JP6025384B2 - 配線回路基板およびその製造方法 - Google Patents
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Description
この配線回路基板においては、支持基板上に形成された絶縁層上に配線パターンが形成される。絶縁層上で配線パターンの一部に、外部回路と電気的に接続可能な接続端子が形成される。接続端子に重なりかつ接続端子と同じ平面形状を有する重複領域を部分的または全体的に取り囲むように支持基板に開口部が形成される。それにより、開口部内で絶縁層の一部が露出する。
この場合、接続端子と重なる絶縁層は除去されずに残存するので、絶縁層により接続端子の温度が保たれる。また、支持基板の重複領域を部分的または全体的に取り囲むように開口部が形成されるので、接続端子と重なる絶縁層の部分から支持基板の全体に拡がる熱の量が低減される。それにより、接続端子の熱が支持基板を介して放散されることが抑制される。したがって、接続端子と外部回路とを電気的に接続するために溶融した接合材料が接続端子に付与された場合に、温度低下により接合材料が接続端子の接続面の全体に拡がる前に凝固することが防止される。その結果、接続端子の接続の信頼性を向上させることができる。
また、開口部は重複領域の全体の領域までに広がるように形成されるので、接続端子と重なる絶縁層の部分の熱が支持基板の重複領域に伝達されることが防止される。それにより、支持基板の重複領域から外部に放散される熱の量が低減されるとともに、支持基板の重複領域から重複領域の周囲に熱が拡がることが防止される。その結果、接続端子をさらに十分に保温することができる。
この配線回路基板においては、支持基板上に形成された絶縁層上に配線パターンが形成される。絶縁層上で配線パターンの一部に、外部回路と電気的に接続可能な接続端子が形成される。接続端子に重なりかつ接続端子と同じ平面形状を有する重複領域を全体的に取り囲むように支持基板に開口部が形成される。それにより、開口部内で絶縁層の一部が露出する。
この場合、接続端子と重なる絶縁層は除去されずに残存するので、絶縁層により接続端子の温度が保たれる。また、支持基板の重複領域を全体的に取り囲むように開口部が形成されるので、接続端子と重なる絶縁層の部分から支持基板の全体に拡がる熱の量が低減される。それにより、接続端子の熱が支持基板を介して放散されることが抑制される。したがって、接続端子と外部回路とを電気的に接続するために溶融した接合材料が接続端子に付与された場合に、温度低下により接合材料が接続端子の接続面の全体に拡がる前に凝固することが防止される。その結果、接続端子の接続の信頼性を向上させることができる。
また、重複領域の外周部と開口部の内周部と間の距離は50μm以下であるので、接続端子と重なる絶縁層の部分から支持基板の全体に拡がる熱の量が十分に低減される。その結果、接続端子を十分に保温することができる。
また、開口部は、重複領域の外周部より外側に位置する外周部を有し、開口部の外周部と重複領域の外周部との間の距離は5μm以上である。この場合、重複領域の外周部から5μm以上の位置に開口部の外周部が位置するように開口部が形成される。これにより、接続端子と重なる絶縁層の部分から支持基板の重複領域の周囲に拡がる熱の量が十分に低減される。その結果、接続端子を十分に保温することができる。
さらに、開口部は、重複領域の外周部より内側に位置する内周部を有し、開口部の内周部と開口部の外周部との間の幅は25μm以上である。この場合、接続端子と重なる絶縁層の部分の熱が支持基板の重複領域の少なくとも外周部の領域に伝達されることが防止される。それにより、支持基板の重複領域から外部に放散される熱の量が低減されるとともに、支持基板の重複領域から重複領域の周囲に拡がる熱の量が十分に低減される。その結果、接続端子を十分に保温することができる。
(12)第5の発明に係る配線回路基板の製造方法は、外部回路と電気的に接続可能な配線回路基板の製造方法であって、導電性材料により形成される支持基板上に形成された絶縁層を用意するステップと、絶縁層上に外部回路と電気的に接続可能な接続端子を有する配線パターンを形成するステップと、支持基板に開口部を形成するステップとを備え、支持基板は、接続端子に重なりかつ接続端子と同じ平面形状を有する重複領域を有し、開口部は、重複領域を部分的または全体的に取り囲むように支持基板に形成され、開口部内で絶縁層の一部が露出し、開口部は、重複領域の外周部より外側に位置する外周部を有し、開口部の外周部と重複領域の外周部との間の距離は5μm以上であり、開口部は、重複領域の全体の領域までに広がるように形成されたものである。
この配線回路基板の製造方法においては、支持基板上に形成された絶縁層上に配線パターンが形成される。絶縁層上で配線パターンの一部に、外部回路と電気的に接続可能な接続端子が形成される。接続端子に重なりかつ接続端子と同じ平面形状を有する重複領域を部分的または全体的に取り囲むように支持基板に開口部が形成される。それにより、開口部内で絶縁層の一部が露出する。
この場合、接続端子と重なる絶縁層は除去されずに残存するので、絶縁層により接続端子の温度が保たれる。また、支持基板の重複領域を部分的または全体的に取り囲むように開口部が形成されるので、接続端子と重なる絶縁層の部分から支持基板の全体に拡がる熱の量が低減される。それにより、接続端子の熱が支持基板を介して放散されることが抑制される。したがって、接続端子と外部回路とを電気的に接続するために溶融した接合材料が接続端子に付与された場合に、温度低下により接合材料が接続端子の接続面の全体に拡がる前に凝固することが防止される。その結果、接続端子の接続の信頼性を向上させることができる。
また、開口部は重複領域の全体の領域までに広がるように形成されるので、接続端子と重なる絶縁層の部分の熱が支持基板の重複領域に伝達されることが防止される。それにより、支持基板の重複領域から外部に放散される熱の量が低減されるとともに、支持基板の重複領域から重複領域の周囲に熱が拡がることが防止される。その結果、接続端子をさらに十分に保温することができる。
(13)第6の発明に係る配線回路基板の製造方法は、外部回路と電気的に接続可能な配線回路基板の製造方法であって、導電性材料により形成される支持基板上に形成された絶縁層を用意するステップと、絶縁層上に外部回路と電気的に接続可能な接続端子を有する配線パターンを形成するステップと、支持基板に開口部を形成するステップとを備え、支持基板は、接続端子に重なりかつ接続端子と同じ平面形状を有する重複領域を有し、開口部は、重複領域を全体的に取り囲むように支持基板に形成され、開口部内で絶縁層の一部が露出し、開口部は、重複領域の外周部と一致しまたは重複領域の外周部より外側に位置する内周部を有し、重複領域の外周部と開口部の内周部と間の距離は50μm以下であるものである。
この配線回路基板の製造方法においては、支持基板上に形成された絶縁層上に配線パターンが形成される。絶縁層上で配線パターンの一部に、外部回路と電気的に接続可能な接続端子が形成される。接続端子に重なりかつ接続端子と同じ平面形状を有する重複領域を全体的に取り囲むように支持基板に開口部が形成される。それにより、開口部内で絶縁層の一部が露出する。
この場合、接続端子と重なる絶縁層は除去されずに残存するので、絶縁層により接続端子の温度が保たれる。また、支持基板の重複領域を全体的に取り囲むように開口部が形成されるので、接続端子と重なる絶縁層の部分から支持基板の全体に拡がる熱の量が低減される。それにより、接続端子の熱が支持基板を介して放散されることが抑制される。したがって、接続端子と外部回路とを電気的に接続するために溶融した接合材料が接続端子に付与された場合に、温度低下により接合材料が接続端子の接続面の全体に拡がる前に凝固することが防止される。その結果、接続端子の接続の信頼性を向上させることができる。
また、重複領域の外周部と開口部の内周部と間の距離は50μm以下であるので、接続端子と重なる絶縁層の部分から支持基板の全体に拡がる熱の量が十分に低減される。その結果、接続端子を十分に保温することができる。
以下、第1の実施の形態に係る配線回路基板およびその製造方法について図面を参照しながら説明する。第1の実施の形態に係る配線回路基板として、ハードディスクドライブ装置のアクチュエータに用いられる回路付サスペンション基板(以下、サスペンション基板と略記する)について説明する。
図1は、第1の実施の形態に係るサスペンション基板の上面図である。図1に示すように、サスペンション基板1は、金属製の長尺状の支持基板により形成されるサスペンション本体部100を備える。サスペンション本体部100上には、太い点線で示すように、書込用配線パターンW1,W2および読取用配線パターンR1,R2が形成されている。書込用配線パターンW1と書込用配線パターンW2とは、信号線路対を構成する。また、読取用配線パターンR1と読取用配線パターンR2とは、信号線路対を構成する。
図1のサスペンション基板1の製造方法について説明する。図5および図6は、図1のサスペンション基板1の製造工程を示す模式図である。図5(a)〜(c)においては、左に図1のサスペンション基板1のB−B線断面図を示し、右に図1のサスペンション基板1のタング部12およびその周辺の上面図を示す。図6(a)〜(d)においては、左に図1のサスペンション基板1のB−B線断面図を示し、右に図1のサスペンション基板1のタング部12およびその周辺の下面図を示す。図5の上面図および図6の下面図には、構成の理解を容易にするために、断面図の各部材に付されたハッチングまたはドットパターンと同一のハッチングまたはドットパターンが付されている。
図7は、第1の実施の形態に係るサスペンション基板1の接続端子21〜24およびその周辺を示す拡大下面図である。図7のサスペンション基板1には、構成の理解を容易にするために、図5および図6の断面図の各部材に付されたハッチングまたはドットパターンと同一のハッチングまたはドットパターンが付されている。
図8は、第2の実施の形態に係るサスペンション基板1の接続端子21〜24およびその周辺を示す拡大下面図である。図8のサスペンション基板1には、構成の理解を容易にするために、図5および図6の断面図の各部材に付されたハッチングまたはドットパターンと同一のハッチングまたはドットパターンが付されている。本実施の形態に係るサスペンション基板1について、第1の実施の形態に係るサスペンション基板1と異なる点を説明する。
図9は、第3の実施の形態に係るサスペンション基板1の接続端子21〜24およびその周辺を示す拡大下面図である。図9のサスペンション基板1には、構成の理解を容易にするために、図5および図6の断面図の各部材に付されたハッチングまたはドットパターンと同一のハッチングまたはドットパターンが付されている。本実施の形態に係るサスペンション基板1について、第2の実施の形態に係るサスペンション基板1と異なる点を説明する。
図10は、第4の実施の形態に係るサスペンション基板1の接続端子21〜24およびその周辺を示す拡大下面図である。図10(a),(b)のサスペンション基板1には、構成の理解を容易にするために、図5および図6の断面図の各部材に付されたハッチングまたはドットパターンと同一のハッチングまたはドットパターンが付されている。本実施の形態に係るサスペンション基板1について、第3の実施の形態に係るサスペンション基板1と異なる点を説明する。
(1)上記実施の形態において、接続端子21〜24,31〜34は矩形状を有するが、これに限定されない。接続端子21〜24,31〜34は例えば円形状、楕円形状、三角形状または他の多角形状であってもよい。
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
以下の実施例1〜10および比較例1,2のサスペンション基板1について、接続端子21〜24を1700℃に加熱した後、一定の温度(本例においては280℃)に低下するまでの時間(以下、保温時間と呼ぶ)をシミュレーションにより評価した。
[8]参考形態
(1)第1の参考形態に係る配線回路基板は、外部回路と電気的に接続可能な配線回路基板であって、導電性材料により形成される支持基板と、支持基板上に形成される絶縁層と、絶縁層上に形成される配線パターンと、絶縁層上で配線パターンの一部に形成され、外部回路と電気的に接続可能な接続端子とを備え、支持基板は、接続端子に重なりかつ接続端子と同じ平面形状を有する重複領域を有し、支持基板の重複領域を部分的または全体的に取り囲むように支持基板に開口部が形成され、開口部内で絶縁層の一部が露出するものである。
この配線回路基板においては、支持基板上に形成された絶縁層上に配線パターンが形成される。絶縁層上で配線パターンの一部に、外部回路と電気的に接続可能な接続端子が形成される。接続端子に重なりかつ接続端子と同じ平面形状を有する重複領域を部分的または全体的に取り囲むように支持基板に開口部が形成される。それにより、開口部内で絶縁層の一部が露出する。
この場合、接続端子と重なる絶縁層は除去されずに残存するので、絶縁層により接続端子の温度が保たれる。また、支持基板の重複領域を部分的または全体的に取り囲むように開口部が形成されるので、接続端子と重なる絶縁層の部分から支持基板の全体に拡がる熱の量が低減される。それにより、接続端子の熱が支持基板を介して放散されることが抑制される。したがって、接続端子と外部回路とを電気的に接続するために溶融した接合材料が接続端子に付与された場合に、温度低下により接合材料が接続端子の接続面の全体に拡がる前に凝固することが防止される。その結果、接続端子の接続の信頼性を向上させることができる。
(2)開口部は、重複領域の外周部より外側に位置する外周部を有し、開口部の外周部と重複領域の外周部との間の距離は5μm以上であってもよい。
この場合、重複領域の外周部から5μm以上の位置に開口部の外周部が位置するように開口部が形成される。これにより、接続端子と重なる絶縁層の部分から支持基板の重複領域の周囲に拡がる熱の量が十分に低減される。その結果、接続端子を十分に保温することができる。
(3)開口部は、重複領域の内側の領域までに広がるように形成されてもよい。この場合、接続端子と重なる絶縁層の部分の熱が支持基板の重複領域の少なくとも一部に伝達されることが防止される。それにより、支持基板の重複領域から外部に放散される熱の量が低減される。その結果、接続端子を十分に保温することができる。
(4)開口部は、重複領域の外周部より内側に位置する内周部を有し、開口部の内周部と開口部の外周部との間の幅は25μm以上であってもよい。この場合、接続端子と重なる絶縁層の部分の熱が支持基板の重複領域の少なくとも外周部の領域に伝達されることが防止される。それにより、支持基板の重複領域から外部に放散される熱の量が低減されるとともに、支持基板の重複領域から重複領域の周囲に拡がる熱の量が十分に低減される。その結果、接続端子を十分に保温することができる。
(5)開口部の内周部と開口部の外周部との間の幅は40μm以上であってもよい。この場合、接続端子と重なる絶縁層の部分の熱が支持基板の重複領域の少なくとも外周部の領域に伝達されることがより防止される。それにより、支持基板の重複領域から外部に放散される熱の量がより低減されるとともに、支持基板の重複領域から重複領域の周囲に拡がる熱の量がより十分に低減される。その結果、接続端子をより十分に保温することができる。
(6)開口部は、重複領域の全体の領域までに広がるように形成されてもよい。この場合、接続端子と重なる絶縁層の部分の熱が支持基板の重複領域に伝達されることが防止される。それにより、支持基板の重複領域から外部に放散される熱の量が低減されるとともに、支持基板の重複領域から重複領域の周囲に熱が拡がることが防止される。その結果、接続端子をさらに十分に保温することができる。
(7)開口部は、重複領域の外周部と一致しまたは重複領域の外周部より外側に位置する内周部を有し、重複領域の外周部と開口部の内周部と間の距離は50μm以下であってもよい。この場合、接続端子と重なる絶縁層の部分から支持基板の全体に拡がる熱の量が十分に低減される。その結果、接続端子を十分に保温することができる。
(8)重複領域の外周部と開口部の内周部と間の距離は20μm以下であってもよい。この場合、接続端子と重なる絶縁層の部分から支持基板の全体に拡がる熱の量がより十分に低減される。その結果、接続端子をより十分に保温することができる。
(9)開口部の内周部と開口部の外周部との間の幅は25μm以上であってもよい。この場合、支持基板の重複領域とその周囲の領域との熱の伝達が十分に遮断される。それにより、支持基板の重複領域からその周囲に拡がる熱の量が十分に低減される。その結果、接続端子を十分に保温することができる。
(10)開口部の内周部と開口部の外周部との間の幅は30μm以上であってもよい。この場合、支持基板の重複領域とその周囲の領域との熱の伝達がより十分に遮断される。それにより、支持基板の重複領域からその周囲に拡がる熱の量がより十分に低減される。その結果、接続端子をより十分に保温することができる。
(11)開口部の内周部と開口部の外周部との間の幅は40μm以上であってもよい。この場合、支持基板の重複領域とその周囲の領域との熱の伝達がさらに十分に遮断される。それにより、支持基板の重複領域からその周囲に拡がる熱の量がさらに十分に低減される。その結果、接続端子をさらに十分に保温することができる。
(12)開口部は、重複領域の外周部の長さの50%以上の長さの部分を取り囲むように形成されてもよい。この場合、接続端子と重なる絶縁層の部分から支持基板の全体に拡がる熱の量が十分に低減される。その結果、接続端子を十分に保温することができる。
(13)開口部は、重複領域の外周部の長さの75%以上の長さの部分を取り囲むように形成されてもよい。この場合、接続端子と重なる絶縁層の部分から支持基板の全体に拡がる熱の量がより十分に低減される。その結果、接続端子をより十分に保温することができる。
(14)第2の参考形態に係る配線回路基板の製造方法は、外部回路と電気的に接続可能な配線回路基板の製造方法であって、導電性材料により形成される支持基板上に形成された絶縁層を用意するステップと、絶縁層上に外部回路と電気的に接続可能な接続端子を有する配線パターンを形成するステップと、支持基板に開口部を形成するステップとを備え、支持基板は、接続端子に重なりかつ接続端子と同じ平面形状を有する重複領域を有し、開口部は、重複領域を部分的または全体的に取り囲むように支持基板に形成され、開口部内で絶縁層の一部が露出するものである。
この配線回路基板の製造方法においては、支持基板上に外部回路と電気的に接続可能な接続端子を有する配線パターンが形成される。接続端子に重なりかつ接続端子と同じ平面形状を有する重複領域を部分的または全体的に取り囲むように支持基板に開口部が形成される。それにより、開口部内で絶縁層の一部が露出する。
この場合、接続端子と重なる絶縁層は除去されずに残存するので、絶縁層により接続端子の温度が保たれる。また、支持基板の重複領域を部分的または全体的に取り囲むように開口部が形成されるので、接続端子と重なる絶縁層の部分から支持基板の全体に拡がる熱の量が低減される。それにより、接続端子の熱が支持基板を介して放散されることが抑制される。したがって、接続端子と外部回路とを電気的に接続するために溶融した接合材料が接続端子に付与された場合に、温度低下により接合材料が接続端子の接続面の全体に拡がる前に凝固することが防止される。その結果、接続端子の接続の信頼性を向上させることができる。
10 支持基板
10h,11,18h 開口部
12 タング部
18 レジスト膜
18a エッチングレジスト
21〜24,31〜34 接続端子
41 絶縁層
43 被覆層
100 サスペンション本体部
H 孔部
OV 重複領域
R 破線
R1,R2 読取用配線パターン
W1,W2 書込用配線パターン
Claims (13)
- 外部回路と電気的に接続可能な配線回路基板であって、
導電性材料により形成される支持基板と、
前記支持基板上に形成される絶縁層と、
前記絶縁層上に形成される配線パターンと、
前記絶縁層上で前記配線パターンの一部に形成され、前記外部回路と電気的に接続可能な接続端子とを備え、
前記支持基板は、前記接続端子に重なりかつ前記接続端子と同じ平面形状を有する重複領域を有し、
前記支持基板の前記重複領域を部分的または全体的に取り囲むように前記支持基板に開口部が形成され、前記開口部内で前記絶縁層の一部が露出し、
前記開口部は、前記重複領域の外周部より外側に位置する外周部と前記重複領域の外周部より内側に位置する内周部とを有し、前記開口部の外周部と前記重複領域の外周部との間の距離は5μm以上であり、前記開口部の内周部と前記開口部の外周部との間の幅は25μm以上である、配線回路基板。 - 前記開口部の内周部と前記開口部の外周部との間の幅は40μm以上である、請求項1記載の配線回路基板。
- 外部回路と電気的に接続可能な配線回路基板であって、
導電性材料により形成される支持基板と、
前記支持基板上に形成される絶縁層と、
前記絶縁層上に形成される配線パターンと、
前記絶縁層上で前記配線パターンの一部に形成され、前記外部回路と電気的に接続可能な接続端子とを備え、
前記支持基板は、前記接続端子に重なりかつ前記接続端子と同じ平面形状を有する重複領域を有し、
前記支持基板の前記重複領域を部分的または全体的に取り囲むように前記支持基板に開口部が形成され、前記開口部内で前記絶縁層の一部が露出し、
前記開口部は、前記重複領域の外周部より外側に位置する外周部を有し、前記開口部の外周部と前記重複領域の外周部との間の距離は5μm以上であり、
前記開口部は、前記重複領域の全体の領域までに広がるように形成された、配線回路基板。 - 外部回路と電気的に接続可能な配線回路基板であって、
導電性材料により形成される支持基板と、
前記支持基板上に形成される絶縁層と、
前記絶縁層上に形成される配線パターンと、
前記絶縁層上で前記配線パターンの一部に形成され、前記外部回路と電気的に接続可能な接続端子とを備え、
前記支持基板は、前記接続端子に重なりかつ前記接続端子と同じ平面形状を有する重複領域を有し、
前記支持基板の前記重複領域を全体的に取り囲むように前記支持基板に開口部が形成され、前記開口部内で前記絶縁層の一部が露出し、
前記開口部は、前記重複領域の外周部と一致しまたは前記重複領域の外周部より外側に位置する内周部を有し、前記重複領域の外周部と前記開口部の内周部と間の距離は50μm以下である、配線回路基板。 - 前記重複領域の外周部と前記開口部の内周部と間の距離は20μm以下である、請求項4記載の配線回路基板。
- 前記開口部の内周部と前記開口部の外周部との間の幅は25μm以上である、請求項4または5記載の配線回路基板。
- 前記開口部の内周部と前記開口部の外周部との間の幅は30μm以上である、請求項6記載の配線回路基板。
- 前記開口部の内周部と前記開口部の外周部との間の幅は40μm以上である、請求項7記載の配線回路基板。
- 前記開口部は、前記重複領域の外周部の長さの50%以上の長さの部分を取り囲むように形成される、請求項1〜3のいずれか一項に記載の配線回路基板。
- 前記開口部は、前記重複領域の外周部の長さの75%以上の長さの部分を取り囲むように形成される、請求項9記載の配線回路基板。
- 外部回路と電気的に接続可能な配線回路基板の製造方法であって、
導電性材料により形成される支持基板上に形成された絶縁層を用意するステップと、
前記絶縁層上に前記外部回路と電気的に接続可能な接続端子を有する配線パターンを形成するステップと、
前記支持基板に開口部を形成するステップとを備え、
前記支持基板は、前記接続端子に重なりかつ前記接続端子と同じ平面形状を有する重複領域を有し、前記開口部は、前記重複領域を部分的または全体的に取り囲むように前記支持基板に形成され、前記開口部内で前記絶縁層の一部が露出し、
前記開口部は、前記重複領域の外周部より外側に位置する外周部と前記重複領域の外周部より内側に位置する内周部とを有し、前記開口部の外周部と前記重複領域の外周部との間の距離は5μm以上であり、前記開口部の内周部と前記開口部の外周部との間の幅は25μm以上である、配線回路基板の製造方法。 - 外部回路と電気的に接続可能な配線回路基板の製造方法であって、
導電性材料により形成される支持基板上に形成された絶縁層を用意するステップと、
前記絶縁層上に前記外部回路と電気的に接続可能な接続端子を有する配線パターンを形成するステップと、
前記支持基板に開口部を形成するステップとを備え、
前記支持基板は、前記接続端子に重なりかつ前記接続端子と同じ平面形状を有する重複領域を有し、前記開口部は、前記重複領域を部分的または全体的に取り囲むように前記支持基板に形成され、前記開口部内で前記絶縁層の一部が露出し、
前記開口部は、前記重複領域の外周部より外側に位置する外周部を有し、前記開口部の外周部と前記重複領域の外周部との間の距離は5μm以上であり、
前記開口部は、前記重複領域の全体の領域までに広がるように形成された、配線回路基板の製造方法。 - 外部回路と電気的に接続可能な配線回路基板の製造方法であって、
導電性材料により形成される支持基板上に形成された絶縁層を用意するステップと、
前記絶縁層上に前記外部回路と電気的に接続可能な接続端子を有する配線パターンを形成するステップと、
前記支持基板に開口部を形成するステップとを備え、
前記支持基板は、前記接続端子に重なりかつ前記接続端子と同じ平面形状を有する重複領域を有し、前記開口部は、前記重複領域を全体的に取り囲むように前記支持基板に形成され、前記開口部内で前記絶縁層の一部が露出し、
前記開口部は、前記重複領域の外周部と一致しまたは前記重複領域の外周部より外側に位置する内周部を有し、前記重複領域の外周部と前記開口部の内周部と間の距離は50μm以下である、配線回路基板の製造方法。
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