JP6064895B2 - 酸化インジウム系酸化物焼結体およびその製造方法 - Google Patents

酸化インジウム系酸化物焼結体およびその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6064895B2
JP6064895B2 JP2013272402A JP2013272402A JP6064895B2 JP 6064895 B2 JP6064895 B2 JP 6064895B2 JP 2013272402 A JP2013272402 A JP 2013272402A JP 2013272402 A JP2013272402 A JP 2013272402A JP 6064895 B2 JP6064895 B2 JP 6064895B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
oxide
sintered body
powder
atoms
ratio
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2013272402A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2015124145A (ja
JP2015124145A5 (enExample
Inventor
梓 大城
梓 大城
卓矢 下山田
卓矢 下山田
正和 ▲桑▼原
正和 ▲桑▼原
佐藤　啓一
啓一 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Mining Co Ltd filed Critical Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority to JP2013272402A priority Critical patent/JP6064895B2/ja
Publication of JP2015124145A publication Critical patent/JP2015124145A/ja
Publication of JP2015124145A5 publication Critical patent/JP2015124145A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6064895B2 publication Critical patent/JP6064895B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
JP2013272402A 2013-12-27 2013-12-27 酸化インジウム系酸化物焼結体およびその製造方法 Expired - Fee Related JP6064895B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013272402A JP6064895B2 (ja) 2013-12-27 2013-12-27 酸化インジウム系酸化物焼結体およびその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013272402A JP6064895B2 (ja) 2013-12-27 2013-12-27 酸化インジウム系酸化物焼結体およびその製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2015124145A JP2015124145A (ja) 2015-07-06
JP2015124145A5 JP2015124145A5 (enExample) 2016-01-21
JP6064895B2 true JP6064895B2 (ja) 2017-01-25

Family

ID=53535117

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013272402A Expired - Fee Related JP6064895B2 (ja) 2013-12-27 2013-12-27 酸化インジウム系酸化物焼結体およびその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6064895B2 (enExample)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5983903B2 (ja) * 2014-08-01 2016-09-06 住友金属鉱山株式会社 酸化インジウム系酸化物焼結体とその製造方法
US11251310B2 (en) * 2017-02-22 2022-02-15 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Oxide semiconductor film, electronic device comprising thin film transistor, oxide sintered body and sputtering target
CN114180938A (zh) * 2021-12-15 2022-03-15 先导薄膜材料（广东）有限公司 一种氧化铟铈钛钽粉体及其制备方法
CN116813310B (zh) * 2023-06-01 2024-06-07 先导薄膜材料（广东）有限公司 一种稀土元素掺杂氧化铟锡镓靶材及其制备方法
CN117185781B (zh) * 2023-09-11 2025-10-17 先导薄膜材料（广东）有限公司 一种氧化铟镓铝粉体、靶材及粉体、靶材的制备方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008072486A1 (ja) * 2006-12-13 2008-06-19 Idemitsu Kosan Co., Ltd. スパッタリングターゲット及び酸化物半導体膜
JP5023745B2 (ja) * 2007-03-12 2012-09-12 住友金属鉱山株式会社 透明導電膜、この透明導電膜を用いた透明導電性基板、透明導電性フィルム、並びに近赤外線遮断フィルター、および、この透明導電膜の製造方法
KR101646488B1 (ko) * 2007-07-06 2016-08-08 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 산화물 소결물체와 그 제조 방법, 타겟, 및 그것을 이용해 얻어지는 투명 도전막 및 투명 도전성 기재
KR20140041675A (ko) * 2011-07-06 2014-04-04 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 스퍼터링 타겟

Also Published As

Publication number Publication date
JP2015124145A (ja) 2015-07-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6015801B2 (ja) 酸化物焼結体とその製造方法、ターゲット、および透明導電膜
JP5003600B2 (ja) 酸化物焼結体、ターゲット、およびそれを用いて得られる透明導電膜、導電性積層体
JP5339100B2 (ja) Ｚｎ−Ｓｉ−Ｏ系酸化物焼結体とその製造方法およびスパッタリングターゲットと蒸着用タブレット
JPWO2007142330A1 (ja) 透明導電膜およびその製造方法、ならびにその製造に使用されるスパッタリングターゲット
US20100003495A1 (en) Transparent conductive film and method for manufacturing the transparent conductive film, and sputtering target used in the method
KR101738742B1 (ko) 산화물 소결체, 스퍼터링 타깃 및 박막 그리고 산화물 소결체의 제조 방법
JP2007277075A (ja) 酸化物焼結体、その製造方法、それを用いた透明導電膜の製造方法、及び得られる透明導電膜
JPWO2009008297A1 (ja) 酸化物焼結体とその製造方法、ターゲット、及びそれを用いて得られる透明導電膜ならびに透明導電性基材
JP2011006725A (ja) 酸化インジウム系スパッタリングターゲットおよびその製造方法
WO2011115177A1 (ja) 透明導電膜
JP6064895B2 (ja) 酸化インジウム系酸化物焼結体およびその製造方法
CN107207356B (zh) 氧化物烧结体、氧化物溅射靶和氧化物薄膜
TWI592383B (zh) 氧化銦系氧化物燒結體及其製造方法
JPWO2014021374A1 (ja) 酸化物焼結体およびそれを加工したタブレット
JP4859726B2 (ja) ＳｎＯ２系スパッタリングターゲットおよびスパッタ膜
JP2016098396A (ja) スパッタリングターゲット、透明導電性酸化物薄膜、及び導電性フィルム
JP2007302508A (ja) 酸化物焼結体、ターゲット、およびそれを用いて得られる透明導電膜
CN107254669A (zh) 烧结体和非晶膜
JP6398643B2 (ja) スパッタリングターゲット、透明導電性酸化物薄膜、及び導電性フィルム
JP5878045B2 (ja) 酸化亜鉛系焼結体およびその製造方法
TW201522689A (zh) 濺鍍靶及其製造方法
JP2015003846A (ja) 酸化物焼結体及びその製造方法、並びに酸化物膜
JP2012148937A (ja) 導電性複合酸化物、酸化亜鉛系焼結体、その製造方法およびターゲット
JP6327121B2 (ja) スパッタリングターゲット、透明導電性酸化物薄膜、及び導電性フィルム
WO2013042747A1 (ja) 酸化物焼結体およびその製造方法並びに酸化物透明導電膜

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20151127

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20151127

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20160923

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20161004

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20161012

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20161122

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20161205

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6064895

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees