JP2015124145A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2015124145A5
JP2015124145A5 JP2013272402A JP2013272402A JP2015124145A5 JP 2015124145 A5 JP2015124145 A5 JP 2015124145A5 JP 2013272402 A JP2013272402 A JP 2013272402A JP 2013272402 A JP2013272402 A JP 2013272402A JP 2015124145 A5 JP2015124145 A5 JP 2015124145A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
oxide
atoms
ratio
powder
indium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013272402A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2015124145A (ja
JP6064895B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2013272402A priority Critical patent/JP6064895B2/ja
Priority claimed from JP2013272402A external-priority patent/JP6064895B2/ja
Publication of JP2015124145A publication Critical patent/JP2015124145A/ja
Publication of JP2015124145A5 publication Critical patent/JP2015124145A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6064895B2 publication Critical patent/JP6064895B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2013272402A 2013-12-27 2013-12-27 酸化インジウム系酸化物焼結体およびその製造方法 Expired - Fee Related JP6064895B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013272402A JP6064895B2 (ja) 2013-12-27 2013-12-27 酸化インジウム系酸化物焼結体およびその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013272402A JP6064895B2 (ja) 2013-12-27 2013-12-27 酸化インジウム系酸化物焼結体およびその製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2015124145A JP2015124145A (ja) 2015-07-06
JP2015124145A5 true JP2015124145A5 (enExample) 2016-01-21
JP6064895B2 JP6064895B2 (ja) 2017-01-25

Family

ID=53535117

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013272402A Expired - Fee Related JP6064895B2 (ja) 2013-12-27 2013-12-27 酸化インジウム系酸化物焼結体およびその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6064895B2 (enExample)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016017546A1 (ja) * 2014-08-01 2016-02-04 住友金属鉱山株式会社 酸化インジウム系酸化物焼結体とその製造方法
WO2018155301A1 (ja) * 2017-02-22 2018-08-30 出光興産株式会社 酸化物半導体膜、薄膜トランジスタ、酸化物焼結体及びスパッタリングターゲット
CN114180938A (zh) * 2021-12-15 2022-03-15 先导薄膜材料（广东）有限公司 一种氧化铟铈钛钽粉体及其制备方法
CN116813310B (zh) * 2023-06-01 2024-06-07 先导薄膜材料（广东）有限公司 一种稀土元素掺杂氧化铟锡镓靶材及其制备方法
CN117185781B (zh) * 2023-09-11 2025-10-17 先导薄膜材料（广东）有限公司 一种氧化铟镓铝粉体、靶材及粉体、靶材的制备方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2096188B1 (en) * 2006-12-13 2014-01-29 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Sputtering target
JP5023745B2 (ja) * 2007-03-12 2012-09-12 住友金属鉱山株式会社 透明導電膜、この透明導電膜を用いた透明導電性基板、透明導電性フィルム、並びに近赤外線遮断フィルター、および、この透明導電膜の製造方法
CN103030381B (zh) * 2007-07-06 2015-05-27 住友金属矿山株式会社 氧化物烧结体及其制造方法、靶、使用该靶得到的透明导电膜以及透明导电性基材
US9039944B2 (en) * 2011-07-06 2015-05-26 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Sputtering target

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2015124145A5 (enExample)
JP2010037161A5 (enExample)
JP2014012630A5 (enExample)
JP2012043622A5 (enExample)
Rada et al. The network modifier and former role of the bismuth ions in the bismuth–lead-germanate glasses
JP2016056065A (ja) 酸化物焼結体、スパッタリングターゲット及び薄膜並びに酸化物焼結体の製造方法
JP2018190490A5 (enExample)
JP2005307269A (ja) 酸化インジウム−酸化亜鉛−酸化マグネシウム系スパッタリングターゲット及び透明導電膜
CN105821377B (zh) 氧化物烧结体、溅射靶以及氧化物薄膜
MY167671A (en) Fe-pt-ag-c-based sputtering target having c grains dispersed therein, and method for producing same
JP2013136835A5 (ja) スパッタリングターゲットの作製方法
JP2014224026A5 (enExample)
CN105622086A (zh) 制备高梯度氧化锌压敏电阻陶瓷的方法
JP2014224025A5 (enExample)
MX2015016977A (es) Composicion que contiene uno o varios compuestos calcico-magnesicos en forma de compactos.
JP2016510363A5 (enExample)
JP2014109071A (ja) スパッタリングターゲット
CN103360053B (zh) 热敏陶瓷材料和其制得的恒温加热用热敏电阻及制造方法
JP2017095790A5 (enExample)
JP2016074579A (ja) 酸化物焼結体、酸化物スパッタリングターゲット及び導電性酸化物薄膜並びに酸化物焼結体の製造方法
JP2015030778A5 (enExample)
JP2019522101A5 (enExample)
TWI549924B (zh) Sintered and amorphous membranes
JPWO2018211792A1 (ja) 透明導電膜用スパッタリングターゲット
CN104736497B (zh) 氧化物烧结体、氧化物溅射靶和高折射率的导电性氧化物薄膜、以及氧化物烧结体的制造方法