0.8m/分、重ね枚数:1枚でドリル加工を行い、6000ヒットさせて評価基板を作製し、ドリル穴の内壁粗さを評価した。内壁粗さの評価は、無電解銅めっきを行い(めっき厚:15μm)、穴壁へのめっき染み込み長さの最大値を測定することにより評価した。
温度計、攪拌装置、還流冷却管の付いた加熱及び冷却可能な容積2リットルの反応容器に、下記式(X)に示すビフェニル型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製;商品名YX-4000、エポキシ当量;186):317.4g、下記式(XI)に示すシロキサン樹脂(信越化学社製;商品名X−22−1821、水酸基当量;1,600):682.6g、トルエン:1000.0g、及びトリフェニルホスフィン:3.17gを投入した(反応の当量比はエポキシ基/水酸基=4.0である)。
次いで、攪拌しながら120℃に昇温し、約120℃で反応を行い、1時間おきにサンプリングを行い中和滴定により酸価を測定した。5時間反応後に酸価が0mg/KOHになったことを確認し、室温に冷却して下記式(XII)に示す構造の分子構造中に水酸基とエポキシ基を有する化合物(K−1)の溶液を得た。
温度計、攪拌装置、還流冷却管の付いた加熱及び冷却可能な容積2リットルの反応容器に、前記式(X)に示すビフェニル型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製;商品名YX−4000、エポキシ当量;186):498.0g、下記式(XIII)に示すシロキサン樹脂(信越化学社製;商品名X−22−1876、水酸基当量;375):502.0g、トルエン:1000.0g、及びトリフェニルホスフィン:4.98gを投入した(反応の当量比はエポキシ基/水酸基=2.0である)。
次いで、攪拌しながら120℃に昇温し、約120℃で反応を行い、1時間おきにサンプリングを行い中和滴定により酸価を測定した。反応開始時に酸価は30mg/KOHであったが、2時間反応後に酸価が半分の15mg/KOHになったことを確認し、室温に冷却して下記式(XIV)に示す構造の分子構造中に水酸基とエポキシ基を有する化合物(K−2)の溶液を得た。
温度計、攪拌装置、還流冷却管の付いた加熱及び冷却可能な容積2リットルの反応容器に、前記式(III)に示すナフトールアラルキル・クレゾール共重合型エポキシ樹脂(日本化薬社製;商品名NC−7000L、エポキシ当量;230):710.4gと、下記式(XV)に示すシロキサン樹脂(東レ・ダウコーニング社製;商品名BY16−799、水酸基当量;750):289.6gと、トルエン:1000.0g、及びトリフェニルホスフィン:3.55gを投入した(反応の当量比はエポキシ基/水酸基=8.0である)。
次いで、攪拌しながら120℃に昇温し、約120℃で反応を行い、1時間おきにサンプリングを行い中和滴定により酸価を測定した。2時間反応後に酸価が0mg/KOHになったことを確認し、室温に冷却して分子構造中に水酸基とエポキシ基を有する化合物(K−3)の溶液を得た。
温度計、攪拌装置、還流冷却管の付いた加熱及び冷却可能な容積2リットルの反応容器に、下記式(XVI)に示すナフタレン型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製;商品名HP−4032、エポキシ当量;152):275.4gと、前記式(XI)に示すシロキサン樹脂(信越化学社製;商品名X−22−1821、水酸基当量;1,600):724.6gと、トルエン:1000.0g、及びトリフェニルホスフィン:2.75gを投入した(反応の当量比はエポキシ基/水酸基=4.0である)。次いで、攪拌しながら120℃に昇温し、約120℃で反応を行い、1時間おきにサンプリングを行い中和滴定により酸化を測定した。反応開始時に酸価は11mg/KOHであったが、3時間反応後に酸価が3mg/KOHになったことを確認し、室温に冷却して分子構造中に水酸基とエポキシ基を有する化合物(K−4)の溶液を得た。
この反応溶液を少量取り出し、GPC測定(ポリスチレン換算、溶離液:テトラヒドロフラン)を行ったところ、溶出時間が約12.1分付近に出現する合成原料のノボラック型シアネート樹脂のピーク面積が、反応開始時のフェノールノボラック型シアネート樹脂のピーク面積と比較し、ピーク面積の消失率〔(b)成分の反応率〕が37%であった。また、約10.9分付近、及び8.0〜10.0分付近に出現する熱硬化性樹脂の生成物のピークが確認された。さらに、少量取り出した反応溶液を、メタノールとベンゼンの混合溶媒(混合質量比1:1)に滴下して再沈殿させることにより、精製された固形分を取り出し、FT−IR測定を行ったところ、イミノカーボネート基に起因する1700cm-1付近のピーク、また、トリアジン環に起因する1560cm-1付近、及び1380cm-1付近の強いピークが確認でき、相容化樹脂(A−4)が製造されていることを確認した。
温度計、攪拌装置、還流冷却管の付いた加熱及び冷却可能な容積2リットルの反応容器に、下記式(XVII)に示すジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製;商品名HP−7200H、エポキシ当量;280):344.3gと、前記式(XI)に示すシロキサン樹脂(信越化学社製;商品名X−22−1821、水酸基当量;1,600):655.7g、トルエン:1000.0g、及びトリフェニルホスフィン:3.44gを投入した(反応の当量比はエポキシ基/水酸基=3.0である)。
次いで、攪拌しながら120℃に昇温し、約120℃で反応を行い、1時間おきにサンプリングを行い中和滴定により酸化を測定した。6時間反応後に酸価が0mg/KOHになったことを確認し、室温に冷却して分子構造中に水酸基とエポキシ基を有する化合物(K−5)の溶液を得た。
この反応溶液を少量取り出し、GPC測定(ポリスチレン換算、溶離液:テトラヒドロフラン)を行ったところ、溶出時間が約12.4分付近に出現する合成原料のビスフェノールA型シアネート樹脂のピーク面積が、反応開始時のビスフェノールA型シアネート樹脂のピーク面積と比較し、ピーク面積の消失率〔(b)成分の反応率〕が65%であった。また、約10.9分付近、及び8.0〜10.0分付近に出現する熱硬化性樹脂の生成物のピークが確認された。さらに、少量取り出した反応溶液を、メタノールとベンゼンの混合溶媒(混合質量比1:1)に滴下して再沈殿させることにより、精製された固形分を取り出し、FT−IR測定を行ったところ、イミノカーボネート基に起因する1700cm-1付近のピーク、また、トリアジン環に起因する1560cm-1付近、及び1380cm-1付近の強いピークが確認でき、相容化樹脂(A−5)が製造されていることを確認した。
温度計、攪拌装置、還流冷却管の付いた加熱及び冷却可能な容積3リットルの反応容器に、溶融シリカ(アドマテックス社製;商品名SO−25R):700.0gと、プロピレングリコールモノメチルエーテル:1000.0gを配合し、攪拌しながらN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学社製;商品名KBM−573):7.0gを添加した。次いで80℃に昇温し、80℃で1時間反応を行い溶融シリカの表面処理(湿式処理)を行った後、室温に冷却し、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランにより表面処理(湿式処理)された溶融シリカ(B−1)の溶液を得た。
温度計、攪拌装置、還流冷却管の付いた加熱及び冷却可能な容積3リットルの反応容器に、ビスフェノールA型シアネート樹脂(ロンザジャパン社製;商品名Primaset BADCy):600.0gと、前記の式(XI)に示すシロキサン樹脂(信越化学社製;商品名X−22−1821、水酸基当量;1600):200.0gと、ビフェニル型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製;商品名YX−4000、エポキシ当量;186):200.0gと、トルエン:1000.0gを投入した。次いで、攪拌しながら120℃に昇温し、樹脂固形分が溶解し均一な溶液になっていることを確認した後、ナフテン酸亜鉛の8質量%ミネラルスピリット溶液を0.01g添加し、約110℃で1時間反応を行った。その後、室温に冷却し、樹脂(A−6)の溶液を得た。
この反応溶液を少量取り出し、GPC測定(ポリスチレン換算、溶離液:テトラヒドロフラン)を行ったところ、溶出時間が約12.4分付近に出現する合成原料のビスフェノールA型シアネート樹脂のピーク面積が、反応開始時のビスフェノールA型シアネート樹脂のピーク面積と比較し、ピーク面積の消失率〔(b)成分の反応率〕が18%であった。また、この溶液は翌日結晶化により沈殿物が生じた。
温度計、攪拌装置、還流冷却管の付いた加熱及び冷却可能な容積3リットルの反応容器に、ビスフェノールA型シアネート樹脂(ロンザジャパン社製;商品名Primaset BADCy):600.0g、前記の式(XI)に示すシロキサン樹脂(信越化学社製;商品名X−22−1821、水酸基当量;1,600):200.0g、ビフェニル型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製;商品名YX−4000、エポキシ当量;186):200.0g及びトルエン:1000.0gを投入した。次いで、攪拌しながら120℃に昇温し、樹脂固形分が溶解し均一な溶液になっていることを確認した後、ナフテン酸亜鉛の8質量%ミネラルスピリット溶液を0.01g添加し、約120℃で6時間反応を行った。その後、室温に冷却し、樹脂(A−7)の溶液を得た。
この反応溶液を少量取り出し、GPC測定(ポリスチレン換算、溶離液:テトラヒドロフラン)を行ったところ、溶出時間が約12.4分付近に出現する合成原料のビスフェノールA型シアネート樹脂のピーク面積が、反応開始時のビスフェノールA型シアネート樹脂のピーク面積と比較し、ピーク面積の消失率〔(b)成分の反応率〕が76%であった。
温度計、攪拌装置、還流冷却管の付いた加熱及び冷却可能な容積2リットルの反応容器に、ビスフェノールA型シアネート樹脂(ロンザジャパン社製;商品名Primaset BADCy):600.0gと、前記の式(XI)に示すシロキサン樹脂(信越化学社製;商品名X−22−1821、水酸基当量;1600):200.0gと、トルエン:800.0gを投入した。次いで、攪拌しながら120℃に昇温し、樹脂固形分が溶解し均一な溶液になっていることを確認した後、ナフテン酸亜鉛の8質量%ミネラルスピリット溶液を0.01g添加し、約110℃で4時間反応を行った。その後、室温に冷却し、樹脂(A−8)の溶液を得た。
この反応溶液を少量取り出し、GPC測定(ポリスチレン換算、溶離液:テトラヒドロフラン)を行ったところ、溶出時間が約12.4分付近に出現する合成原料のビスフェノールA型シアネート樹脂のピーク面積が、反応開始時のビスフェノールA型シアネート樹脂のピーク面積と比較し、ピーク面積の消失率〔(b)成分の反応率〕が53%であった。
製造例1〜5により得られた(A)成分の相容化樹脂、又は比較製造例1〜3で得られた樹脂、製造例6又は商業的に入手した(B)成分、また必要により(C)成分、(D)成分、及び硬化促進剤に、希釈溶剤としてメチルエチルケトンを使用して、第1表及び第2表に示した配合割合(質量部)で混合して樹脂分60質量%の均一なワニスを得た。
次に、得られたワニスを厚さ0.2mmのSガラスクロスに含浸塗工し、160℃で10分加熱乾燥して樹脂含有量60質量%のプリプレグを得た。
このプリプレグを4枚重ね、18μmの電解銅箔を上下に配置し、圧力25kg/cm2(2.5MPa)、温度185℃で90分間プレスを行って、銅張積層板を得た。
このようにして得られた銅張積層板を用いて、銅箔接着性(銅箔ピール強度)、ガラス転移温度、はんだ耐熱性、線膨張係数、難燃性、銅付き耐熱性(T-300)、比誘電率(1GHz)、誘電正接(1GHz)及びドリル加工性について前記の方法で測定・評価した。評価結果を第1表及び第2表に示す。
溶融シリカ(B−2):溶融シリカに対し1.0質量%のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランにより表面処理された溶融シリカ(アドマテック社製;商品名SC−2050KNK,希釈溶剤;メチルイソブチルケトン)
溶融シリカ(B−3):溶融シリカに対し1.0質量%のN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランにより表面処理された溶融シリカ(アドマテック社製;商品名SC−2050HNK,希釈溶剤;シクロヘキサノン)
溶融シリカ(B−4):溶融シリカ(アドマテック社製;商品名SO−25R)
溶融シリカ(B−5):溶融シリカに対し1.0質量%の下記式(XVIII)に示しγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランにより表面処理された溶融シリカ(アドマテック社製;商品名SC1030−MJA、希釈溶剤;メチルエチルケトン)
(D)無機難燃助剤(KG−1100):モリブデン酸亜鉛をタルクに担持した無機難燃助剤(シャーウィン・ウィリアムス社製;商品名 ケムガード1100)
硬化促進剤:ナフテン酸亜鉛の8質量%ミネラルスピリット溶液
比較例3で用いたエポキシ樹脂(YX−4000):ビフェニル型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製;商品名YX−4000、エポキシ当量;186)
比較例1:成形性が不良であり積層板を作製できなかった。
比較例2:樹脂が分離し、プリプレグ及び積層板を作製できなかった。
一方、第2表から明らかなように、比較例は、銅箔ピール強度、カラス転移温度(Tg)、はんだ耐熱性、低熱膨張性、難燃性、銅付き耐熱性(T−300)、低誘電特性、低誘電正接性、ドリル加工性の全てを満たすものは無く、いずれかの特性に劣っている。
従って、本発明の熱硬化性樹脂組成物を使用することにより、今日要求される配線板の高密度化や高信頼性が達成され、本発明の熱硬化性樹脂組成物を電子機器などの製造に広く用いることができる。
Claims (4)
- 請求項2記載の熱硬化性樹脂組成物を基材に塗工してなるプリプレグ。
- 請求項3記載のプリプレグを用いて成形される積層板。
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