JP6104888B2 - Eo触媒の選択率を改善する方法 - Google Patents
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Description
改善された手法は:
a.スタートアップに続く始動期間の間、所望の処理量を達成するように、前記担持された高選択性触媒を含有する触媒床を、ある濃度のエチレン(E1)、ある濃度の酸素(O1)、2.0容量%未満のある濃度の二酸化炭素(C1)、及びある濃度の塩化物モデレーター(M1)を含むフィードガスと接触させ、これにより第1の触媒運転温度T1を得ること;
b.エチレン濃度をE1より低い新規の制約レベルE2に減少させる;及び/又は酸素濃度をO1より低い新規の制約レベルO2に減少させる、及び/又は二酸化炭素の濃度をC1より高い新規の制約濃度C2に増加させることによりフィード組成を調整し、並びに/あるいは塩化物モデレーターの濃度をより高い濃度もしくはより低い濃度に調整して、前記始動期間の間の特定の所望される処理量において運転しながら、特定の高選択率触媒について触媒の運転温度を、T1よりも高い温度T2に引き上げること;及び
c.触媒活性が自然に低下するのに合わせて、所望の処理量及び運転温度T2を維持するように、エチレン濃度を増加させる、及び/又は酸素濃度を増加させる、及び/又は二酸化炭素濃度を減少させることによりフィード組成を徐々に調整し、並びに/あるいはモデレーター組成を調整すること
からなる。
本発明の知見より前においては、エチレンのエポキシ化を行う者は、モデレーターの濃度が最大の選択率を新しいより高い温度T2において達成するように再調整された後においても、この不可避な触媒温度の上昇、選択率のやはりやむを得ない減少を見ることになったはずである。出願人らはこれらの見方に反して、プラントを前記の条件及び最近のエチレンオキシドプラントにおいて早い段階で実用化された比較的低い触媒温度で運転した場合、得ることができる最大の選択率が必ずしも運転温度を最低限にすることにより達成されるものでないことを見出した。むしろ、目標の処理量、選択率を新しい温度T2において達成するために触媒温度を高めさせる「悪い」方向にあった1つ以上の上記フィード組成を操作することにより、新規のより高い温度T2における選択率は、多くの場合目に見えて初期のより低い温度T1で得られていた最大選択率を超えるのである。
最良の達成可能な選択率を維持しながら目標の処理量を維持するために採られる通常の方法は、次第に触媒床温度を上げていき、徐々に塩化物モデレーター濃度を増加方向に調整することである。本発明によれば、代わりに幾らかの延長された期間、好ましくは概ね同じ触媒温度T2に維持され、並びに固有の触媒活性の劣化を、徐々に1つ以上のフィード組成を、活性を強化する方向に変化させることにより補償する、即ち、エチレンを、最初の濃度から所望される最高濃度まで徐々に増加させる、及び/又は酸素を燃焼性の考慮が許す限り最初の濃度から所望される最高の濃度まで徐々に増加させる、及び/又は二酸化炭素を最初の濃度から、最終的にプラントが所望する最低濃度まで徐々に減少させる。
これらの変化の間、進行中の条件において最大限達成可能な選択率を維持するために塩化物モデレーターにおいて若干の調整も実施される。ある時点で、すべてのフィード組成は触媒温度T2における所望の濃度まで調整されることになる。その時点から先、目標の処理量を維持するために、温度は次第にあげられ、モデレーターは次第に古典的な様式で調整される。
NorPro.製のDenstone(登録商標) 57及びDenstone(登録商標) 2000支持体である。Denstone 57はクレイ及び曹長石(soda feldspar)(7%未満の酸化ナトリウムを含む)を95:5の重量比で含む。これら支持体は共に90から96重量%の間のAl2O3+SiO2を含む。
rd edition,volume 9,1980,pp.445−447参照)。空気ベースプロセスにおいては、空気もしくは酸素富化空気を酸化剤源として使用し、一方酸素ベースプロセスでは、高純度(少なくとも95モル%)極高純度(少なくとも99.5モル%)の酸素が酸化剤源として使用される。酸素ベースのプロセスについては、参照により組込まれる米国特許第6,040,467号を参照することができる。現在、殆どのエポキシ化プラントは酸素ベースであり、本発明の好ましい実施形態である。
309−316に記載されるとおりのBET(Brunauer、Emmett及びTeller)法により測定される表面積に関連すると理解される。高表面積の担体は、特に場合によりシリカに加えてアルカリ金属及び/又はアルカリ土類金属成分を含むアルファアルミナ担体である場合、改善された性能及び運転の安定性を示す。
g、より好ましくは0.3から0.65g/g、最も好ましくは0.42から0.52g/gの範囲である。より高い水分吸収が、浸漬による担体上への金属および促進剤の効率的な堆積の観点からは好ましい。しかし、水分吸収が高ければ、担体、もしくはこれにより作製される触媒は、破壊強度が低くなる。本明細書に使用される場合、水分吸収はASTM C20に従って測定されたものとみなされ、水分吸収は、担体の重量に対して、担体の空孔中に吸収され得る水の重量として表される。
さらに、焼却材料を含む、担体を形成するために使用される材料は洗浄されて可溶性の残留物が除去される。当該担体は、参照により本明細書に組込まれる米国特許第6,368,998号及びWO−A2−2007/095453に記載されている。一方、洗浄しない担体も使用することが可能である。担体の洗浄は一般的に担体から可溶性及び/又はイオン性物質のほとんどが効果的に除去される条件で行われる。
実施例1は高選択率EO触媒(触媒A)の選択率に対する温度の影響を、実験室マイクロリアクターにおいて比較することにより例示する。触媒Aは、α−アルミナ支持体上に約13重量%の銀含有量を有する高選択率触媒である。ドーパントはRe、W、Li及びCsを含む。
実施例2は異なる高選択率EO触媒(触媒B)の選択率に対する温度の影響を示す。触媒Bはαアルミナ支持体上に約17.5重量%の銀含有量を有する高選択率触媒である。
ドーパントはRe、W、Li、及びCsを含む。前記触媒を、30.9容量%のエチレン、7.3容量%の酸素、1.6容量%の二酸化炭素、少量のエチルクロリドモデレーター、及び窒素バラストを含有するフィード混合物について、毎分33から539標準立方センチメータの間の流量で操作した。入口圧力は18.1バール(ゲージ)に維持した。各流量において、ΔEOで2.48%の目標生産量で最大の、即ち「最適化された」選択率が得られるように塩化物モデレーターを調整した。幾つかの流量を繰り返し、すべての選択率最適化データを図2に示す。
Claims (16)
- エチレンのエポキシ化に使用される担持された高選択性銀含有触媒の選択率を改善するための方法であって、
(a)スタートアップに続く始動期間の間、所望の処理量を達成するように、前記担持された高選択性銀含有触媒を含む触媒床を、ある濃度のエチレン(E1)、ある濃度の酸素(O1)、2.0容量%未満のある濃度の二酸化炭素(C1)及びある濃度の塩化物モデレーター(M1)を含むフィードガスと接触させるステップであって、240℃未満の第1の触媒運転温度T1が得られるものであるステップ;
(b)エチレン濃度E1を、より低い新たな制約濃度E2に低下させること;及び/又は酸素濃度O1を、より低い新たな制約濃度O2に低下させること、及び/又は二酸化炭素濃度C1を、より高い新たな制約濃度C2に増加させることにより、フィード組成を調整し、並びに/あるいは塩化物モデレーターの濃度をより高い濃度もしくはより低い濃度に調整して、前記始動期間の間、特定の所望の処理量における運転しながら、特定の高選択率銀含有触媒に関する触媒の運転温度を、より高い触媒運転温度T2に引き上げるステップであって、T2はT1より5から30℃高いステップであり;及び
(c)触媒活性が自然に低下するのに合わせて、所望の処理量及び運転温度T2を維持するように、エチレン濃度を増加させ、及び/又は酸素濃度を増加させ、及び/又は二酸化炭素濃度を低下させてフィード組成を徐々に調整し、並びに/あるいはモデレーター組成を調整するステップ
を含む、方法。 - 担持された高選択性銀含有触媒が、α−アルミナ担体上に銀及びレニウム促進剤を含む、請求項1の方法。
- 担持された高選択性銀含有触媒は、さらに第1の共促進剤及び第2の共促進剤を含み、
担体上に堆積されたレニウム促進剤の量が、触媒の重量に対して1ミリモル/kgより多く、
第1の共促進剤が、硫黄、リン、ホウ素、及びこれらの混合物から選択され、
第2の共促進剤が、タングステン、モリブデン、クロム及びこれらの混合物から選択される、
請求項2の方法。 - 担持された高選択性銀含有触媒が、さらに、窒素、フッ素、アルカリ金属、アルカリ土類金属、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、バナジウム、タリウム、トリウム、タンタル、ニオブ、ガリウム及びゲルマニウム並びにこれらの混合物からなる群から選択される別の元素を含む、請求項3の方法。
- 担持された高選択性銀含有触媒の銀含有量が、150から500g・銀/kg・触媒である、請求項2の方法。
- 触媒が、セシウム共促進剤、リチウム共促進剤及びタングステン共促進剤も含む、請求項5の方法。
- 塩化物モデレーターが、エチルクロリド、ビニルクロリド、エチレンジクロリド及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項1の方法。
- T2が、240から255℃である、請求項7の方法。
- T2が、240から250℃である、請求項7の方法。
- ステップ(c)に続いて、フィード組成が非制約運転のための所望の濃度に達した時点で、運転温度が徐々にT2を超えるレベルに上昇される、請求項2の方法。
- ステップ(c)に続いて、フィード組成がステップ(a)とおよそ同じ濃度に戻った時点で、運転温度が徐々にT2を超えるレベルに上昇される、請求項2の方法。
- T2のレベルが、最適な暫定的運転温度を確立するための実験によって決定される、請求項2の方法。
- i)請求項1に記載の方法によりエチレンオキシドを調製し、
ii)エチレンオキシドを1,2−ジオール、1,2−ジオールエーテル、1,2−カルボナート、もしくはアルカノールアミンに転化することを含む、1,2−ジオール、1,2−ジオールエーテル、1,2−カルボナート、もしくはアルカノールアミンの調製方法。 - 炭酸化触媒の存在下に、エチレンオキシドを二酸化炭素と反応させて、エチレンカルボナートを含有する反応溶液を形成させる、請求項13の方法。
- 反応溶液中のエチレンカルボナートを加水分解することによって、エチレンカルボナートを含有する反応溶液をエチレングリコール水溶液に転化する、請求項14の方法。
- エチレングリコール水溶液を蒸留して、精製されたエチレングリコール溶液を形成する、請求項15の方法。
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