JP6023894B2 - シリコーンゲル組成物及びシリコーンゲル硬化物 - Google Patents

シリコーンゲル組成物及びシリコーンゲル硬化物 Download PDF

Info

Publication number
JP6023894B2
JP6023894B2 JP2015542487A JP2015542487A JP6023894B2 JP 6023894 B2 JP6023894 B2 JP 6023894B2 JP 2015542487 A JP2015542487 A JP 2015542487A JP 2015542487 A JP2015542487 A JP 2015542487A JP 6023894 B2 JP6023894 B2 JP 6023894B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
silicone gel
cured
blocked
composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2015542487A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2015056374A1 (ja
Inventor
池野 正行
正行 池野
一安 佐藤
一安 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=52827840&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JP6023894(B2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Application granted granted Critical
Publication of JP6023894B2 publication Critical patent/JP6023894B2/ja
Publication of JPWO2015056374A1 publication Critical patent/JPWO2015056374A1/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/02Elements
    • C08K3/04Carbon
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/29Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
    • H01L23/293Organic, e.g. plastic
    • H01L23/296Organo-silicon compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L83/04Polysiloxanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/12Polysiloxanes containing silicon bound to hydrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/20Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K2201/00Specific properties of additives
    • C08K2201/011Nanostructured additives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/02Elements
    • C08K3/04Carbon
    • C08K3/041Carbon nanotubes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/56Organo-metallic compounds, i.e. organic compounds containing a metal-to-carbon bond
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K7/00Use of ingredients characterised by shape
    • C08K7/22Expanded, porous or hollow particles
    • C08K7/24Expanded, porous or hollow particles inorganic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Description

本発明は、シリコーンゲル組成物及びそれを硬化させてなるシリコーンゲル硬化物に関する。
シリコーンゲル組成物は、ケイ素原子に結合した水素原子(即ち、SiH基)を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、ケイ素原子に結合したビニル基等のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン、及び白金系触媒を含有し、上記ケイ素原子に結合した水素原子のアルケニル基への付加反応により硬化物を得る付加反応硬化型オルガノポリシロキサン組成物である。このシリコーンゲル組成物を加熱することにより硬化したシリコーンゲル硬化物は、耐熱性、耐候性、耐油性、耐寒性、電気絶縁性等に優れ、低弾性率かつ低応力であることにより、車載電子部品、民生用電子部品等の電子部品の保護に用いられている。特に、低弾性率かつ低応力であるというシリコーンゲル硬化物の特徴は他のエラストマー製品には見られない特徴である。また、近年では、車載電子部品や民生用電子部品の高信頼性化などの要求から、封止に用いられるシリコーンゲル硬化物に対する耐熱性の要求が高まってきている。
シリコーンゲル硬化物の耐熱性を向上させる手段としては、組成物中のヒドロキシル基を150ppm以下にすることが開示されている(特許文献1参照)。また、特定のオルガノポリシロキサンにアルコキシシラン化合物と有機チタン酸エステルとを含む組成物が開示されている(特許文献2参照)。更に、特定の金属カルボン酸塩とオルガノポリシロキサンとを高温熱処理して得られた反応生成物を含む組成物(特許文献3参照)などが開示されている。
特開平2−269771号公報 特開2002−322364号公報 特開2008−291148号公報
しかし、これらのいずれの特許文献においても、200℃までの耐熱性しか得られておらず、230℃での耐熱性は得られていない。そこで、硬化した際に230℃での耐熱性に優れるシリコーンゲル硬化物となるシリコーンゲル組成物の開発が求められていた。
本発明は、上記事情を鑑みてなされたもので、硬化した際に低弾性率かつ低応力であり、230℃での耐熱性に優れるシリコーンゲル硬化物となるシリコーンゲル組成物を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明では、
(A)下記一般式(1)で表される、一分子中にケイ素原子に結合したアルケニル基を1個以上有するオルガノポリシロキサン:100質量部、
SiO(4−a−b)/2 (1)
(式中、Rは独立にアルケニル基であり、Rは独立に脂肪族不飽和結合を含まない置換又は非置換の1価炭化水素基であり、aは0.0001〜0.2の正数であり、bは1.7〜2.2の正数であり、a+bは1.9〜2.4である。)
(B)下記一般式(2)で表される、一分子中にケイ素原子に結合した水素原子を2個以上有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン:前記(A)成分中のケイ素原子に結合したアルケニル基1個あたり前記ケイ素原子に結合した水素原子が0.6〜3個となる量、
SiO(4−c−d)/2 (2)
(式中、Rは独立に脂肪族不飽和結合を含まない置換又は非置換の1価炭化水素基であり、cは0.7〜2.2の正数であり、dは0.001〜1の正数であり、c+dは0.8〜3である。)
(C)白金系触媒:有効量、及び
(D)カーボンナノチューブ:0.01〜3質量部、
を含有するシリコーンゲル組成物を提供する。
このようなシリコーンゲル組成物であれば、硬化した際に低弾性率かつ低応力であり、230℃での耐熱性に優れるシリコーンゲル硬化物となる。
またこのとき、前記シリコーンゲル組成物を硬化した際のJIS K 2220(1/4コーン)で規定される針入度(軟らかさの尺度)が、10〜200のものであることが好ましい。
このようなシリコーンゲル組成物であれば、硬化した際により確実に低弾性率かつ低応力のシリコーンゲル硬化物となる。
さらに、本発明では、上記のシリコーンゲル組成物を硬化してなるシリコーンゲル硬化物であって、該シリコーンゲル硬化物を230℃で1,000時間加熱した後の針入度の加熱前からの変化率が−70%以上のシリコーンゲル硬化物を提供する。ここで、本発明において「変化率が−70%以上」とは、針入度の変化率が−70%よりもマイナス側に大きくならない(即ち、加熱後のシリコーンゲルの硬度の増大が抑制されている)ことを意味している。
このようなシリコーンゲル硬化物であれば、硬化後230℃の高温条件下に長時間置かれても、シリコーンゲル硬化物の弾性率や応力を低く保つことができる。
以上のように、本発明のシリコーンゲル組成物であれば、硬化した際に低弾性率かつ低応力であり、また硬化物に優れた耐熱性を付与するカーボンナノチューブを含むことで、230℃での耐熱性に優れるシリコーンゲル硬化物となる。さらに、硬化後230℃の高温条件下に長時間置かれても、シリコーンゲル硬化物の弾性率や応力を低く保つことができる。
従って、このような本発明のシリコーンゲル組成物は、車載電子部品、民生用電子部品等の電子部品の保護に好適に用いることができる。
上述のように、硬化した際に230℃での耐熱性に優れるシリコーンゲル硬化物となるシリコーンゲル組成物の開発が求められていた。
本発明者らは、上記課題について鋭意検討を重ねた結果、付加反応硬化型オルガノポリシロキサン組成物がカーボンナノチューブを含むことで、硬化した際に低弾性率かつ低応力であり、230℃での耐熱性に優れるシリコーンゲル硬化物となることを見出し、本発明を完成させた。
即ち、本発明は、
(A)下記一般式(1)で表される、一分子中にケイ素原子に結合したアルケニル基を1個以上有するオルガノポリシロキサン:100質量部、
SiO(4−a−b)/2 (1)
(式中、Rは独立にアルケニル基であり、Rは独立に脂肪族不飽和結合を含まない置換又は非置換の1価炭化水素基であり、aは0.0001〜0.2の正数であり、bは1.7〜2.2の正数であり、a+bは1.9〜2.4である。)
(B)下記一般式(2)で表される、一分子中にケイ素原子に結合した水素原子を2個以上有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン:前記(A)成分中のケイ素原子に結合したアルケニル基1個あたり前記ケイ素原子に結合した水素原子が0.6〜3個となる量、
SiO(4−c−d)/2 (2)
(式中、Rは独立に脂肪族不飽和結合を含まない置換又は非置換の1価炭化水素基であり、cは0.7〜2.2の正数であり、dは0.001〜1の正数であり、c+dは0.8〜3である。)
(C)白金系触媒:有効量、及び
(D)カーボンナノチューブ:0.01〜3質量部、
を含有するシリコーンゲル組成物である。
本発明のシリコーンゲル組成物は、上記の(A)〜(D)成分を必須成分として含有してなるものである。なお、本発明において、シリコーンゲル硬化物とは、オルガノポリシロキサンを主成分とする架橋密度の低い硬化物である。このような硬化物は、例えばJIS K 2220(1/4コーン)による針入度が10〜200のものである。また、これは、JIS K 6301によるゴム硬度測定では測定値(ゴム硬度値)が0となり、有効なゴム硬度値を示さない程低硬度(即ち、軟らか)であるものに相当するものであり、この点において、いわゆるシリコーンゴム硬化物(ゴム状弾性体)とは別異のものである。
以下、本発明について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、本明細書において、粘度は25℃における値である。
〔(A)オルガノポリシロキサン〕
本発明のシリコーンゲル組成物の(A)成分は、シリコーンゲル組成物の主剤(ベースポリマー)である。この(A)成分は、下記一般式(即ち、平均組成式)(1)で表される、一分子中にケイ素原子に結合したアルケニル基(本明細書中において「ケイ素原子結合アルケニル基」という)を1個以上有するオルガノポリシロキサンである。
SiO(4−a−b)/2 (1)
(式中、Rは独立にアルケニル基であり、Rは独立に脂肪族不飽和結合を含まない置換又は非置換の1価炭化水素基であり、aは0.0001〜0.2の正数であり、bは1.7〜2.2の正数であり、a+bは1.9〜2.4である。)
上記一般式(1)中、Rは独立にアルケニル基であり、その炭素原子数は、通常2〜6、好ましくは2〜4、より好ましくは2〜3である。その具体例としては、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基等が挙げられ、好ましいRはビニル基である。
また、上記一般式(1)中、Rは独立に脂肪族不飽和結合を含まない置換又は非置換の1価炭化水素基であり、その炭素原子数は、通常1〜10、好ましくは1〜6である。その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、デシル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基等のアリール基;ベンジル基、フェニルエチル基等のアラルキル基;これらの基の水素原子の一部又は全部を、塩素、臭素、フッ素等のハロゲン原子で置換したクロロメチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等が挙げられる。中でも合成が容易であり、また高温での化学的安定性の点から、メチル基、フェニル基又は3,3,3−トリフルオロプロピル基が好ましい。
また、上記一般式(1)中、aは0.0001〜0.2の正数であり、好ましくは0.0005〜0.1、より好ましくは0.001〜0.05の正数である。また、bは1.7〜2.2の正数であり、好ましくは1.9〜2.02の正数である。また、a+bは1.9〜2.4の範囲を満たすことが必要であり、好ましくは1.95〜2.05の範囲である。
(A)成分は、一分子中にケイ素原子結合アルケニル基を平均して1個以上有することが必要であり、好ましくは2個以上、より好ましくは2〜50個、更に好ましくは2〜10個有する。このケイ素原子結合アルケニル基の条件を満たすように上記a及びbの値を選択すればよい。
(A)成分のオルガノポリシロキサン一分子中のケイ素原子の数(即ち、重合度)は、通常10〜2,000個であるが、組成物の取扱作業性及び得られる硬化物の特性(低弾性率、低応力)が良好となる点から、好ましくは20〜1,000個、より好ましくは50〜500個である。なお本発明において重合度(または分子量)は、例えば、トルエン等を展開溶媒としてゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)分析におけるポリスチレン換算の数平均重合度(又は数平均分子量)等として求めることができる。
(A)成分のオルガノポリシロキサンの分子構造は特に限定されず、直鎖状であっても、例えば、RSiO3/2単位、RSiO3/2単位、SiO単位等を含む分岐状であってもよいが、下記一般式(1a)で表されるオルガノポリシロキサン、即ち主鎖が基本的にジオルガノシロキサン単位の繰り返しからなり、分子鎖両末端がトリオルガノシロキシ基で封鎖された直鎖状のジオルガノポリシロキサンであることが好ましい。
Figure 0006023894
(式中、Rは各々独立に脂肪族不飽和結合を含まない置換又は非置換の1価炭化水素基であり、Rは各々独立に脂肪族不飽和結合を含まない置換又は非置換の1価炭化水素基もしくはアルケニル基であり、ただし1個以上のRはアルケニル基であり、分子鎖両末端のRのいずれかがアルケニル基である場合には、kは40〜1,200の整数であり、mは0〜50の整数であり、nは0〜50の整数であり、分子鎖両末端のRのいずれもがアルケニル基でない場合には、kは40〜1,200の整数であり、mは1〜50の整数、好ましくは2〜50の整数であり、nは0〜50の整数である。)
上記一般式(1a)中、Rで表されるアルケニル基以外の脂肪族不飽和結合を含まない置換又は非置換の1価炭化水素基は、通常炭素原子数1〜10、好ましくは1〜6のものである。その具体例としては、上記一般式(1)中のRで例示したものが挙げられる。中でも合成が容易であり、また高温での化学的安定性の点から、メチル基、フェニル基又は3,3,3−トリフルオロプロピル基が好ましい。
また、上記一般式(1a)中、Rで表される各々独立に脂肪族不飽和結合を含まない置換又は非置換の1価炭化水素基は、通常炭素原子数1〜10、好ましくは1〜6のものである。その具体例としては、上記一般式(1)中のRで例示したものが挙げられる。中でも合成が容易であり、また高温での化学的安定性の点から、メチル基、フェニル基又は3,3,3−トリフルオロプロピル基が好ましい。Rで表されるアルケニル基は、通常炭素原子数2〜6、好ましくは2〜4、より好ましくは2〜3のものである。その具体例としては、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基等が挙げられ、特に好ましくはビニル基である。
上記一般式(1a)中、分子鎖両末端のRのいずれかがアルケニル基である場合には、kは100〜1,000の整数であり、mは0〜40の整数であり、nは0であることが好ましく、分子鎖両末端のRのいずれもアルケニル基でない場合には、kは100〜1,000の整数であり、mは2〜40の整数であり、nは0であることが好ましい。
上記一般式(1a)で表されるオルガノポリシロキサンとしては、例えば、両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖メチルトリフルオロプロピルポリシロキサン、両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルトリフルオロプロピルシロキサン共重合体、両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルトリフルオロプロピルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・ビニルメチルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・ビニルメチルシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・ビニルメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖ビニルメチルシロキサン・メチルトリフルオロプロピルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・ビニルメチルシロキサン・メチルトリフルオロプロピルシロキサン共重合体、片末端トリメチルシロキシ基封鎖・他方の片末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、片末端トリメチルシロキシ基封鎖・他方の片末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、片末端トリメチルシロキシ基封鎖・他方の片末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、片末端トリメチルシロキシ基封鎖・他方の片末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、片末端トリメチルシロキシ基封鎖・他方の片末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・ジフェニルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、片末端トリメチルシロキシ基封鎖・他方の片末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖メチルトリフルオロプロピルポリシロキサン、片末端トリメチルシロキシ基封鎖・他方の片末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルトリフルオロプロピルシロキサン共重合体、片末端トリメチルシロキシ基封鎖・他方の片末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルトリフルオロプロピルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、両末端メチルジビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、両末端メチルジビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、両末端メチルジビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、両末端メチルジビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、両末端メチルジビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、両末端メチルジビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、両末端メチルジビニルシロキシ基封鎖メチルトリフルオロプロピルポリシロキサン、両末端メチルジビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルトリフルオロプロピルシロキサン共重合体、両末端メチルジビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルトリフルオロプロピルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、両末端トリビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、両末端トリビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、両末端トリビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、両末端トリビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、両末端トリビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、両末端トリビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、両末端トリビニルシロキシ基封鎖メチルトリフルオロプロピルポリシロキサン、両末端トリビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルトリフルオロプロピルシロキサン共重合体、両末端トリビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルトリフルオロプロピルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体等が挙げられる。
(A)成分のオルガノポリシロキサンの粘度は、特に限定されないが、組成物の取扱作業性、得られる硬化物の強度、及び流動性が良好となる点から、25℃における粘度が50〜100,000mPa・sであることが好ましく、100〜10,000mPa・sであることがより好ましい。本発明において、粘度は回転粘度計(例えば、BL型、BH型、BS型、コーンプレート型、レオメーター等)により測定することができる。
また、(A)成分のオルガノポリシロキサンは2種以上の混合物であってもよい。
〔(B)オルガノハイドロジェンポリシロキサン〕
次に、本発明のシリコーンゲル組成物の(B)成分は、上記(A)成分と反応し、架橋剤(硬化剤)として作用するものであって、該オルガノハイドロジェンポリシロキサンの分子構造は、直鎖状、環状、分岐鎖状、三次元網状(レジン状)のいずれであってもよい。この(B)成分は、下記一般式(即ち、平均組成式)(2)で表される、一分子中にケイ素原子に結合した水素原子(SiH基)を2個以上有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンである。
SiO(4−c−d)/2 (2)
(式中、Rは独立に脂肪族不飽和結合を含まない置換又は非置換の1価炭化水素基であり、cは0.7〜2.2の正数であり、dは0.001〜1の正数であり、c+dは0.8〜3である。)
このオルガノハイドロジェンポリシロキサンが一分子中に有するケイ素原子結合水素原子(SiH基)は2個以上であり、好ましくは3〜500個、より好ましくは5〜100個、特に好ましくは10〜80個である。このケイ素原子結合水素原子(SiH基)は、分子鎖末端のケイ素原子に結合したもの、あるいは分子鎖非末端(分子鎖途中)のケイ素原子に結合したもののいずれであってもよく、これらの両者であってもよい。
上記一般式(2)中、Rは独立に脂肪族不飽和結合を含まない置換又は非置換の一価炭化水素基であり、その炭素原子数は、通常1〜10、好ましくは1〜6である。その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、へキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基;これらの基の水素原子の一部又は全部を、塩素、臭素、フッ素等のハロゲン原子で置換した3,3,3−トリフルオロプロピル基等が挙げられる。中でも好ましくはアルキル基、アリール基、3,3,3−トリフルオロプロピル基であり、より好ましくはメチル基、フェニル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基である。
また、上記一般式(2)中、cは0.7〜2.2の正数であり、好ましくは1.0〜2.1の正数である。dは0.001〜1の正数であり、好ましくは0.005〜0.8、より好ましくは0.01〜0.6の正数である。また、c+dは0.8〜3であり、好ましくは1.0〜2.7、より好ましくは1.5〜2.5の範囲である。
(B)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサン一分子中のケイ素原子の数(即ち、重合度)は、通常2〜1,000個であるが、組成物の取扱作業性及び得られる硬化物の特性(低弾性率、低応力)が良好となる点から、好ましくは4〜500個、より好ましくは10〜200個、更に好ましくは20〜100個である。
(B)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンの粘度は、特に限定されないが、上記と同様の理由で、25℃における粘度が0.1〜5,000mPa・s、特には0.5〜1,000mPa・s、とりわけ1〜500mPa・s程度であることが好ましい。
上記一般式(2)で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンとしては、例えば、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3,5,7−テトラメチルテトラシクロシロキサン、トリス(ジメチルハイドロジェンシロキシ)メチルシラン、トリス(ジメチルハイドロジェンシロキシ)フェニルシラン、メチルハイドロジェンシロキサン環状重合体、メチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサン環状共重合体、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、(CHHSiO1/2単位と(CHSiO1/2単位とSiO4/2単位とからなる共重合体、(CHHSiO1/2単位とSiO4/2単位とからなる共重合体、(CHHSiO1/2単位とSiO4/2単位と(CSiO1/2単位とからなる共重合体、(CHHSiO1/2単位と(CHSiO1/2単位と(CH)SiO3/2単位ととからなる共重合体などや、これらの各例示化合物において、メチル基の一部又は全部が他のアルキル基やフェニル基等で置換されたもの等が挙げられる。
(B)成分の添加量は、(A)成分のアルケニル基1個に対してケイ素原子に結合した水素原子が0.6〜3個となる量であり、好ましくは0.7〜2個、より好ましくは0.8〜1.5個となる量である。この(B)成分からのケイ素原子に結合した水素原子が、(A)成分のアルケニル基1個に対して、0.6個より少なくなると、硬化物が得られなくなる。また、3個より多い場合は、硬化物の耐熱性が低下する。
(B)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンは2種以上の混合物であってもよい。
〔(C)白金系触媒〕
本発明のシリコーンゲル組成物の(C)成分は、上記(A)成分中のケイ素原子結合アルケニル基と上記(B)成分中のケイ素原子結合水素原子との付加反応を促進させるための触媒として使用されるものである。この(C)成分は白金系触媒(白金及び白金系化合物から選ばれる白金族金属化合物)であり、公知のものを使用することができる。その具体例としては、白金ブラック、塩化白金酸、塩化白金酸等のアルコール変性物;塩化白金酸とオレフィン、アルデヒド、ビニルシロキサン又はアセチレンアルコール類等との錯体等が例示される。
(C)成分の配合量は有効量でよく、所望の硬化速度により適宜増減することができるが、通常、(A)成分及び(B)成分の合計量に対して、白金原子の質量で、通常0.1〜1,000ppm、好ましくは1〜300ppmの範囲である。この配合量が多すぎると得られる硬化物の耐熱性が低下する場合がある。
〔(D)カーボンナノチューブ〕
本発明のシリコーンゲル組成物の(D)成分は、シリコーンゲル組成物の硬化物に優れた耐熱性を付与するための成分で、カーボンナノチューブである。カーボンナノチューブは、炭素によって作られる六員環ネットワーク(グラフェンシート)が単層(シングルウォール)あるいは多層(マルチウォール)の同軸管状になった物質であり、直径数nm〜数百nm程度の炭素原子からなる構造体として知られている。本発明の(D)成分に用いられるカーボンナノチューブとしては、長さが0.1〜30μmのものが好ましく、0.1〜15μmのものがより好ましい。長さが0.1μm以上であれば均一分散しやすく、30μm以下であれば沈降しにくい。また、カーボンナノチューブは、直径が0.5〜100nmのものならその大きさには限定されない。
また、上記カーボンナノチューブは、特に製法には限定されないが、例えばプラズマCVD(化学気相成長)法、熱CVD法、表面分解法、流動気相合成法、アーク放電法等により合成されたものが好ましい。またカーボンナノチューブは、構造により、シングルウォールナノチューブ(SWNT)、マルチウォールナノチューブ(MWNT)、ダブルウォールナノチューブ(DWNT)等が知られているが、これらのいずれも用いることができる。
また、本発明においては、市販品のカーボンナノチューブを適宜使用することもできる。
(D)成分のカーボンナノチューブの配合量は、(A)成分100質量部に対して0.01〜3質量部、好ましくは0.02〜2質量部、より好ましくは0.03〜1質量部である。0.01質量部未満では耐熱性が得られず、3質量部を超えてもそれ以上の効果は発揮されない。
〔その他の任意成分〕
本発明の組成物には、上記(A)〜(D)成分以外にも、必要に応じて任意成分を配合することができる。この任意成分としては、例えば、反応抑制剤、無機質充填剤、ケイ素原子結合水素原子及びケイ素原子結合アルケニル基を含有しないオルガノポリシロキサン、難燃性付与剤、チクソ性付与剤、顔料、染料等が挙げられる。
反応抑制剤は、上記組成物の反応を抑制するための成分であって、具体的には、例えば、アセチレン系、アミン系、カルボン酸エステル系、亜リン酸エステル系等の反応抑制剤が挙げられる。
無機質充填剤としては、例えば、ヒュームドシリカ、結晶性シリカ、沈降性シリカ、中空フィラー、シルセスキオキサン、ヒュームド二酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化鉄、水酸化アルミニウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸亜鉛、層状マイカ、カーボンブラック、ケイ藻土、ガラス繊維等の無機質充填剤;これらの充填剤をオルガノアルコキシシラン化合物、オルガノクロロシラン化合物、オルガノシラザン化合物、低分子量シロキサン化合物等の有機ケイ素化合物で表面疎水化処理した充填剤等が挙げられる。また、シリコーンゴムパウダー、シリコーンレジンパウダー等を配合してもよい。
また、ケイ素原子結合水素原子及びケイ素原子結合アルケニル基を含有しないオルガノポリシロキサン、難燃性付与剤、チクソ性付与剤、顔料、染料等は特に限定されず、公知のものを使用することができる。
〔組成物の硬化〕
本発明の組成物は、上記(A)〜(D)成分(任意成分が配合される場合には、任意成分も含む)を常法に準じて混合することにより調製することができる。その後、本発明の組成物を常温もしくは用途に応じた温度条件下で硬化させることによりシリコーンゲル硬化物が得られる。
上述したような本発明のシリコーンゲル組成物であれば、硬化した際に低弾性率かつ低応力であり、また硬化物に優れた耐熱性を付与するカーボンナノチューブを含むことで、230℃での耐熱性に優れるシリコーンゲル硬化物となる。
また、このシリコーンゲル硬化物のJIS K 2220(1/4コーン)で規定される針入度は、10〜200であることが好ましい。
このような針入度であれば、より確実に低弾性率かつ低応力のシリコーンゲル硬化物となる。
また、このシリコーンゲル硬化物を230℃で1,000時間加熱した後の針入度(軟らかさの尺度)の加熱前からの変化率が−70%以上であることが好ましい。ここで、針入度の変化率は、
変化率={(加熱後の針入度−加熱前の針入度)/(加熱前の針入度)}×100(%)
として計算することができる。この式からも判るように、本発明でいう「変化率が−70%以上」とは、加熱後の針入度値が加熱前の針入度値の30%以上を保持しており、針入度の変化率が−70%よりもマイナス側に大きくならない(即ち、加熱後のシリコーンゲルの硬度の増大が抑制されている)ことを意味している。
このようなシリコーンゲル硬化物であれば、硬化後230℃の高温条件下に長時間置かれても針入度が低下しすぎない。即ち、シリコーンゲル硬化物の弾性率や応力を低く保つことができる。
以上のように、本発明のシリコーンゲル組成物であれば、硬化した際に低弾性率かつ低応力であり、230℃での耐熱性に優れるシリコーンゲル硬化物となる。さらに、硬化後230℃の高温条件下に長時間置かれても、シリコーンゲル硬化物の弾性率や応力を低く保つことができる。
従って、このような本発明のシリコーンゲル組成物は、車載電子部品、民生用電子部品等の電子部品の保護に好適に用いることができる。
以下、実施例及び比較例を用いて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例中、「Vi」は「ビニル基」を表す。また、粘度は25℃における回転粘度計による測定値を示す。
[実施例1]
分子鎖両末端の単官能性シロキシ単位2個のうち平均0.58個がジメチルビニルシロキシ基で封鎖され、かつ、残り平均1.42個がトリメチルシロキシ基で封鎖された、粘度が800mPa・sの直鎖状ジメチルポリシロキサン100質量部、粘度が100mPa・sである分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体(ケイ素原子結合水素原子の含有量=0.57質量%)0.88質量部((A)成分中のケイ素原子結合ビニル基に対する(B)成分中のケイ素原子結合水素原子のモル比:SiH/SiVi=1.13)、エチニルシクロヘキサノール0.05質量部、直径9.5nm、長さ1.5μmのカーボンナノチューブ(マルチウォールタイプ)0.03質量部、及び塩化白金酸/1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体を白金原子含有量として1質量%含有するジメチルポリシロキサン溶液0.05質量部、を混合して組成物Aを調製した。得られた組成物Aを120℃で30分間加熱硬化したところ、針入度65の硬化物Aを得た。
[実施例2]
実施例1において、カーボンナノチューブを0.06質量部用いる以外は同様にして、組成物Bを調製した。得られた組成物Bを120℃で30分間加熱硬化したところ、針入度66の硬化物Bを得た。
[実施例3]
実施例1において、カーボンナノチューブを0.09質量部用いる以外は同様にして、組成物Cを調製した。得られた組成物Cを120℃で30分間加熱硬化したところ、針入度67の硬化物Cを得た。
[比較例1]
実施例1において、カーボンナノチューブを用いなかった以外は同様にして、組成物Dを調製した。得られた組成物Dを120℃で30分間加熱硬化したところ、針入度65の硬化物Dを得た。
(耐熱性の評価)
上記実施例1〜3及び比較例1で得られた組成物A〜Dを硬化した硬化物A〜Dについて、初期(耐熱性試験前)、及び230℃で1,000時間加熱する耐熱性試験後のJIS K 2220(1/4コーン)で規定される針入度を評価した。結果を表1に示す。
(耐寒性の評価)
上記実施例1〜3及び比較例1で得られた組成物A〜Dを硬化した硬化物A〜Dについて、−40℃24時間放置した後、すぐにJIS K 2220(1/4コーン)で規定される針入度を評価した。結果を表1に示す。
Figure 0006023894
表1に示されるように、シリコーンゲル組成物にカーボンナノチューブを含む実施例1〜3では、耐熱性試験前のシリコーンゲル硬化物は低弾性率及び低応力であり、また耐熱性試験後の針入度の変化率が−60%〜+9%であり、230℃の高温条件下に長時間置かれても、シリコーンゲル硬化物は軟らかさを保持しており、弾性率や応力を低く保つことができた。また、耐寒性試験後も針入度が変わらず、比較例1と同等の耐寒性を有していた。
一方、カーボンナノチューブを含まない比較例1では、耐熱性試験前の硬化物は低弾性率及び低応力であるものの、耐熱性試験後の針入度の変化率が−98%であり、230℃の高温条件下に長時間置かれることでシリコーンゲル硬化物が硬くなり、弾性率や応力が高くなった。
以上のように、本発明のシリコーンゲル組成物であれば、硬化した際に低弾性率かつ低応力であり、230℃での耐熱性に優れるシリコーンゲル硬化物となる。さらに、硬化後長時間230℃の高温条件下に置かれても、シリコーンゲル硬化物が軟らかさを保持しており、弾性率や応力を低く保つことができることが明らかとなった。
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。

Claims (3)

  1. (A)下記一般式(1)で表される、一分子中にケイ素原子に結合したアルケニル基を1個以上有するオルガノポリシロキサン:100質量部、
    SiO(4−a−b)/2 (1)
    (式中、Rは独立にアルケニル基であり、Rは独立に脂肪族不飽和結合を含まない置換又は非置換の1価炭化水素基であり、aは0.0001〜0.2の正数であり、bは1.7〜2.2の正数であり、a+bは1.9〜2.4である。)
    (B)下記一般式(2)で表される、一分子中にケイ素原子に結合した水素原子を2個以上有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン:前記(A)成分中のケイ素原子に結合したアルケニル基1個あたり前記ケイ素原子に結合した水素原子が0.6〜3個となる量、
    SiO(4−c−d)/2 (2)
    (式中、Rは独立に脂肪族不飽和結合を含まない置換又は非置換の1価炭化水素基であり、cは0.7〜2.2の正数であり、dは0.001〜1の正数であり、c+dは0.8〜3である。)
    (C)白金系触媒:有効量、及び
    (D)カーボンナノチューブ:0.01〜3質量部、
    を含有するものであることを特徴とするシリコーンゲル組成物。
  2. 前記シリコーンゲル組成物を硬化した際のJIS K 2220(1/4コーン)で規定される針入度が、10〜200のものであることを特徴とする請求項1に記載のシリコーンゲル組成物。
  3. 請求項1又は請求項2に記載のシリコーンゲル組成物を硬化してなるシリコーンゲル硬化物であって、該シリコーンゲル硬化物を230℃で1,000時間加熱した後の針入度の加熱前からの変化率が−70%以上のものであることを特徴とするシリコーンゲル硬化物。
JP2015542487A 2013-10-17 2014-07-29 シリコーンゲル組成物及びシリコーンゲル硬化物 Active JP6023894B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013215989 2013-10-17
JP2013215989 2013-10-17
PCT/JP2014/003968 WO2015056374A1 (ja) 2013-10-17 2014-07-29 シリコーンゲル組成物及びシリコーンゲル硬化物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP6023894B2 true JP6023894B2 (ja) 2016-11-09
JPWO2015056374A1 JPWO2015056374A1 (ja) 2017-03-09

Family

ID=52827840

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015542487A Active JP6023894B2 (ja) 2013-10-17 2014-07-29 シリコーンゲル組成物及びシリコーンゲル硬化物

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9631062B2 (ja)
EP (1) EP3059286B1 (ja)
JP (1) JP6023894B2 (ja)
WO (1) WO2015056374A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190068432A (ko) * 2017-12-08 2019-06-18 주식회사 엘지화학 실리콘 복합재 및 이의 제조방법
KR20190068433A (ko) * 2017-12-08 2019-06-18 주식회사 엘지화학 전도성 실리콘 조성물 및 이에 의해 제조된 실리콘 복합재

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6394517B2 (ja) * 2015-07-01 2018-09-26 信越化学工業株式会社 耐熱性シリコーンゲル硬化物の電気絶縁性を向上する方法
US10631975B2 (en) * 2016-09-23 2020-04-28 Biosense Webster (Israel) Ltd. Detection of leakage in implants
TWI672217B (zh) * 2017-06-14 2019-09-21 台灣奈米碳素股份有限公司 胎面膠以及用於生產胎面膠的配方
CN110862692A (zh) * 2019-11-19 2020-03-06 株洲时代新材料科技股份有限公司 一种igbt用耐高压有机硅凝胶及其制备方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005206761A (ja) * 2004-01-26 2005-08-04 Ge Toshiba Silicones Co Ltd 耐熱性シリコーン組成物
JP2007126576A (ja) * 2005-11-04 2007-05-24 Shin Etsu Chem Co Ltd シリコーンゲル組成物
JP2010037537A (ja) * 2008-07-11 2010-02-18 Toyota Central R&D Labs Inc カーボンナノ複合体、それを含む分散液及び樹脂組成物、並びにカーボンナノ複合体の製造方法
JP2010174084A (ja) * 2009-01-28 2010-08-12 Panasonic Corp カーボンナノチューブを含有するインク
JP2012251116A (ja) * 2011-06-07 2012-12-20 Shin-Etsu Chemical Co Ltd シリコーンゲル組成物及び該組成物の硬化物で封止された電子回路

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0660282B2 (ja) 1989-04-12 1994-08-10 信越化学工業株式会社 耐熱性シリコーンゲル組成物
US5432280A (en) * 1992-07-03 1995-07-11 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Gel-forming silicone composition
JP4796704B2 (ja) * 2001-03-30 2011-10-19 株式会社タイカ 押出可能な架橋済グリース状放熱材を充填・封入した容器の製法
JP4375968B2 (ja) * 2001-04-06 2009-12-02 ワールド プロパティーズ インク. 導電性シリコーンおよびその製造方法
JP4875251B2 (ja) 2001-04-26 2012-02-15 東レ・ダウコーニング株式会社 シリコーンゲル組成物
CN1656574A (zh) * 2002-04-01 2005-08-17 环球产权公司 导电的聚合物泡沫和弹性体及其制造方法
AU2006292615A1 (en) * 2005-09-16 2007-03-29 Hyperion Catalysis International, Inc. Conductive silicone and methods for preparing same
KR101319693B1 (ko) * 2005-10-28 2013-10-17 에스.에이. 나노실 방화성 조성물
CN101356237B (zh) * 2005-12-21 2011-06-29 陶氏康宁公司 有机硅树脂膜,其制备方法和纳米材料填充的有机硅组合物
US8258086B2 (en) * 2006-12-01 2012-09-04 Henkel Corporation Anti-seize composition with nano-sized lubricating solid particles
JP2008291148A (ja) 2007-05-25 2008-12-04 Shin Etsu Chem Co Ltd 耐熱性に優れたシリコーンゲル組成物
WO2013133884A1 (en) * 2011-12-19 2013-09-12 Dow Corning Corporation Method of forming a photovoltaic cell module having improved impact resistance
CN104981510B (zh) * 2012-12-28 2017-12-15 道康宁公司 用于换能器的可固化有机聚硅氧烷组合物和此类可固化有机硅组合物在换能器方面的应用

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005206761A (ja) * 2004-01-26 2005-08-04 Ge Toshiba Silicones Co Ltd 耐熱性シリコーン組成物
JP2007126576A (ja) * 2005-11-04 2007-05-24 Shin Etsu Chem Co Ltd シリコーンゲル組成物
JP2010037537A (ja) * 2008-07-11 2010-02-18 Toyota Central R&D Labs Inc カーボンナノ複合体、それを含む分散液及び樹脂組成物、並びにカーボンナノ複合体の製造方法
JP2010174084A (ja) * 2009-01-28 2010-08-12 Panasonic Corp カーボンナノチューブを含有するインク
JP2012251116A (ja) * 2011-06-07 2012-12-20 Shin-Etsu Chemical Co Ltd シリコーンゲル組成物及び該組成物の硬化物で封止された電子回路

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190068432A (ko) * 2017-12-08 2019-06-18 주식회사 엘지화학 실리콘 복합재 및 이의 제조방법
KR20190068433A (ko) * 2017-12-08 2019-06-18 주식회사 엘지화학 전도성 실리콘 조성물 및 이에 의해 제조된 실리콘 복합재
US11084929B2 (en) 2017-12-08 2021-08-10 Lg Chem, Ltd. Silicone composite material and manufacturing method thereof
KR102294863B1 (ko) * 2017-12-08 2021-08-30 주식회사 엘지화학 실리콘 복합재 및 이의 제조방법
KR102294864B1 (ko) * 2017-12-08 2021-08-30 주식회사 엘지화학 전도성 실리콘 조성물 및 이에 의해 제조된 실리콘 복합재

Also Published As

Publication number Publication date
WO2015056374A1 (ja) 2015-04-23
EP3059286A4 (en) 2017-07-05
EP3059286A1 (en) 2016-08-24
US9631062B2 (en) 2017-04-25
EP3059286B1 (en) 2020-08-26
US20160229983A1 (en) 2016-08-11
JPWO2015056374A1 (ja) 2017-03-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6023894B2 (ja) シリコーンゲル組成物及びシリコーンゲル硬化物
JP5594232B2 (ja) 硬化性シリコーンゲル組成物
JP2008291148A (ja) 耐熱性に優れたシリコーンゲル組成物
JP6394517B2 (ja) 耐熱性シリコーンゲル硬化物の電気絶縁性を向上する方法
JP5983566B2 (ja) 付加硬化性液状シリコーンゴム組成物及びシリコーンゴム硬化物
JP5168732B2 (ja) 変位耐久性を有する硬化物を与えるシリコーンゲル組成物
EP1605020B1 (en) Curable organopolysiloxane composition
JP5962599B2 (ja) 耐熱性に優れたシリコーンゲル組成物
TW201918513A (zh) 包含填料之聚矽氧組成物
JP2009114403A (ja) 熱硬化性シリコーンゴム組成物
JP7314397B2 (ja) エラストマーフォーム用シリコーン組成物
JP2019001885A (ja) 自己接着性シリコーンゲル組成物及びその硬化物
JP4703374B2 (ja) シリコーンゲル組成物
EP3950803B1 (en) Self-adhesive silicone gel composition and silicone gel comprising cured product thereof
JP6409704B2 (ja) シリコーンゲル組成物及びシリコーンゲル硬化物
JP6699569B2 (ja) 自己接着性シリコーンゲル組成物及びその硬化物、並びに封止方法及び充填方法
JP2016094514A (ja) 付加硬化性シリコーンゴム組成物
JP6465219B2 (ja) 自己接着性シリコーンゲル組成物及びシリコーンゲル
JP2000169714A (ja) 硬化性シリコーン組成物
JP5913153B2 (ja) オルガノハイドロジェンポリシロキサンの合成方法、該オルガノハイドロジェンポリシロキサンを用いた硬化性シリコーンゲル組成物及びシリコーンゲル
JP6245119B2 (ja) シリコーンゴム組成物及びシリコーンゴム硬化物の引裂き強度を向上させる方法
JP2018009127A (ja) シリコーンゲル組成物
JP6156256B2 (ja) 難燃性シリコーンゲル組成物及びその製造方法並びに半導体装置
WO2022092244A1 (ja) 硬化性フロロシリコーン組成物
JP2020029535A (ja) シリコーンゲル組成物、シリコーンゲル組成物の製造方法及びシリコーンゲル硬化物

Legal Events

Date Code Title Description
TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20160920

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20161007

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6023894

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150