JP6141353B2 - ウェーハを検査しかつ/または分類するシステム - Google Patents
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Description
なお、本発明は以下のような態様で実現することもできる。
適用例1:
ウェーハを検査するコンピュータ実装方法であって、検査システムにより生成される、ウェーハからの散乱光に応答する出力を用いてウェーハの第1の特性を特定する、ステップであり、第1の特性が、空間的に2次元で局在していない、ステップと、第1の特性に基づき1以上の欠陥検出パラメータを特定するステップと、1以上の欠陥検出パラメータと出力とを用いてウェーハ上の欠陥を検出するステップであり、欠陥が空間的に少なくとも1次元で局在している、ステップとを含む、方法。
適用例2:
第1の特性の特定に用いる出力は、ヘイズに起因する散乱光に応答する出力を含む、適用例1の方法。
適用例3:
第1の特性の特定に用いる出力は、パターンノイズに起因する散乱光に応答する出力を含む、適用例1の方法。
適用例4:
第1の特性は、表面粗さやウェーハ全体での表面粗さのばらつきやフィルム厚やフィルム組成やフィルム残滓や1以上のパターン寸法や表面組成や形態やウェーハ内の形態変化を含む、適用例1の方法。
適用例5:
第1の特性は、表面粗さの全表面の空間周波数帯域の、部分集合だけについての表面粗さのばらつきを含む、適用例1の方法。
適用例6:
第1の特性は2次元における第1の特性の側方規模が、検査システムの点像分布関数を上回るが故に、空間的に2次元で局在していない、適用例1の方法。
適用例7:
1以上の欠陥検出パラメータを特定するステップは、ウェーハについて1以上の欠陥検出パラメータを全体的に特定するステップを含む、適用例1の方法。
適用例8:
1以上の欠陥検出パラメータを特定するステップは、ウェーハの、異なる複数の領域に対して、1以上の欠陥検出パラメータを局所的に特定するステップを含む、適用例1の方法。
適用例9:
第1の特性を特定するステップは、ウェーハ全体に1方向に沿って第1の特性のばらつきを特定するステップを含み、1以上の欠陥検出パラメータを特定するステップは、第1の特性のばらつきに基づき1以上の欠陥検出パラメータを特定するステップを含む、適用例1の方法。
適用例10:
第1の特性を特定するステップは、ウェーハの、異なる複数の領域の、第1の特性のばらつきを特定するステップを含み、1以上の欠陥検出パラメータを特定するステップは、異なる複数の領域の第1の特性のばらつきに基づき、異なる複数の領域について、個別に1以上の欠陥検出パラメータを選択するステップを含む、適用例1の方法。
適用例11:
第1の特性を特定するステップは、ウェーハの、異なる複数の領域の、第1の特性のばらつきを特定するステップを含み、1以上の欠陥検出パラメータを特定するステップは、異なる複数の領域の第1の特性のばらつきに基づき、異なる複数の領域において、個別に欠陥を検出するステップを実施するかどうかを判定するステップを含む、適用例1の方法。
適用例12:
第1の特性の特定に用いる出力は、ウェーハ用の検査システムが生成する出力の一部しか含んでおらず、ウェーハ上の欠陥の検出に用いる出力は、ウェーハ用の検査システムが生成する出力の別の部分を含み、第1の特性を特定するのに用いる出力の一部分と欠陥を検出するのに用いる出力との異なる部分が、検査システムの、照明サブシステムおよび集光サブシステムの異なる構成によって生成される、適用例1の方法。
適用例13:
第1の特性を特定するのに用いる出力とウェーハ上の欠陥の検出に用いる出力は、検査システムの、照明サブシステムおよび集光サブシステムの同一構成により生成される、適用例1の方法。
適用例14:
第1の特性と欠陥との組み合わせに基づきウェーハを分類するステップをさらに含む、適用例1の方法。
適用例15:
ウェーハを分類するコンピュータ実装方法であって、検査システムによって生成されたウェーハからの散乱光に応答する出力を用いてウェーハの第1の特性を特定するステップであり、第1の特性が空間的に2次元で局在していない、ステップと、出力を用いてウェーハの第2の特性を特定するステップであり、第2の特性が空間的に少なくとも1次元で局在している、ステップと、第1の特性と第2の特性の組み合わせに基づきウェーハを分類するステップとを含む、方法。
適用例16:
第1の特性は、2次元における第1の特性の側方規模がシステムの点像分布関数を上回るが故に空間的に2次元で局在していない、適用例15の方法。
適用例17:
第1の特性は、表面粗さ、ウェーハ全体の表面粗さのばらつき、フィルム厚、フィルム組成、フィルム残滓、1以上のパターン寸法、表面組成、形態、またはウェーハ内の形態の変化を含む、適用例15の方法。
適用例18:
第2の特性はウェーハ上の欠陥を含んでおり、前記分類するステップは、出力を用いて欠陥が検出された後に実行される、適用例15の方法。
適用例19:
第1の特性と第2の特性の組み合わせは、前記分類するステップが、第1の特性と第2の特性に等しく基づくよう第1の特性と第2の特性を等しく扱うことで生成される、適用例15の方法。
適用例20:
前記分類するステップは、ウェーハに対し施す1以上の処置を特定するステップを含む、適用例15の方法。
適用例21:
前記分類するステップは、ウェーハの全体的属性を特定するステップを含む、適用例15の方法。
適用例22:
前記分類するステップは、ウェーハの少なくとも一部の作成に用いる工程の属性を特定するステップを含む、適用例15の方法。
適用例23:
前記分類するステップは、ウェーハ上の1以上の空間位置における、第1の特性の存否と、1以上の空間位置における、第2の特性の存否との組み合わせに基づいて、ウェーハを分類するステップを含む、適用例15の方法。
適用例24:
前記分類するステップは、ウェーハ上の1以上の空間位置における第1の特性値と、1以上の空間位置における第2の特性値との組み合わせに基づいて、ウェーハを分類するステップを含む、適用例15の方法。
適用例25:
前記分類するステップは、ウェーハ上の所定位置の第1の特性と、ウェーハ上の同じ位置の第2の特性との組み合わせに基づき、ウェーハの所定位置について単一の特性を特定し、この単一の特性に基づきウェーハを分類するステップを含む、適用例15の方法。
適用例26:
前記分類するステップは、第1と第2の特性の一方がウェーハの所定領域に存在するかどうか判定し、第1と第2の特性の一方がその所定領域に存在する場合に、存在する第1または第2の特性だけに基づきウェーハを分類するステップを含む、適用例15の方法。
適用例27:
ウェーハを分類するステップは、ウェーハの所定領域において第1と第2の特性値を特定し、ウェーハの所定領域における第1と第2の特性値に基づき、第1と第2の特性のみに基づいて、ウェーハを分類するステップを含む、適用例15の方法。
適用例28:
前記分類するステップは、第1の特性と第2の特性の両方がウェーハの所定領域に存在する場合と、第1の特性と第2の特性がウェーハの異なる領域に存在し、ウェーハの所定領域に両方が存在しない場合とを異ならしめて分類するステップを含む、適用例15の方法。
適用例29:
前記分類するステップに用いる第1の特性は、ウェーハ規模について特定され、前記分類するステップに用いる第2の特性はウェーハ規模について特定される第2の特性の属性を含む、適用例15の方法。
適用例30:
第1と第2の特性の組み合わせは、第1と第2の特性の重ね合わせを含む、適用例15の方法。
適用例31:
第1と第2の特性の組み合わせは、第1と第2の特性の領域に基づく重ね合わせを含む、適用例15の方法。
適用例32:
第1と第2の特性の組み合わせは、第1と第2の特性の空間的組み合わせを含む、適用例15の方法。
適用例33:
第1と第2の特性の組み合わせは、第1と第2の特性の統計的組み合わせを含む、適用例15の方法。
適用例34:
出力を用いてウェーハの追加の特性を特定するステップをさらに含み、前記分類するステップは全ての追加の特性と第1と第2の特性の組み合わせとに基づきウェーハを分類するステップを含む、適用例15の方法。
適用例35:
出力を用いてウェーハの追加の特性を特定するステップをさらに含み、前記分類するステップは追加の特性および第1と第2の特性の組み合わせの全てに満たないものに基づきウェーハを分類するステップを含む、適用例15の方法。
適用例36:
第2の特性はウェーハ上の欠陥を含んでおり、前記方法はさらに第1の特性に基づき1以上の欠陥検出パラメータを特定するステップを含み、第2の特性を特定するステップは、1以上の検出パラメータと出力とを用いてウェーハ上の欠陥を検出するステップを含む、適用例15の方法。
適用例37:
第2の特性はウェーハ上の欠陥を含んでおり、前記方法はさらに欠陥の領域内の第1の特性に基づき欠陥を分類するステップを含む、適用例15の方法。
適用例38:
第2の特性はウェーハ上の欠陥の1以上の属性を含んでおり、前記方法はさらに、欠陥の1以上の属性のうちの少なくとも1つと組み合わせて欠陥の領域における第1の特性に基づき、欠陥を分類するステップを含む、適用例15の方法。
適用例39:
第1の特性の領域における第2の特性に基づき、第1の特性の1以上の属性を特定するステップをさらに含む、適用例15の方法。
Claims (38)
- ウェーハを検査するように構成されたシステムであって、
前記ウェーハからの散乱光に応じて出力を生成するように構成された検査サブシステムと、
コンピュータサブシステムであって、
前記出力を用いてウェーハの第1の特性を特定する処理であり、前記第1の特性は、空間的に2次元では局在していない、処理と、
第1の特性に基づき1以上の欠陥検出パラメータを特定する処理と、
1以上の欠陥検出パラメータと出力とを用いてウェーハ上の欠陥を検出する処理であり、前記欠陥は、空間的に少なくとも1次元で局在している、処理と、を行うように構成されたコンピュータサブシステムと、含む、システム。 - 第1の特性の特定に用いる出力は、ヘイズに起因する散乱光に応答する出力を含む、請求項1に記載のシステム。
- 第1の特性の特定に用いる出力は、パターンノイズに起因する散乱光に応答する出力を含む、請求項1に記載のシステム。
- 第1の特性は、表面粗さ、ウェーハ全体での表面粗さのばらつき、フィルム厚、フィルム組成、フィルム残滓、1以上のパターン寸法、表面組成、形態、またはウェーハ内の形態の変化を含む、請求項1に記載のシステム。
- 第1の特性は、表面粗さの全表面の空間周波数帯域の、部分集合だけについての表面粗さのばらつきを含む、請求項1に記載のシステム。
- 第1の特性は、2次元における第1の特性が延在する位置の横方向規模が、前記検査サブシステムの点像分布関数であって、前記検査サブシステムが含む光学系の分解能を示す点像分布関数により定まる規模を上回るが故に、空間的に2次元では局在していない、請求項1に記載のシステム。
- 1以上の欠陥検出パラメータを特定する処理は、ウェーハについて1以上の欠陥検出パラメータを全体的に特定する処理を含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記1以上の欠陥検出パラメータを特定する処理は、ウェーハの、異なる複数の領域に対して1以上の欠陥検出パラメータを局所的に特定する処理を含む、請求項1に記載のシステム。
- 第1の特性を特定する処理は、ウェーハ全体に1方向に沿って第1の特性のばらつきを特定する処理を含み、1以上の欠陥検出パラメータを特定する処理は、第1の特性のばらつきに基づき1以上の欠陥検出パラメータを特定する処理を含む、請求項1に記載のシステム。
- 第1の特性を特定する処理は、ウェーハの、異なる複数の領域の第1の特性のばらつきを特定する処理を含み、1以上の欠陥検出パラメータを特定する処理は、異なる領域の第1の特性のばらつきに個別に基づき異なる領域について1以上の欠陥検出パラメータを選択する処理を含む、請求項1に記載のシステム。
- 第1の特性を特定する処理は、ウェーハの、異なる複数の領域の第1の特性のばらつきを特定する処理を含み、1以上の欠陥検出パラメータを特定する処理は、異なる複数の領域の第1の特性のばらつきに基づき、異なる複数の領域において、個別に欠陥の検出を実施するかどうかを判定する処理を含む、請求項1に記載のシステム。
- 第1の特性の特定に用いる出力は、ウェーハ用の検査サブシステムが生成する出力の一部しか含んでおらず、ウェーハ上の欠陥の検出に用いる出力は、ウェーハ用の検査サブシステムが生成する出力の別の部分を含み、第1の特性を特定するのに用いる出力の一部分と欠陥を検出するのに用いる出力との異なる部分が、検査サブシステムの、照明サブシステムおよび集光サブシステムの異なる構成によって生成される、請求項1に記載のシステム。
- 第1の特性を特定するのに用いる出力とウェーハ上の欠陥の検出に用いる出力は、検査サブシステムの、照明サブシステムおよび集光サブシステムの同一構成により生成される、請求項1に記載のシステム。
- 前記コンピュータサブシステムは、第1の特性と欠陥との組み合わせに基づきウェーハを分類する処理をさらに行うように構成されている、請求項1に記載のシステム。
- ウェーハを分類するように構成されたシステムであって、
前記ウェーハからの散乱光に応じて出力を生成するように構成された検査サブシステムと、
コンピュータサブシステムであって、
前記出力を用いてウェーハの第1の特性を特定する処理であり、第1の特性が空間的に2次元では局在していない処理と、
出力を用いてウェーハの第2の特性を特定する処理であり、第2の特性が空間的に少なくとも1次元で局在している処理と、
第1の特性と第2の特性の組み合わせに基づきウェーハを分類する処理と、を行うように構成されたコンピュータサブシステムと、含み、
第2の特性はウェーハ上の欠陥を含んでおり、
前記コンピュータサブシステムはさらに第1の特性に基づき1以上の欠陥検出パラメータを特定する処理行うように構成されており、
第2の特性を特定する処理は、1以上の検出パラメータと出力とを用いてウェーハ上の欠陥を検出する処理を含む、システム。 - 第1の特性は、2次元における第1の特性が延在する位置の横方向規模が、前記検査サブシステムの点像分布関数であって、前記検査サブシステムが含む光学系の分解能を示す点像分布関数により定まる規模を上回るが故に空間的に2次元では局在していない、請求項15に記載のシステム。
- 第1の特性は、表面粗さ、ウェーハ全体の表面粗さのばらつき、フィルム厚、フィルム組成、フィルム残滓、1以上のパターン寸法、表面組成、形態、またはウェーハ内の形態の変化を含む、請求項15に記載のシステム。
- 前記分類する処理は、出力を用いて欠陥が検出された後に実行される、請求項15に記載のシステム。
- 第1の特性と第2の特性の組み合わせは、前記分類する処理が、第1の特性と第2の特性に等しく基づくよう第1の特性と第2の特性を等しく扱うことで生成される、請求項15に記載のシステム。
- 前記分類する処理は、ウェーハに対し施す1以上の処置を特定するステップを含む、請求項15に記載のシステム。
- 前記分類する処理は、ウェーハの全体的属性を特定するステップを含む、請求項15に記載のシステム。
- 前記分類する処理は、ウェーハの少なくとも一部の作成に用いる工程の属性を特定するステップを含む、請求項15に記載のシステム。
- 前記分類する処理は、ウェーハ上の1以上の空間位置における、第1の特性の存否と、1以上の空間位置における、第2の特性の存否との組み合わせに基づいて、ウェーハを分類する処理を含む、請求項15に記載のシステム。
- 前記分類する処理は、ウェーハ上の1以上の空間位置における第1の特性値と、1以上の空間位置における第2の特性値との組み合わせに基づいて、ウェーハを分類する処理を含む、請求項15に記載のシステム。
- 前記分類する処理は、ウェーハ上の所定位置の第1の特性と、ウェーハ上の同じ位置の第2の特性との組み合わせに基づき、ウェーハの所定位置について単一の特性を特定し、この単一の特性に基づきウェーハを分類するステップを含む、請求項15に記載のシステム。
- 前記分類する処理は、第1と第2の特性の一方がウェーハの所定領域に存在するかどうか判定し、第1と第2の特性の一方がその所定領域に存在する場合に、存在する第1または第2の特性だけに基づきウェーハを分類するステップを含む、請求項15に記載のシステム。
- ウェーハを分類する処理は、ウェーハの所定領域において第1と第2の特性値を特定し、ウェーハの所定領域における第1と第2の特性値に基づき、第1と第2の特性のみに基づいてウェーハを分類するステップを含む、請求項15に記載のシステム。
- 前記分類する処理は、第1の特性と第2の特性の両方がウェーハの所定領域に存在する場合と、第1の特性と第2の特性がウェーハの異なる領域に存在し、ウェーハの所定領域に両方が存在しない場合とを異ならしめて分類するステップを含む、請求項15に記載のシステム。
- 前記分類に用いる第1の特性は、ウェーハ規模について特定され、前記分類する処理に用いる第2の特性はウェーハ規模について特定される第2の特性の属性を含む、請求項15に記載のシステム。
- 第1と第2の特性の組み合わせは、第1と第2の特性の重ね合わせ処理を含む、請求項15に記載のシステム。
- 第1と第2の特性の組み合わせは、第1と第2の特性の領域に基づく重ね合わせを含む、請求項15に記載のシステム。
- 第1と第2の特性の組み合わせは、第1と第2の特性の空間的な組み合わせを含む、請求項15に記載のシステム。
- 第1と第2の特性の組み合わせは、第1と第2の特性の統計的な組み合わせを含む、請求項15に記載のシステム。
- 前記コンピュータサブシステムは、出力を用いてウェーハの追加の特性を特定する処理をさらに行うように構成されており、前記分類する処理は全ての追加の特性と第1と第2の特性の組み合わせとに基づきウェーハを分類するステップを含む、請求項15に記載のシステム。
- 前記コンピュータサブシステムは、出力を用いてウェーハの追加の特性を特定する処理をさらに行うように構成されており、前記分類する処理は追加の特性および第1と第2の特性の組み合わせの一部のみに基づきウェーハを分類するステップを含む、請求項15に記載のシステム。
- 前記コンピュータサブシステムはさらに欠陥の領域内の第1の特性に基づき欠陥を分類する処理を行うように構成されている、請求項15に記載のシステム。
- 第2の特性は、さらに、ウェーハ上の前記欠陥の1以上の属性を含んでおり、前記コンピュータサブシステムはさらに、欠陥の1以上の属性のうちの少なくとも1つと組み合わせて欠陥の領域における第1の特性に基づき欠陥を分類する処理を行うように構成されている、請求項15に記載のシステム。
- 前記コンピュータサブシステムは、第1の特性の領域における第2の特性に基づき、第1の特性の1以上の属性を特定する処理をさらに行うように構成されている、請求項15に記載のシステム。
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