JP6020558B2 - 光学フィルムの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、光学フィルムの製造方法に関する。

光学フィルムとは、光を透過または反射吸収しうるフィルムであり、屈折、複屈折、反射防止、視野角拡大、光拡散、および輝度向上等の光学機能を発揮しうる。

光学フィルムは、赤外遮蔽フィルム、反射防止フィルム、配向フィルム、偏光フィルム、偏光板保護フィルム、位相差フィルム、視野角拡大フィルム、輝度向上フィルム、および電磁波シールドフィルム等として液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）やプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）、建物や車両の窓ガラス等に使用されている。

例えば、特許文献１には、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、表面電界（ＳＥＤ）ディスプレイ、ＣＲＴディスプレイに用いられる光学フィルムとして、ポリエステルからなる基材と、前記基材の少なくとも一方の面上に形成され、屈折率が１．７０を超えて１．８５以下であり、厚みが５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である易接着層と、前記易接着層の上に形成され、屈折率が１．４０以上１．６０以下であり、厚みが３ｎｍ以上１０ｎｍである保護層とを備えることを特徴とする光学用積層フィルムが記載されている。特許文献１の光学用積層フィルムによれば、所定の屈折率および厚さを有する易接着層並びに保護層を有することにより、耐傷性の向上が図れ、粉落ちや傷の発生を抑えつつ、虹ムラを無くすことができることが記載されている。

特開２００８−１８３８８２号公報

近年、使用される光学フィルム、特に光学フィルムを構成する光学機能層を薄膜化（例えば、ナノオーダーの厚さまで薄膜化）することが求められている。光学フィルムを薄膜化することで、種々の効果が得られうる。例えば、反射防止フィルムの反射防止膜を薄膜化することで、フラットパネルディスプレイが高精細化しうる。また、赤外遮蔽フィルムの屈折率層を薄膜化することで、効率的に赤外光を遮蔽しうる。

特許文献１に記載の光学フィルムでは、易接着層および保護層（光学機能層）がナノオーダーの厚さとなっている。特許文献１によれば、ナノオーダーの厚さを有する光学機能層は、塗布液を基材に塗布し、次いで乾燥させて光学機能層を形成させる、いわゆる湿式成膜法によって製造されている。しかしながら、当該湿式成膜法で製造された光学機能層は、光学機能層内で膜厚にバラツキが生じる場合があり、その結果として、光学フィルムに色ムラが生じ、外観が悪くなりうることが判明した。

そこで本発明は、光学機能層をナノオーダーで薄膜化した場合であっても、当該光学機能層内の膜厚のバラツキの発生を抑制できる手段を提供することを目的とする。

本発明者らは鋭意研究を行った結果、湿式成膜法で光学機能層を形成する場合において、せん断処理した塗布液を用いると、光学機能層をナノオーダーで薄膜化した場合であっても、当該光学機能層内の膜厚のバラツキの発生を抑制できることを見出し、本発明を完成させるに至った。

すなわち、本発明の上記課題は以下の手段により達成される。

１．基材上に、膜厚が１〜１０００ｎｍである屈折率の異なる屈折率層が積層されてなる赤外遮蔽フィルムの製造方法であって、高分子を含む塗布液を調製する工程（１）と、前記工程（１）で調製した塗布液に、せん断速度１０００（１／ｓ）以上、最小間隙０．１〜０．３ｍｍのせん断処理を加える工程（２）と、前記工程（２）で得られた塗布液を基材上に塗布して塗膜を形成して前記屈折率層を形成する工程（３）と、を含む、製造方法；
２．前記塗布が、１ｍ／ｍｉｎ以上の速度で行われる、１に記載の製造方法；
３．前記工程（３）が、前記工程（２）の後、３時間以内に行われる、１または２に記載の製造方法；
４．前記せん断処理が、分散装置、高速撹拌装置、吐出装置、またはこれらの組み合わせにより行われる、１〜３のいずれか１つに記載の製造方法。

分散装置の一形態であるマイルダーの模式図である。 分散装置の一形態である圧力式ホモジナイザーの模式図である。 吐出装置の一形態である外接型ギアポンプの模式図である。 高速撹拌装置の一形態である汎用撹拌装置の模式図である。

本発明の一形態は、基材上に、膜厚が１〜１０００ｎｍである光学機能層が少なくとも１層形成されてなる光学フィルムの製造方法に関する。前記製造方法は、高分子を含む塗布液に、せん断速度１０００（１／ｓｅｃ）以上のせん断処理を加える工程（１）と、前記工程（１）で得られた塗布液を基材上に塗布して塗膜を形成する工程（２）と、を含む。

本発明によれば、光学機能層をナノオーダーで薄膜化した場合であっても、当該光学機能層内の膜厚のバラツキの発生を抑制できる手段が提供される。

＜光学フィルム＞
本形態に係る製造方法で製造される光学フィルムは、基材上に、膜厚が１〜１０００ｎｍである光学機能層が少なくとも１層形成されてなる。当該光学フィルムの製造方法は、高分子を含む塗布液に、せん断速度１０００（１／ｓｅｃ）以上のせん断処理を加える工程（１）と、前記工程（１）で得られた塗布液を基材上に塗布して塗膜を形成する工程（２）と、を含む。

光学フィルムは、光学機能層の組成、構成等によって発揮する機能が異なる。したがって、本発明に係る技術的思想は、適宜公知の事項を参酌することによって、種々の光学フィルム、例えば、赤外遮蔽フィルム、反射防止フィルム、配向フィルム、偏光フィルム、偏光板保護フィルム、位相差フィルム、視野角拡大フィルム、輝度向上フィルム、および電磁波シールドフィルム等に用いることができる。以下の説明では、屈折率の異なる屈折率層が積層されてなる赤外遮蔽フィルムについて説明するが、本発明を限定するものではない。なお、赤外遮蔽フィルムは光学フィルムに該当し、屈折率層は光学機能層に該当する。

一般に、赤外遮蔽フィルムにおいては、隣接する屈折率層間の屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で赤外反射率を高くすることができるという観点から好ましい。本形態では、隣接する屈折率層間の屈折率差の少なくとも１つが０．１以上であることが好ましく、０．３以上であることがより好ましく、０．４以上であることが特に好ましい。また、前記積層された屈折率層間のすべての屈折率差が上記好適な範囲内にあることが好ましい。ただし、この場合でも、反射層を構成する屈折率層のうち、最表層や最下層に関しては、上記好適な範囲外の構成であってもよい。

特定波長領域の反射率は、隣接する２層の屈折率差と積層数で決まり、屈折率の差が大きいほど、少ない層数で同じ反射率を得られる。この屈折率差と必要な層数については、市販の光学設計ソフトを用いて計算することができる。例えば、赤外反射率９０％以上を得るためには、屈折率差が０．１より小さいと、１００層以上の積層が必要となる。このような場合、生産性の低下、積層界面における散乱の増大、透明性の低下、および製造時の故障が生じうる。

さらには、本形態の赤外遮蔽フィルムの光学特性として、ＪＩＳ Ｒ３１０６−１９９８で示される可視光領域の透過率が５０％以上、好ましくは７５％以上、より好ましくは８５％以上であることが好ましく、また、波長９００ｎｍ〜１４００ｎｍの領域に反射率５０％を超える領域を有することが好ましい。

赤外遮蔽フィルムは、屈折率層が積層された構成を有することにより、基材の側から、または積層された屈折率層の側から赤外光を照射した場合に、少なくとも赤外光の一部を遮蔽して赤外遮蔽効果を発揮することができる。

一実施形態において、前記積層された屈折率層は、高屈折率層および低屈折率層が交互に積層されてなる。積層された高屈折率層および低屈折率層は、それぞれ同じものであってもよいし、異なるものであってもよい。屈折率層が高屈折率層であるか低屈折率層であるかは、隣接する屈折率層との屈折率の対比によって判断される。具体的には、ある屈折率層を基準層としたとき、当該基準層に隣接する屈折率層が基準層より屈折率が低ければ、基準層は高屈折率層である（隣接層は低屈折率層である）と判断される。一方、基準層より隣接層の屈折率が高ければ、基準層は低屈折率層である（隣接層は高屈折率層である）と判断される。

上述のように、高屈折率層であるか低屈折率層であるかは隣接する屈折率層との関係で定まる相対的なものであるが、高屈折率層の屈折率（ｎＨ）は１．６０〜２．５０であることが好ましく、１．７０〜２．５０であることがより好ましく、１．８０〜２．２０であることがさらに好ましく、１．９０〜２．２０であることが特に好ましい。一方、低屈折率層の屈折率（ｎＬ）は、１．１０〜１．６０であることが好ましく、１．３０〜１．５５であることがより好ましく、１．３０〜１．５０であることがさらに好ましい。なお、各屈折率層の屈折率の値は、以下のように測定した値を採用するものとする。具体的には、支持体上に測定対象となる屈折率層を単層で塗布して得られた塗膜を１０ｃｍ×１０ｃｍに断裁してサンプルを作製する。当該サンプルは、裏面での光の反射を防止するため、測定面とは反対側の面（裏面）を粗面化処理し、黒色スプレーで光吸収処理を行う。このように作製したサンプルを、分光光度計Ｕ−４０００型（株式会社日立製作所製）を用いて、５度正反射の条件にて可視領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）の反射率を２５点測定して平均値を求め、その測定結果より平均屈折率を求める。

屈折率層の総層数の範囲としては、生産性の観点から、好ましくは２００層以下であり、より好ましくは１００層以下であり、さらに好ましくは５０層以下である。

屈折率層の１層あたりの厚さは、１〜１０００ｎｍであり、好ましくは２０〜８００ｎｍであり、より好ましくは５０〜３５０ｎｍである。

＜工程（１）＞
工程（１）は、高分子を含む塗布液に、せん断速度１０００（１／ｓｅｃ）以上のせん断処理を加える工程である。

赤外遮蔽フィルムの製造においては、通常、塗布液として、高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の少なくとも２種の塗布液を調製する。

［塗布液の組成］
塗布液は、高分子を含む。さらに、必要に応じて溶媒、架橋剤、金属酸化物粒子、エマルジョン樹脂、その他の添加剤を含んでいてもよい。

（高分子）
用いられうる高分子としては、特に制限されないが、水溶性高分子が挙げられる。水溶性高分子としては、特に制限されないが、反応性官能基を有するポリマー、変性ポリビニルアルコール、ゼラチン、および増粘多糖類等が挙げられる。なお、本明細書において、「水溶性高分子」とは、水溶性高分子が最も溶解する温度で０．５質量％の濃度となるように水に溶解させた場合において、Ｇ２グラスフィルタ（最大細孔４０〜５０μｍ）でろ過した際にろ別される不溶物の質量が、加えた水溶性高分子の５０質量％以内であるものを意味する。

反応性官能基を有するポリマー
本発明で用いられる反応性官能基を有するポリマーとしては、例えば、未変性ポリビニルアルコール類、ポリビニルピロリドン類、ポリアクリル酸、アクリル酸−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸カリウム−アクリロニトリル共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸エステル共重合体、もしくはアクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのアクリル樹脂、スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸共重合体、もしくはスチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのスチレンアクリル酸樹脂、スチレン−スチレンスルホン酸ナトリウム共重合体、スチレン−２−ヒドロキシエチルアクリレート共重合体、スチレン−２−ヒドロキシエチルアクリレート−スチレンスルホン酸カリウム共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ビニルナフタレン−アクリル酸共重合体、ビニルナフタレン−マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−マレイン酸エステル共重合体、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸共重合体などの酢酸ビニル系共重合体およびそれらの塩が挙げられる。これらの中でも、未変性ポリビニルアルコール類、ポリビニルピロリドン類、およびこれらの共重合体を用いることが好ましい。

なお、上記反応性官能基を有するポリマーが共重合体である場合の共重合体の形態は、ブロック共重合体、ランダム共重合体、グラフト共重合体、交互共重合体のいずれであってもよい。

変性ポリビニルアルコール
本発明において用いられる変性ポリビニルアルコールは、未変性ポリビニルアルコールに任意の変性処理の１または２以上を施したものである。例えば、アミン変性ポリビニルアルコール、エチレン変性ポリビニルアルコール、カルボン酸変性ポリビニルアルコール、ジアセトン変性ポリビニルアルコール、チオール変性ポリビニルアルコール、アセタール変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。これらの変性ポリビニルアルコールは、市販品を使用してもよく、あるいは当該分野で公知の方法で製造したものを使用してもよい。

また、末端をカチオン変性したポリビニルアルコールやアニオン性基を有するアニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン変性ポリビニルアルコール等の変性ポリビニルアルコールも用いてもよい。

カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開昭６１−１０４８３号公報に記載されているような第１級〜第３級アミノ基や第４級アンモニウム基を上記ポリビニルアルコールの主鎖または側鎖中に有するポリビニルアルコールが挙げられ、カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体をケン化することにより得られる。

カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、トリメチル−（２−アクリルアミド−２，２−ジメチルエチル）アンモニウムクロライド、トリメチル−（３−アクリルアミド−３，３−ジメチルプロピル）アンモニウムクロライド、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニル−２−メチルイミダゾール、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）メタクリルアミド、ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド、トリメチル−（２−メタクリルアミドプロピル）アンモニウムクロライド、Ｎ−（１，１−ジメチル−３−ジメチルアミノプロピル）アクリルアミド等が挙げられる。カチオン変性ポリビニルアルコールのカチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体の比率は、酢酸ビニルに対して０．１〜１０モル％、好ましくは０．２〜５モル％である。

アニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平１−２０６０８８号公報に記載されているようなアニオン性基を有するポリビニルアルコール、特開昭６１−２３７６８１号公報および同６３−３０７９７９号公報に記載されているようなビニルアルコールと水溶性基を有するビニル化合物との共重合体、および特開平７−２８５２６５号公報に記載されているような水溶性基を有する変性ポリビニルアルコールが挙げられる。

そして、ノニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平７−９７５８号公報に記載されているようなポリアルキレンオキサイド基をビニルアルコールの一部に付加したポリビニルアルコール誘導体、特開平８−２５７９５号公報に記載されている疎水性基を有するビニル化合物とビニルアルコールとのブロック共重合体等が挙げられる。

上述の変性ポリビニルアルコールのうち、（１）平均重合度２００以上２４００以下の未変性ポリビニルアルコールと、（２）不飽和カルボン酸並びにその塩およびエステルからなる群から選択される１種または２種以上の重合性ビニル単量体とを共重合させて得られる共重合体（グラフト共重合体）を用いることが好ましい。

なお、変性ポリビニルアルコールが上記グラフト共重合体である場合において、当該グラフト共重合体を構成する（１）平均重合度２００以上２４００以下の未変性ポリビニルアルコールとして、上述した各種の変性ポリビニルアルコールを用いてもよい。

変性ポリビニルアルコールの原料となる未変性ポリビニルアルコールとしては、平均重合度が約２００〜２４００、好ましくは平均重合度約９００〜２４００、より好ましくは平均重合度約１３００〜１７００である。また、未変性ポリビニルアルコールのケン化度は、好ましくは約６０〜１００モル％、より好ましくは７８〜９６モル％である。このようなケン化ポリビニルアルコールは、酢酸ビニルをラジカル重合し、得られたポリ酢酸ビニルを適宜、ケン化することによって製造することができ、所望の未変性ポリビニルアルコールを製造するためには、適宜、重合度、ケン化度をそれ自体公知の方法で制御することによって達成される。

なお、こうした部分ケン化ポリビニルアルコールとしては、市販品を使用することも可能であり、好ましい未変性ポリビニルアルコールの市販品としては、例えばゴーセノールＥＧ０５、ＥＧ２５（日本合成化学工業株式会社製）、ＰＶＡ２０３（株式会社クラレ製）、ＰＶＡ２０４（株式会社クラレ製）、ＰＶＡ２０５（株式会社クラレ製）、ＪＰ−０４（日本酢ビ・ポバール株式会社製）、ＪＰ−０５（日本酢ビ・ポバール株式会社製）等が挙げられる。なお、変性ポリビニルアルコールの原料として１種のみの未変性ポリビニルアルコールを単独で使用するのみならず、重合度、ケン化度の異なる２種以上の未変性ポリビニルアルコールを目的に応じて適宜併用することができる。例えば、平均重合度３００の未変性ポリビニルアルコールと平均重合度１５００の未変性ポリビニルアルコールとを混合して使用することが可能である。

原料の未変性（変性）ポリビニルアルコールと重合させる重合性ビニル単量体としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、フマル酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸類またはそれらの塩（例えばアルカリ金属塩、アンモニウム塩、アルキルアミン塩）、それらのエステル類（例えば置換または非置換のアルキルエステル、環状アルキルエステル、ポリアルキレングリコールエステル）、不飽和ニトリル類、不飽和アミド類、芳香族ビニル類、脂肪族ビニル類、不飽和結合含有複素環類等が挙げられる。具体的には、（ａ）アクリル酸エステル類としては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ポリエチレングリコールアクリレート（ポリエチレングリコールとアクリル酸とのエステル）、ポリプロピレングリコールアクリレート（ポリプロピレングリコールとアクリル酸とのエステル）などが、（ｂ）メタクリル酸エステル類としては、例えばメチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ポリエチレングリコールメタクリレート（ポリエチレングリコールとメタクリル酸とのエステル）などが、（ｃ）不飽和ニトリル類としては、例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリルなどが、（ｄ）不飽和アミド類としては例えばアクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、メタクリルアミドなどが、（ｅ）芳香族ビニル類としてはスチレン、α−メチルスチレンなどが、（ｆ）脂肪族ビニル類としては、酢酸ビニルなどが、（ｇ）不飽和結合含有複素環類としては、Ｎ−ビニルピロリドン、アクリロイルモルホリンなどが例示される。

上述の変性ポリビニルアルコールは、未変性ポリビニルアルコールまたはその誘導体をそれ自体公知の方法で変性処理することにより製造することができる。

特に、変性ポリビニルアルコールとしての上記グラフト共重合体を製造する方法としては、ラジカル重合、例えば溶液重合、懸濁重合、乳化重合および塊状重合などのそれ自体公知の方法を挙げることができ、各々の通常の重合条件下で実施することができる。この重合反応は、通常、重合開始剤の存在下、必要に応じて還元剤（例えば、エリソルビン酸ナトリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム、アスコルビン酸）、連鎖移動剤（例えば２−メルカプトエタノール、α−メチルスチレンダイマー、２−エチルヘキシルチオグリコレート、ラウリルメルカプタン）あるいは分散剤（例えばソルビタンエステル、ラウリルアルコールなどの界面活性剤）等の存在下、水、有機溶媒（例えばメタノール、エタノール、セロソルブ、カルビトール）あるいはそれらの混合物中で実施される。また、未反応の単量体の除去方法、乾燥、粉砕方法等も公知の方法でよく、特に制限はない。

ゼラチン
本発明で用いられるゼラチンとしては、従来、ハロゲン化銀写真感光材料分野で広く用いられてきた各種ゼラチンを挙げることができる。例えば、酸処理ゼラチン、アルカリ処理ゼラチンの他に、ゼラチンの製造過程で酵素処理をする酵素処理ゼラチンおよびゼラチン誘導体、すなわち分子中に官能基としてのアミノ基、イミノ基、ヒドロキシ基、またはカルボキシ基を有し、それと反応して得る基を持った試薬で処理し改質したものでもよい。ゼラチンの一般的製造法に関しては良く知られており、例えば、Ｔ．Ｈ．Ｊａｍｅｓ：Ｔｈｅ Ｔｈｅｏｒｙ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｐｒｏｃｅｓｓ ４ｔｈ．ｅｄ．１９７７（Ｍａｃｍｉｌｌａｎ）５５頁、科学写真便覧（上）７２〜７５頁（丸善株式会社）、写真工学の基礎−銀塩写真編 １１９〜１２４頁（コロナ社）等の記載を参考にすることができる。また、リサーチ・ディスクロージャー誌第１７６巻、Ｎｏ．１７６４３（１９７８年１２月）のＩＸページに記載されているゼラチンを挙げることができる。

増粘多糖類
本発明で用いられる増粘多糖類としては、特に制限はなく、例えば、一般に知られている天然単純多糖類、天然複合多糖類、合成単純多糖類および合成複合多糖類などを挙げることができる。これら増粘多糖類の詳細については、「生化学辞典（第２版）」（東京化学同人）、「食品工業」第３１巻（１９８８）２１頁等を参照することができる。

前記増粘多糖類とは、糖類の重合体で、分子内に水素結合基を多数有するものであり、温度による分子間の水素結合力の違いにより、低温時の粘度と高温時の粘度との差が大きいという特性を備えた多糖類であり、さらに金属酸化物粒子や多価金属化合物を添加すると、低温時に金属酸化物粒子または多価金属化合物との反応により金属酸化物粒子または多価金属化合物との水素結合またはイオン結合を形成して、粘度上昇またはゲル化を引き起こすものである。粘度の上昇幅は、金属酸化物粒子または多価金属化合物の添加前の１５℃における粘度と比較して、１５℃の粘度で、１．０ｍＰａ・ｓ以上であることが好ましい。粘度上昇幅は、より好ましくは５．０ｍＰａ・ｓ以上であり、さらに好ましくは１０．０ｍＰａ・ｓ以上である。なお、本明細書において、粘度は、ブルックフィールド粘度計により測定した値を採用するものとする。

本発明に適用可能な増粘多糖類のさらに具体的な例としては、例えば、ペクチン、ガラクタン（例えば、アガロース、アガロペクチン等）、ガラクトマンノグリカン（例えば、ローカストビーンガム、グアラン等）、キシログルカン（例えば、タマリンドガム、タマリンドシードガム等）、グルコマンノグリカン（例えば、蒟蒻マンナン、木材由来グルコマンナン、キサンタンガム等）、ガラクトグルコマンノグリカン（例えば、針葉樹材由来グリカン）、アラビノガラクトグリカン（例えば、大豆由来グリカン、微生物由来グリカン等）、グルコラムノグリカン（例えば、ゲランガム等）、グリコサミノグリカン（例えば、ヒアルロン酸、ケラタン硫酸等）、アルギン酸およびアルギン酸塩、寒天、κ−カラギーナン、λ−カラギーナン、ι−カラギーナン、ファーセレラン等の紅藻類に由来する天然高分子多糖類、カルボキシメチルセルロース（セルロースカルボキシメチルエーテル）、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等のセルロース類が挙げられる。塗布液中に共存しうる金属酸化物粒子の分散安定性を低下させないという観点から、その構成単位がカルボン酸基やスルホン酸基を有しないものが好ましい。その様な多糖類としては、例えば、Ｌ−アラビトース、Ｄ−リボース、２−デオキシリボース、Ｄ−キシロースなどのペントース、Ｄ−グルコース、Ｄ−フルクトース、Ｄ−マンノース、Ｄ−ガラクトースなどのヘキソースのみからなる多糖類であることが好ましい。具体的には、主鎖がグルコースであり、側鎖もグルコースであるキシログルカンとして知られるタマリンドシードガムや、主鎖がマンノースで側鎖がグルコースであるガラクトマンナンとして知られるグアーガム、カチオン化グアーガム、ヒドロキシプロピルグアーガム、ローカストビーンガム、タラガムや、主鎖がガラクトースで側鎖がアラビノースであるアラビノガラクタンを好ましく使用することができる。

上述の高分子は単独で用いてもよいし、２種類以上を混合して用いてもよい。

また、高分子の質量平均分子量は１０００以上であることが好ましく、５０００〜１００００００であることがより好ましく、１００００〜１０００００であることがさらに好ましい。なお、本明細書において、質量平均分子量とは、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨｘＬまたはＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ（東ソー株式会社製）のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトフラフィ（ＧＰＣ）分析装置（溶媒：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ））により、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量を意味する。

塗布液中の高分子の濃度は、０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．１〜１０質量％であることがより好ましい。高分子の濃度が上記範囲にあると、塗布液が一定の粘性を有し成膜に有利となりうることから好ましい。

（溶媒）
本発明で用いられうる溶媒は、特に制限されないが、水、有機溶媒、またはその混合溶媒等が挙げられる。

前記有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノールなどのアルコール類；酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエステル類；ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類；アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノンなどのケトン類などが挙げられる。これら有機溶媒は、単独でもまたは２種以上を混合して用いてもよい。環境面、操作の簡便性などから、塗布液の溶媒としては、水、または水とメタノール、エタノール、もしくは酢酸エチルとの混合溶媒を用いることが好ましく、水を用いることがより好ましい。

（架橋剤）
架橋剤は、高分子を硬化させる機能を有する。硬化によって、屈折率層に耐水性が付与されうる。

用いられうる架橋剤としては、高分子と硬化反応を起こすものであれば特に制限されない。例えば、高分子が未変性ポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールである場合には、ホウ酸およびその塩（ホウ素原子を中心原子とする酸素酸およびその塩）、具体的には、オルトホウ酸、二ホウ酸、メタホウ酸、四ホウ酸、五ホウ酸、および八ホウ酸またはそれらの塩を用いることが好ましい。ホウ酸およびその塩は、単独の水溶液でも、また、２種以上を混合して使用してもよく、ホウ酸およびホウ砂の混合水溶液を用いることが特に好ましい。他にも公知の化合物を使用することができ、一般的には高分子と反応しうる基を有する化合物、または樹脂が有する異なる基同士の反応を促進するような化合物であり、樹脂の種類に応じて適宜選択して用いられる。架橋剤の具体例としては、例えば、ジグリシジルエチルエ−テル、エチレングリコ−ルジグリシジルエーテル、１，４一ブタンジオ−ルジグリシジルエーテル、１，６−ジグリシジルシクロヘキサン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジル−４−グリシジルオキシアニリン、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロ−ルポリグリシジルエーテル等のエポキシ系架橋剤；ホルムアルデヒド、グリオキザ−ル等のアルデヒド系架橋剤；２，４−ジクロロ−４−ヒドロキシ−１，３，５−Ｓ−トリアジン等の活性ハロゲン系架橋剤；１．３．５−トリス−アクリロイル−ヘキサヒドロ−Ｓ−トリアジン、ビスビニルスルホニルメチルエーテル等の活性ビニル系化合物；アルミニウム明礬等が挙げられる。

また、樹脂としてゼラチンを用いる場合は、架橋剤として、例えば、ビニルスルホン化合物、尿素−ホルマリン縮合物、メラニン−ホルマリン縮合物、エポキシ系化合物、アジリジン系化合物、活性オレフィン類、イソシアネート系化合物などの有機硬膜剤、クロム、アルミニウム、ジルコニウムなどの無機多価金属塩類などを用いるとよい。

塗布液中の架橋剤の濃度は、０．００１〜２０質量％であることが好ましく、０．０１〜１０質量％であることがより好ましい。架橋剤が上記範囲にあると、塗布液が一定の曳糸性や粘性を有し成膜に有利となり、また、形成される屈折率層が好適な耐水性を有しうることから好ましい。

（金属酸化物粒子）
用いられうる金属酸化物粒子としては、特に制限されないが、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）、酸化ニオブ（Ｎｂ_２Ｏ_５）、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）、酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ_２）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化アンチモンスズ（ＡＴＯ）等が挙げられる。これらのうち、高屈折率層用塗布液には酸化チタン（ＴｉＯ_２）を、低屈折率層用塗布液には酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）を、それぞれ用いることが好ましい。

前記酸化チタン（ＴｉＯ_２）としては、特に屈折率が高く、触媒活性が低いルチル型の酸化チタンを用いることが好ましい。なお、触媒活性が低いと、屈折率層や隣接する層で生じる副反応（光触媒反応）が抑制されて耐候性が高くなりうる。

また、前記酸化チタンは、ｐＨが１．０〜３．０かつチタン粒子のゼータ電位が正である水系の酸化チタンゾルの表面を疎水化して有機溶剤に分散可能な状態にしたものを用いることが好ましい。前記水系の酸化チタンゾルの調製方法としては、たとえば、特開昭６３−１７２２１号公報、特開平７−８１９号公報、特開平９−１６５２１８号公報、特開平１１−４３３２７号公報、特開昭６３−１７２２１号公報、特開平７−８１９号公報、特開平９−１６５２１８号公報、特開平１１−４３３２７号公報等に記載された事項を参照することができる。

また、酸化チタン粒子のその他の製造方法については、たとえば、「酸化チタン−物性と応用技術」（清野学 ｐ２５５〜２５８（２０００年）技報堂出版株式会社）に記載の方法、またはＷＯ２００７／０３９９５３号明細書の段落「００１１」〜「００２３」に記載の工程（２）の方法を参考にすることができる。前記工程（２）による製造方法とは、二酸化チタン水和物をアルカリ金属の水酸化物およびアルカリ土類金属の水酸化物からなる群から選択される少なくとも１種の塩基性化合物で処理する工程（１）で得られた二酸化チタン分散物を、カルボン酸基含有化合物および無機酸で処理するものである。本発明では、工程（２）における無機酸によりｐＨが１．０〜３．０に調整された酸化チタンの水系ゾルを用いることができる。

前記酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）としては、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ等が挙げられる。これらのうち、酸性のコロイダルシリカゾルを用いることがより好ましく、水および／または有機溶媒に分散させたコロイダルシリカゾルを用いることがさらに好ましい。上記のコロイダルシリカは、ケイ酸ナトリウムの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通過させて得られるシリカゾルを加熱熟成して得られうる。かようなコロイダルシリカは、例えば、特開昭５７−１４０９１号公報、特開昭６０−２１９０８３号公報、特開昭６０−２１９０８４号公報、特開昭６１−２０７９２号公報、特開昭６１−１８８１８３号公報、特開昭６３−１７８０７号公報、特開平４−９３２８４号公報、特開平５−２７８３２４号公報、特開平６−９２０１１号公報、特開平６−１８３１３４号公報、特開平６−２９７８３０号公報、特開平７−８１２１４号公報、特開平７−１０１１４２号公報、特開平７−１７９０２９号公報、特開平７−１３７４３１号公報、および国際公開第９４／２６５３０号パンフレット等に記載されている。また、コロイダルシリカは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。

上記金属酸化物粒子は、単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。

金属酸化物粒子の平均粒径は、２〜１００ｎｍであることが好ましく、３〜５０ｎｍであることがより好ましく、４〜３０ｎｍであることがさらに好ましい。当該金属酸化物粒子の平均粒径は、粒子そのものあるいは屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、１０００個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値（個数平均）として求められる。ここで個々の粒子の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。

塗布液中の金属酸化物粒子の濃度は、屈折率層の固形分１００質量％に対して、２０〜７０質量％であることが好ましく、３０〜７０質量％であることがより好ましい。金属酸化物粒子の含有量が２０質量％以上であると、所望の屈折率が得られることから好ましい。また、金属酸化物粒子の含有量が７０質量％以下であると、膜の柔軟性を得ることができ、製膜が容易となることから好ましい。

また、屈折率の異なる屈折率層（例えば、高屈折率層と低屈折率層）がいずれも金属酸化物粒子を含む場合には、アニオン化処理またはカチオン化処理を行い、金属酸化物粒子が同一のイオン性（電荷）を有することが好ましい。アニオン化処理またはカチオン化処理を行うことによって、２種の金属酸化物粒子との間に斥力が生じ、これによって、例えば、重層塗布して屈折率層を形成する際に層界面での凝集等が起こりにくくなりうる。

金属酸化物粒子のアニオン化処理として、例えば、酸化チタンのアニオン処理を例示すると、当該酸化チタン粒子は、含ケイ素の水和酸化物で被覆することによりアニオン化することができる。含ケイ素の水和化合物の被覆量は、通常、３〜３０質量％であり、好ましくは３〜１０質量％であり、より好ましくは３〜８質量％である。被覆量が３０質量％以下であると高屈折率層の所望の屈折率化が得られることから好ましく、被覆量が３％以上であると粒子を安定に形成することができることから好ましい。

金属酸化物粒子のカチオン化処理は、例えば、カチオン性化合物を用いることにより行うことができる。前記カチオン性化合物の例としては、カチオン性ポリマー、多価金属塩等が挙げられるが、吸着力・透明性の観点から多価金属塩が好ましい。多価金属塩としては、アルミニウム、カルシウム、マグネシウム、亜鉛、鉄、ストロンチウム、バリウム、ニッケル、銅、スカンジウム、ガリウム、インジウム、チタン、ジルコニウム、スズ、鉛等の金属の塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、酢酸塩、ギ酸塩、コハク酸塩、マロン酸塩、クロロ酢酸塩等が挙げられる。これらのうち、水溶性アルミニウム化合物、水溶性カルシウム化合物、水溶性マグネシウム化合物、水溶性亜鉛化合物、水溶性ジルコニウム化合物を用いることが好ましく、水溶性アルミニウム化合物、水溶性ジルコニウム化合物を用いることがより好ましい。前記水溶性アルミニウム化合物の具体例としては、ポリ塩化アルミニウム（塩基性塩化アルミニウム）、硫酸アルミニウム、塩基性硫酸アルミニウム、硫酸アルミニウムカリウム（ミョウバン）、硫酸アンモニウムアルミニウム（アンモニウムミョウバン）、硫酸ナトリウムアルミニウム、硝酸アルミニウム、リン酸アルミニウム、炭酸アルミニウム、ポリ硫酸ケイ酸アルミニウム、酢酸アルミニウム、塩基性乳酸アルミニウム等が挙げられる。当該カチオン性化合物の被覆量は、金属酸化物粒子の形状や粒径等によって異なるが、金属酸化物粒子に対しては１質量％〜１５質量％であることが好ましい。

（エマルジョン樹脂）
エマルジョン樹脂は、通常、塗布液に分散されたポリマーである。当該エマルジョン樹脂は、後述する工程（２）における塗布時に互いに融着しうる。エマルジョン樹脂は、油溶性のモノマーを、高分子分散剤等を用いてエマルジョン重合して得られる。

用いられうる油溶性のモノマーは、特に制限されないが、エチレン、プロピレン、ブタジエン、酢酸ビニルおよびその部分加水分解物、ビニルエーテル、アクリル酸およびそのエステル類、メタクリル酸およびそのエステル類、アクリルアミドおよびその誘導体、メタクリルアミドおよびその誘導体、スチレン、ジビニルベンゼン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、マレイン酸、ビニルピロリドンなどが挙げられる。これらのうち、透明性と粒径の観点から、アクリル酸およびそのエステル類、酢酸ビニル系を用いることが好ましい。

アクリル酸および／またはそのエステル類、酢酸ビニル系エマルジョンとしては、市販されているものを用いてもよく、例えば、アクリットＵＷ−３０９、ＵＷ−３１９ＳＸ、ＵＷ−５２０（大成ファインケミカル株式会社製）、およびモビニール（日本合成化学工業株式会社製）等が挙げられる。

また、用いられうる分散剤は、特に制限されないが、アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、ジエチルアミン、エチレンジアミン、第４級アンモニウム塩のような低分子の分散剤の他に、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエキシエチレンラウリル酸エーテル、ヒドロキシエチルセルロース、ポリビニルピロリドンのような高分子分散剤が挙げられる。

上述したエマルジョンは、柔軟性を高める観点から、ガラス転移温度（Ｔｇ）が２０℃以下であることが好ましく、−３０〜１０℃であることがより好ましい。

（その他の添加剤）
本発明に係る屈折率層に適用可能なその他の添加剤を、以下に列挙する。例えば、特開昭５７−７４１９３号公報、特開昭５７−８７９８８号公報、および特開昭６２−２６１４７６号公報に記載の紫外線吸収剤、アニオン、カチオン、またはノニオンの各種界面活性剤、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のｐＨ調整剤、消泡剤、ジエチレングリコール等の潤滑剤、防腐剤、防黴剤、帯電防止剤、マット剤、酸化防止剤、難燃剤、赤外線吸収剤、色素、顔料等の公知の各種添加剤などが挙げられる。

［塗布液の調製工程］
塗布液の調製方法は、特に制限されず、例えば、高分子、および必要に応じて架橋剤、金属酸化物粒子等の添加剤を溶媒に添加し、撹拌混合する方法が挙げられる。この際、各成分の添加順も特に制限されず、撹拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、撹拌しながら一度に添加し混合してもよい。

塗布液中において、前記高分子は分子間および分子内において、末端基による結合、架橋剤における結合、分子どうしの絡み合い等の相互作用が生じる場合があり、このような高分子は、見かけの分子サイズが大きくなっている。当該見かけの分子サイズの増大は、前記相互作用の有無およびその度合い等によって異なることから、塗布液中には、見かけの分子サイズが異なる種々の高分子が混在することになる。このような状態で基材上に塗布液を塗布すると、塗布液が基材に接する際に、塗布液が均一な厚さに引き伸ばされることなく塗膜が形成される。その結果、屈折率層の膜厚にバラツキが生じる。このような膜厚のバラツキは、ナノオーダーで屈折率層を形成する場合にはより顕著となる。

上記高分子の相互作用は、塗布液中の高分子の質量平均分子量が１０００以上であるとき、塗布液中に高分子を０．０１質量％以上含むとき、塗布液中に架橋剤を０．００１質量％以上含むとき、および塗布液中に高分子との結合反応を伴う固形物（たとえば、粒子）を含むとき等において特に生じうる。

そこで、本形態では、塗布液に、せん断速度１０００（１／ｓｅｃ）以上、好ましくは５０００〜１０００００００（１／ｓｅｃ）、より好ましくは１００００〜１，００００００（１／ｓｅｃ）のせん断処理を加える。塗布液にせん断速度１０００（１／ｓｅｃ）以上のせん断処理を加えることによって、高分子に生じた相互作用を解消できる。その結果、塗布液中に存在する高分子の見かけの分子サイズは近似した値をとると考えられる。このような塗布液を基材上に塗布することにより、均一な膜厚の塗膜が形成されうる。

本明細書において、「せん断処理」とは、所定のせん断速度で塗布液を処理することを意味する。より詳細には、所定の間隙を有する流路等において、所定の速度で塗布液を移動させて、塗布液にせん断力を付与することを意味する。せん断処理によって、高分子に生じた相互作用の少なくとも一部を解消させることができる。ここで、本明細書において、「せん断速度」とは、下記式（１）により算出される。

「最小間隙」とは、塗布液が移動する流路のうち、せん断力が付与される最小の間隙をいう。また、「速度」とは、前記最小間隙を塗布液が通過する際の塗布液の移動速度をいう。この際、一定の速度で塗布液を移動させた場合には、最小間隙を通過するときに最も高いせん断力が付与される。

本形態において、せん断処理は、塗布液へのせん断速度が１０００（１／ｓｅｃ）以上となるものであればどのような方法によって行ってもよい。せん断処理は、例えば、分散装置、吐出装置、および高速撹拌装置によって行われうる。

分散装置
分散装置としては、マイルダー、圧力式ホモジナイザー、高速回転せん断型ホモジナイザー等が用いられうる。以下、マイルダーおよび圧力式ホモジナイザーを用いた場合におけるせん断処理について詳細に説明する。

図１は、分散装置の一形態であるマイルダーの模式図である。図１のマイルダーは、固定歯であるステーター歯１と、回転歯であるローター歯２とを有する。前記ステーター歯１と前記ローター歯２との間隙（せん断間隙）Ｌａを移動する塗布液４は、ローター歯２の半径方向に速度勾配（ずり速度）が生じる。当該速度勾配によって、前記ステーター歯１および前記ローター歯２間に内部摩擦力（せん断力）が発生する。塗布液４中の高分子は、せん断力を受けながらせん断間隙Ｌａを通過するため、高分子の分子構造が壊されて流れ方向に分子が配向し、結果として高分子に生じる相互作用が解消しうる。図１において、せん断間隙Ｌａが式（１）における「最小間隙」に該当し、最小間隙であるせん断間隙Ｌａを移動する際の塗布液４の速度が式（１）における「速度」に該当する。なお、せん断間隙３への塗布液５の導入は、ローター歯２のスリット間隙から前記半径方向に行っているため、せん断間隙Ｌａに流れる塗布液４と導入した塗布液５とは、連続的に衝突を繰り返していることとなる。すなわち、図１のマイルダーによれば、塗布液に対してせん断および混合が連続的に行われていることとなる。

前記マイルダーにおいて、せん断間隙におけるステーター歯とローター歯との最小間隙は０．０５〜０．５ｍｍであることが好ましく、０．１〜０．３ｍｍであることがより好ましい。また、ローター歯の回転速度としては、１〜５００ｍ／ｓであることが好ましく、３〜３００ｍ／ｓであることがより好ましい。せん断間隙におけるステーター歯とローター歯との最小間隙やローター歯の回転速度等を適宜設定することで、せん断速度を調節することができる。

上記のようなマイルダーとしては、例えば、エバラマイルダー（株式会社荏原製作所製）、マイルダー（大平洋機工株式会社製）等を用いることができる。

図２は、分散装置の一形態である圧力式ホモジナイザーの模式図である。図２の圧力式ホモジナイザーは、バルブシート１１と、バルブ１２とを有する。加圧機構（図示せず）により供給された塗布液１４は、バルブシート１１間を高圧かつ高速で移動する。当該塗布液が、バルブシート１１およびバルブ１２の狭い間隙Ｌｂを通過する際、バリブ１２に衝突して流れの方向が変わった塗布液と、間隙Ｌｂを通過しようとする塗布液との間で液同士の摩擦が発生し、その結果として、塗布液に大きなせん断力が生じると考えられる。このせん断力は、最小間隙Ｌｂに比例する。図２において、間隙Ｌｂは、せん断力が付与される最小の間隙であり、式（１）における「最小間隙」に該当する。また、最小間隙である間隙Ｌｂを移動する際の塗布液１４の速度が式（１）における「速度」に該当する。

前記圧力式ホモジナイザーにおいて、バルブシートとバルブとの距離は０．０５〜０．５ｍｍであることが好ましく、０．１〜０．３ｍｍであることがより好ましい。また、バルブシートおよびバルブ間を通過する際の速度としては、１〜５００ｍ／ｓであることが好ましく、３〜３００ｍ／ｓであることがより好ましい。バルブシートとバルブとの距離や加圧機構における塗布液の供給条件等を適宜設定することで、せん断速度を調節することができる。

上記のような圧力式ホモジナイザーとしては、例えば、圧力式ホモジナイザーＬＡＢ１０００（株式会社エスエムテー製）等を用いることができる。

なお、高速回転せん断型ホモジナイザーは、マイルダーと類似した構成を有しており、高速回転するローターと狭い間隙を経て近接するステーターとの間でせん断処理を行う処理装置である。高速で回転するローターにより塗布液が流動し、ステーターとの間で生じる速度勾配で発生したせん断と、塗布液同士の衝突によるせん断で上記と同様にして高分子間の相互作用が解消しうると考えられる。

高速回転せん断型ホモジナイザーとしては、例えば、Ｔ.Ｋ.ロボミックス（プライミクス株式会社製）、クレアミックスＣＬＭ−０．８Ｓ（エム・テクニック株式会社製）、ホモジナイザー（マイクロテック・ニチオン社製）等を用いることができる。

吐出装置
吐出装置としては、キアポンプ、モーノポンプ、ロータリーポンプ等の回転ポンプが用いられうる。以下、ギアポンプを用いた場合におけるせん断処理について詳細に説明する。

図３は、吐出装置の一形態である外接型ギアポンプの模式図である。図３の外接型ギアポンプは、歯車２２ａと、歯車２２ｂとを有する。歯車２２ａおよび歯車２２ｂは、中央で歯が噛みあいながら回転する。塗布液２４は、歯車２２ａおよび２２ｂにより分離され、歯車２２ａまたは２２ｂと、外箱２１との間隙Ｌｃを移動する。この際、移動する歯車２２ａまたは２２ｂと、固定された外箱２１との間を移動する塗布液２４には速度勾配（ずり速度）が生じ、これによってせん断力が生じる。図３において、間隙Ｌｃが式（１）における「最小間隙」に該当し、最小間隙である間隙Ｌｃを移動する際の塗布液２４の速度が式（１）における「速度」に該当する。

前記外接型ギアポンプおいて、歯車と外箱との距離は１〜１０ｍｍであることが好ましく、１〜５ｍｍであることがより好ましい。また、歯車および外箱を通過する際の速度としては、１〜１０ｍ／ｓであることが好ましく、２〜１０ｍ／ｓであることがより好ましい。歯車と外箱との距離や歯車の回転速度等を適宜設定することで、せん断速度を調節することができる。

また、図３の外接型ギアポンプの他、外歯歯車および内歯歯車を使用する内接型ギアポンプを用いてもよい。前記内接型ギアポンプは、最小間隙が小さくなることから、より好適に用いられうる。

上記のようなギアポンプとしては、例えば、ケミカルギヤポンプＧＸ−２５Ｓ（株式会社イワキ製）等を用いることができる。

高速撹拌装置
高速撹拌装置としては、高速回転型の汎用撹拌装置、分散装置にも用いられる密閉タイプの高速撹拌装置等が用いられうる。以下、高速回転型の汎用撹拌装置を用いた場合におけるせん断処理について詳細に説明する。

図４は、高速撹拌装置の一形態である汎用撹拌装置の模式図である。図４の汎用撹拌装置は、撹拌羽根３２を有する。撹拌羽根３２が回転することにより、処理室内に供給された塗布液３４は撹拌される。この際、撹拌羽根３２の撹拌により、塗布液３４は処理室の内壁３１に衝突し、その後、内壁３１に沿って移動する。これによってせん断力が生じる。よって、内壁３１に衝突する際の塗布液の速度は、撹拌羽根３２の回転速度に対応することから、撹拌羽根３２の先端部と内壁３１との間隙Ｌｄが式（１）における「最小間隙」に該当し、撹拌羽根３２の回転速度が式（１）における「速度」に該当する。なお、汎用撹拌装置はせん断力の付与と同時に塗布液３４の混合も同時に行っており、塗布液３４にはせん断および混合が連続的に行われていることとなる。

前記汎用撹拌装置おいて、撹拌羽根の先端部と処理室の内壁との距離は１〜１０ｍｍであることが好ましく、１〜５ｍｍであることがより好ましい。また、撹拌羽根の回転速度としては、１〜１０ｍ／ｓであることが好ましく、２〜１０ｍ／ｓであることがより好ましい。撹拌羽根の先端部と処理室の内壁との距離や撹拌羽根の回転速度等を適宜設定することで、せん断速度を調節することができる。

上記のような汎用撹拌装置としては、例えば、スリーワンモーターＬＢシリーズ（新東科学株式会社製）、スーパーミキサー（佐竹化学機械工業製）等を用いることができる。

せん断処理の温度は、せん断速度の数値、塗布液中の高分子の種類および含有量によっても異なるが、２０〜７０℃であることが好ましく、２５〜６０℃であることが装置への熱的負荷や作業安全性の観点より好ましい。

また、せん断処理の時間は、せん断速度の数値、塗布液中の高分子の種類および含有量によっても異なり、特に制限されるものではないが、連続処理や生産性の観点からは０．０１〜１０分であることが好ましく、０．０１〜２分であることがより好ましい。

せん断処理を行って得られた塗布液の粘度は、塗布液の温度や塗布液の種類によっても異なるが、１〜２０００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、１〜１０００ｍＰａ・ｓであることがより好ましい。塗布液の粘度が上記範囲にあると、塗布液が高い塗布性を有し、膜厚のバラツキの発生を抑制しうる。なお、塗布液の粘度は、高分子に生じうる相互作用の影響を受けることから、せん断処理により塗布液の粘度を調節することができる。

工程（１）のせん断処理により解消された高分子の相互作用は、高分子の性質上、時間とともに元に戻る場合がある。相互作用が再度生じてしまうと、塗布液中に見かけの分子量が異なる種々の高分子が混在することとなり、膜厚のバラツキが生じうる。そこで、工程（１）の後は、速やかに後述する工程（２）を行うことが好ましい。より詳細には、工程（１）の後、工程（２）を行うまでの時間は、塗布液の種類や塗布液が停滞されている条件によっても異なるが、３時間以内であることが好ましく、１時間以内であることがより好ましく、３０分以内であることがさらに好ましい。

＜工程（２）＞
工程（２）は、工程（１）で得られた塗布液を基材上に塗布して塗膜を形成する工程である。

［基材］
本発明の光学フィルムに適用する基材としては、透明であれば特に制限されることはなく、公知の樹脂フィルムを用いることができる。具体的には、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリアリレート、ポリメタクリル酸メチル、ポリアミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリイミド、芳香族ポリアミド、ポリエーテルイミド等が挙げられる。これらのうち、コストや入手の容易性の観点から、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート（ＰＣ）等を用いることが好ましい。

また、上記樹脂フィルムを用いた基材は、未延伸フィルムであっても、延伸フィルムであってもよいが、ＰＥＴやＰＥＮのような結晶性を有する樹脂フィルムの場合には、強度の向上、熱膨張抑制の観点から延伸後、熱固定化されるフィルムであることが好ましい。

上記樹脂フィルムを用いた基材は、従来公知の一般的な方法により製造することができる。例えば、材料となる樹脂を押し出し機により溶融し、環状ダイやＴダイにより押し出して急冷することにより、実質的に無定形で配向していない未延伸フィルムを製造することができる。また、前記未延伸フィルムを一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸などの公知の方法により、樹脂フィルムの流れ（縦軸）方向、および／または樹脂フィルムの流れ方向と直角（横軸）方向に延伸することにより延伸フィルムを製造することができる。この場合の延伸倍率は、基材の原料となる樹脂に合わせて適宜選択することできるが、縦軸方向および横軸方向にそれぞれ２〜１０倍であることが好ましい。

本発明に係る基材の厚さは、５〜３００μｍであることが好ましく、１５〜１５０μｍであることがより好ましい。また、基材は、２枚以上を重ねたものであってもよく、この際、基材の種類は同じであっても、異なっていてもよい。

また、基材は、寸法安定性の観点から、弛緩処理およびオフライン熱処理を行ってもよい。弛緩処理は前記樹脂フィルムの延伸製膜工程中の熱固定した後、横延伸のテンター内、またはテンターを出た後の巻き取りまでの工程で行われることが好ましい。弛緩処理は処理温度が８０〜２００℃で行われることが好ましく、１００〜１８０℃で行われることがより好ましい。また長手方向、幅手方向ともに、弛緩率が０．１〜１０％に処理されることが好ましく、２〜６％に処理されることがより好ましい。弛緩処理された基材は、さらにオフライン熱処理を施すことにより耐熱性が向上し、より寸法安定性が向上しうる。

前記基材は、製膜過程で片面または両面に、下引層を設けることが好ましい。当該下引層は、インラインでまたは製膜後に形成されうる。下引層の形成方法としては、例えば、下引層塗布液を塗布し、得られた塗膜を乾燥する方法が挙げられる。下引層塗布液は、通常、樹脂を含む。当該樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル変性ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリエチレンイミンビニリデン樹脂、ポリスチレンブタジエン樹脂、ポリエチレンイミン樹脂、ポリビニルアルコール、およびゼラチン等が挙げられる。前記下引層塗布液には、さらに公知の添加剤を加えてもよい。下引層塗布液の塗布量は、乾燥状態で約０．０１〜２ｇ／ｍ^２となるように塗布することが好ましい。下引層塗布液の塗布方法としては、特に制限されないが、ロールコート法、グラビアコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法等の公知の方法が用いられうる。得られた塗膜は延伸させてもよく、通常、塗布液を塗布した後にテンター内で横延伸を行いながら８０〜１２０℃で乾燥させることで、下引層が形成されうる。なお、下引層は、単層構造であっても、積層構造であってもよい。

本発明に係る基材は、さらに導電性層、帯電防止層、ガスバリア層、易接着層（接着層）、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、ハードコート層、耐摩耗性層、粘着層、中間膜層等の公知の機能層を有していてもよい。

基材が、上述の下引層や機能層等の中間層を有する場合には、基材および中間層の総膜厚は、５〜５００μｍであることが好ましく、２５〜２５０μｍであることがより好ましい。

［塗布工程］
塗布工程では、工程（１）で得られた塗布液を、上記基材に塗布して塗膜を形成する。

塗布液の塗布方式としては、特に制限されず、例えば、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、カーテン塗布方法、あるいは米国特許第２，７６１，４１９号明細書、米国特許第２，７６１，７９１号明細書に記載のホッパーを使用するスライドビード塗布方法、エクストルージョンコート法等が好ましく用いられる。

塗布方式により好適な塗布液の粘度は異なるが、例えば、前記塗布方式がスライドビード塗布方式を用いた同時重層塗布である場合には、上記塗布液の粘度は１〜２０００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、１〜１０００ｍＰａ・ｓであることがより好ましい。

塗布温度は、特に制限されないが、２０〜６０℃であることが好ましい。塗布温度が２０℃以下であると、塗布液を冷却するための設備が不要となり、コストを抑えることができることから好ましい。一方、塗布温度が６０℃以下であると、塗布液を加熱するための設備が不要となり、コストを抑えることができ、また、作業の安全性が向上しうることから好ましい。

塗布速度は、特に制限されないが、１ｍ／ｍｉｎ以上であることが好ましく、１〜５００ｍ／ｍｉｎであることがより好ましい。塗布速度が１ｍ／ｍｉｎ以上であると、高い生産性が得られることから好ましい。

塗布温度および塗布速度を考慮して塗布を行うことにより、膜厚のバラツキが抑制された屈折率層が得られうる。

［乾燥工程］
工程（２）で得られた塗膜を乾燥させることにより、屈折率層が形成されうる。

乾燥の方法としては、特に制限されず、公知の方法で行われうる。乾燥方法の例としては、自然乾燥、加熱乾燥、熱風を当てる方法、冷風を当てる方法等が挙げられる。迅速に乾燥を行う観点から、加熱乾燥により乾燥を行うことが好ましい。この際、加熱温度としては、形成された塗膜の組成等によっても異なるが、１５〜１２０℃であることが好ましく、２０〜９０℃であることがより好ましい。

＜工程（３）＞
本発明に係る製造方法には、前記工程（２）で得られた塗膜を、乾燥前に一度冷却する工程（以下、工程（３）とも称する）をさらに含んでいてもよい。工程（３）を行うことにより、屈折率層の表面（積層されている場合には界面）がより均一となりうる。

塗布直後の塗膜は粘度が低いため、例えば、塗布直後の塗膜に熱風を当てて乾燥させる場合には、得られる屈折率層の表面は熱風によって膜厚のバラツキが生じうる。また、重層塗布を行った場合には、塗膜間において塗膜成分が移動し、得られる屈折率層間の境界が曖昧となりうる。しかし、得られた塗膜を一度冷却すると、塗膜の粘度が急激に上昇して塗膜が安定化しうる。その結果、熱風等の乾燥による膜厚のバラツキの発生、塗膜間の塗膜成分の移動を抑制しうる。ただし、塗膜間の塗布成分の移動によって、赤外遮蔽フィルムの性能が異なる場合もありうることから、工程（３）を行うか否かは、赤外遮蔽フィルムの所望の性能に応じて適宜決定されうる。

工程（３）を行う場合には、塗膜の冷却によって粘度が上昇しやすい高分子を塗布液の成分とすることが好ましい。上述のように、高分子の相互作用は、高分子の分子間および分子内の末端基による結合、架橋剤における結合、分子どうしの絡み合い等によって生じうる。よって、工程（３）の効果をより有効に発揮するために、塗布液の成分として、官能基を多数有している高分子、分子量が大きい高分子を使用し、架橋剤を含むことが好ましい。

工程（３）における冷却温度は、用いる塗布液によっても異なるが、−２０〜２０℃であえることが好ましく、−５〜１０℃であることがより好ましい。

＜用途＞
上記で得られた赤外遮蔽フィルムは、幅広い分野に応用することができる。例えば、建物の屋外の窓や自動車窓等長期間太陽光に晒らされる設備に貼り合せ、赤外遮蔽効果を付与する赤外遮蔽フィルム等の窓貼用フィルム、農業用ビニールハウス用フィルム等として、主として耐候性を高める目的で用いられる。

特に、本発明に係る赤外遮蔽フィルムが直接または接着剤を介してガラスまたはガラス代替の樹脂などの基体に貼合されている部材には、赤外遮蔽フィルムは好適に適用されうる。

すなわち、本発明のさらに他の形態によれば、上記赤外遮蔽フィルムを、基体の少なくとも一方の面に設けた、赤外遮蔽体をも提供する。

前記基体の具体的な例としては、例えば、ガラス、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフィド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、金属板、セラミック等が挙げられる。樹脂の種類は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂のいずれでもよく、これらを２種以上組み合わせて用いてもよい。本発明で使用されうる基体は、押出成形、カレンダー成形、射出成形、中空成形、圧縮成形等、公知の方法で製造することができる。基体の厚さは特に制限されないが、通常０．１ｍｍ〜５ｃｍである。

赤外遮蔽フィルムと基体とを貼り合わせる接着層または粘着層は、赤外遮蔽フィルムを日光（熱線）入射面側に設置することが好ましい。また、本発明に係る赤外遮蔽フィルムを、窓ガラスと基体との間に挟持すると、水分等の周囲のガスから封止でき耐久性に優れるため好ましい。本発明に係る赤外遮蔽フィルムを屋外や車の外側（外貼り用）に設置しても環境耐久性があって好ましい。

本発明に適用可能な接着剤としては、光硬化性もしくは熱硬化性の樹脂を主成分とする接着剤を用いることができる。

接着剤は紫外線に対して耐久性を有するものが好ましく、アクリル系粘着剤またはシリコーン系粘着剤が好ましい。更に粘着特性やコストの観点から、アクリル系粘着剤が好ましい。特に剥離強さの制御が容易なことから、アクリル系粘着剤において、溶剤系が好ましい。アクリル溶剤系粘着剤として溶液重合ポリマーを使用する場合、そのモノマーとしては公知のものを使用できる。

また、合わせガラスの中間層として用いられるポリビニルブチラール系樹脂、あるいはエチレン−酢酸ビニル共重合体系樹脂を用いてもよい。具体的には可塑性ポリビニルブチラール（積水化学工業社製、三菱モンサント社製等）、エチレン−酢酸ビニル共重合体（デュポン社製、武田薬品工業社製、デュラミン）、変性エチレン−酢酸ビニル共重合体（東ソー社製、メルセンＧ）等である。なお、接着層には紫外線吸収剤、抗酸化剤、帯電防止剤、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色、接着調整剤等を適宜添加配合してもよい。

赤外遮蔽フィルムまたは赤外遮蔽体の断熱性能、日射熱遮蔽性能は、一般的にＪＩＳ Ｒ ３２０９（複層ガラス）、ＪＩＳ Ｒ ３１０６（板ガラス類の透過率・反射率・放射率・日射熱取得率の試験方法）、ＪＩＳ Ｒ ３１０７（板ガラス類の熱抵抗および建築における熱貫流率の算定方法）に準拠した方法により求めることができる。

日射透過率、日射反射率、放射率、可視光透過率の測定は、（１）波長（３００〜２５００ｎｍ）の分光測光器を用い、各種単板ガラスの分光透過率、分光反射率を測定する。また、波長５．５〜５０μｍの分光測定器を用いて放射率を測定する。なお、フロート板ガラス、磨き板ガラス、型板ガラス、熱線吸収板ガラスの放射率は既定値を用いる。（２）日射透過率、日射反射率、日射吸収率、修正放射率の算出は、ＪＩＳ Ｒ ３１０６に従い、日射透過率、日射反射率、日射吸収率、垂直放射率を算出する。修正放射率に関しては、ＪＩＳ Ｒ ３１０７に示されている係数を、垂直放射率に乗ずることにより求める。断熱性、日射熱遮蔽性の算出は、（１）厚さの測定値、修正放射率を用いＪＩＳ Ｒ ３２０９に従って複層ガラスの熱抵抗を算出する。ただし中空層が２ｍｍを超える場合はＪＩＳ Ｒ ３１０７に従って中空層の気体熱コンダクタンスを求める。（２）断熱性は、複層ガラスの熱抵抗に熱伝達抵抗を加えて熱貫流抵抗で求める。（３）日射熱遮蔽性はＪＩＳ Ｒ ３１０６により日射熱取得率を求め、１から差し引いて算出する。

また、上記で得られた赤外遮蔽フィルムは薄膜化されたものであることから、ディスプレイパネルの表面に適用してもよい。例えば、プラズマディスプレイパネルでは、赤外遮蔽フィルムを高透明ＰＥＴフィルムに貼り合わせて、ディスプレイ画面に導入することができる。これによって、プラズマディスプレイパネルから放射される赤外線を遮蔽し、人体の保護、電子機器相互の誤動作防止、およびリモコンの誤動作防止等に寄与しうる。

［赤外遮蔽フィルムの製造］
（実施例１）
工程（１）
低屈折率層用塗布液の調製
コロイダルシリカ（スノーテックスＯＸＳ、日産化学工業株式会社製、固形分１０質量％）２４００質量部に、５質量％ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１０３、重合度３００、鹸化度９８．５ｍｏｌ％、株式会社クラレ製）水溶液４００質量部、３質量％ホウ酸水溶液１５００質量部をそれぞれ添加した後、４５℃に加熱し、撹拌しながら、５質量％ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１１７、重合度１７００、鹸化度９８．５ｍｏｌ％、株式会社クラレ製）水溶液４０００質量部、１質量％界面活性剤（ラピゾールＡ３０、日油株式会社製）水溶液１００質量部を添加し、純水１６００質量部を加えて低屈折率層用塗布液を１００００質量部調製した。

高屈折率層用塗布液の調製
１５．０質量％酸化チタンゾル（ＳＲＤ−Ｗ、体積平均粒径５ｎｍ、ルチル型二酸化チタン粒子、堺化学工業株式会社製）５０００質量部に純水２００００質量部を加えた後、９０℃に加熱した。次いで、ケイ酸水溶液（ケイ酸ソーダ４号（日本化学工業株式会社製）をＳｉＯ_２濃度が２．０質量％となるように純水で希釈したもの）１３０００質量部を徐々に添加し、オートクレーブ中、１７５℃で１８時間加熱処理を行った。冷却後、限外濾過膜にて濃縮することにより、固形分濃度が２０質量％であるＳｉＯ_２が表面に付着した二酸化チタンゾル（以下、アニオン処理された二酸化チタンゾル）を得た。

前記アニオン処理された二酸化チタンゾル（固形分２０．０質量％）３０００質量部に、５質量％ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１０３、重合度３００、鹸化度９８．５ｍｏｌ％、株式会社クラレ製）水溶液２００質量部、３質量％ホウ酸水溶液１０００質量部、２質量％クエン酸水溶液１０００質量部をそれぞれ添加した後、４５℃に加熱し、撹拌しながら、５質量％ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−６１７、重合度１７００、鹸化度９５．０ｍｏｌ％、株式会社クラレ製）水溶液２０００質量部、１質量％界面活性剤（ラピゾールＡ３０、日油株式会社製）水溶液１００質量部を添加し、純水２７００質量部を加えて高屈折率層用塗布液を１００００質量部調製した。

得られた低屈折率層用塗布液および高屈折率層用塗布液について、分散装置であるクレアミックスＣＬＭ−０．８Ｓ（エム・テクニック株式会社製）を用いてせん断処理を加えた。前記せん断処理は、より詳細には、最小間隙０．２ｍｍ（２×１０^−４ｍ）のスクリーンスリット部（Ｓ２．０−２４）を備えた３５０ｃｃのベッセル（処理室）に、ロータリーポンプを用いて１Ｌ／ｍｉｎの流量で塗布液を供給し、１７ｍ／ｓｅｃの速度でローター（Ｒ２）を回転させてせん断処理を行った。なお、せん断速度は、８５０００（１／ｓｅｃ）である。

工程（２）
工程（１）で得られた低屈折率層用塗布液および高屈折率層用塗布液を４５℃に保温しながら、厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績株式会社製Ａ４３００：両面易接着層）上に、低屈折率層と高屈折率層とがそれぞれ交互に９層積層されるように、スライドホッパー塗布装置を用いて速度６ｍ／ｍｉｎで９層同時塗布を行い、得られた塗膜を乾燥させて赤外遮蔽フィルムを作製した。この際、工程（１）を行った後、工程（２）を行うまでの時間は、３０分であった。乾燥後の平均膜厚が低屈折率層は各層１５０ｎｍであり、高屈折率層は各層１５０ｎｍであった。

（実施例２）
工程（１）のせん断処理に分散装置であるＴ．Ｋ．ロボミックス（プライミクス株式会社製）を用いたことを除いては、実施例１と同様の方法で赤外遮蔽フィルムを作製した。なお、前記せん断処理は、以下のように行った。すなわち、最小間隙０．３ｍｍ（３×１０^−４ｍ）のスクリーンスリット部を備えた３５０ｃｃのベッセル（処理室）に、ロータリーポンプを用いて１Ｌ／ｍｉｎの流量で塗布液を供給し、３ｍ／ｓｅｃの速度でローターを回転させてせん断処理を行った。せん断速度は、１００００（１／ｓｅｃ）である。

（実施例３）
工程（１）のローターの回転速度を１５ｍ／ｓｅｃに変更したことを除いては、実施例２と同様の方法で赤外遮蔽フィルムを作製した。なお、せん断速度は、５２０００（１／ｓｅｃ）である。

（実施例４）
工程（１）のせん断処理に分散装置であるマイルダーＭＤＮ３０３Ｖ（太平洋機工株式会社製）を用いたことを除いては、実施例１と同様の方法で赤外遮蔽フィルムを作製した。なお、前記せん断処理は、以下のように行った。すなわち、最小間隙０．３ｍｍ（３×１０^−４ｍ）のスクリーンスリット部を備えた３５０ｃｃのベッセル（処理室）に、ロータリーポンプを用いて１Ｌ／ｍｉｎの流量で塗布液を供給し、２６ｍ／ｓｅｃの速度でローターを回転させてせん断処理を行った。せん断速度は、９００００（１／ｓｅｃ）である。

（実施例５）
工程（１）のせん断処理に分散装置である圧力式ホモジナイザーＬＡＢ１０００（株式会社エスエムテー製）を用いたことを除いては、実施例１と同様の方法で赤外遮蔽フィルムを作製した。なお、前記せん断処理は、以下のように行った。すなわち、最小間隙が０．２ｍｍ（２×１０^−４ｍ）となるように調節されたバルブとバルブシートとを有する処理室に、圧力５００ｂａｒで塗布液を供給した。この際、最小間隙を通過する際の塗布液の速度は、３００ｍ／ｓｅｃであった。せん断速度は１５０００００（１／ｓｅｃ）である。

（比較例１）
工程（１）のせん断処理に内接型ギアポンプであるケミカルギヤポンプＧＸ−２５Ｓ（株式会社イワキ製）を用いたことを除いては、実施例１と同様の方法で赤外遮蔽フィルムを作製した。なお、前記せん断処理は、以下のように行った。すなわち、駆動ギヤ（ピニオン）と従動ギヤ（インターナルギヤ）との噛み合い部の最小間隙が０．５ｍｍ（５×１０^−４ｍ）である処理室に、当該噛み合い部を通過する際の塗布液の速度が０．３ｍ／ｓｅｃとなるように駆動ギヤを調節した。せん断速度は６００（１／ｓｅｃ）である。

（実施例６）
工程（１）の噛み合い部の通過速度を１．５ｍ／ｓｅｃに変更したことを除いては、比較例１と同様の方法で赤外遮蔽フィルムを作製した。なお、せん断速度は、３０００（１／ｓｅｃ）である。

（実施例７）
工程（１）の噛み合い部の通過速度を４．８ｍ／ｓｅｃに変更したことを除いては、比較例１と同様の方法で赤外遮蔽フィルムを作製した。なお、せん断速度は、９６００（１／ｓｅｃ）である。

（比較例２）
工程（１）のせん断処理に高速撹拌装置であるスリーワンモーターＬＢシリーズ（新東科学株式会社製）を用いたことを除いては、実施例１と同様の方法で赤外遮蔽フィルムを作製した。なお、前記せん断処理は、以下のように行った。すなわち、外径５０ｎｍの撹拌羽根を備え、撹拌羽根の先端部と内壁の間隙が１０ｍｍ（１×１０^−３ｍ）となる処理室に塗布液を供給し、０．８ｍ／ｓｅｃの速度で撹拌羽根を回転させて塗布液を撹拌した。せん断速度は８０（１／ｓｅｃ）である。

（比較例３）
工程（１）の撹拌羽根の回転速度を３ｍ／ｓｅｃに変更したことを除いては、比較例２と同様の方法で赤外遮蔽フィルムを作製した。なお、せん断速度は、３００（１／ｓｅｃ）である。

（比較例４）
工程（１）の撹拌羽根の回転速度を８ｍ／ｓｅｃに変更したことを除いては、比較例２と同様の方法で赤外遮蔽フィルムを作製した。なお、せん断速度は、８００（１／ｓｅｃ）である。

（比較例５）
工程（１）に用いた装置が有する処理室の撹拌羽根と内壁との間隙を５ｍｍ（５×１０^−４ｍ）に変更し、撹拌羽根の回転速度を３ｍ／ｓｅｃに変更したことを除いては、比較例２と同様の方法で赤外遮蔽フィルムを作製した。なお、せん断速度は、６００（１／ｓｅｃ）である。

（実施例８）
工程（１）の撹拌羽根の回転速度を５ｍ／ｓｅｃに変更したことを除いては、比較例５と同様の方法で赤外遮蔽フィルムを作製した。なお、せん断速度は、１０００（１／ｓｅｃ）である。

（実施例９）
工程（）に用いた装置が有する処理室の撹拌羽根の先端部と内壁との間隙を３ｍｍ（３×１０^−４ｍ）に変更し、撹拌羽根の回転速度を７ｍ／ｓｅｃに変更したことを除いては、比較例２と同様の方法で赤外遮蔽フィルムを作製した。なお、せん断速度は、２３００（１／ｓｅｃ）である。

実施例１〜９および比較例１〜５における速度、最小間隙、およびせん断速度の関係を下記表１に示す。

［赤外遮蔽フィルムの評価］
実施例１〜９および比較例１〜５で製造した赤外遮蔽フィルムについて、下記の性能評価を行った。

（膜厚変動率の測定）
赤外遮蔽フィルムの断面を電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ、Ｓ−５０００Ｈ型、株式会社日立製作所製）を用いて観察した。この際、加速電圧２．０ｋＶの条件で１ｃｍ長さが観察できるように視野数を選択した。画像は、デジタル化し、接続されたファイリング装置（ＶＩＤＥＯＢＡＮＫ）に転送しＭＯディスク中に保存した。続いて、画像処理装置にてコントラストを調整し、各層の膜厚を１０００点測定して膜厚の平均値（μ）と膜厚の標準偏差（σ）を算出した。膜厚の標準偏差(σ)を膜厚変動幅として、膜厚の平均値に対する膜厚変動率（Ｖ）を下記の式（２）により求めた。

下記基準に従い、得られた値から赤外遮蔽フィルムの膜厚変動率を評価した：
○：３％未満
△：３％以上５％未満
×：５％以上。

得られた結果を下記表２に示す。

（色差の測定）
分光光度計（積分球使用、Ｕ−４０００型、株式会社日立製作所社製）を用いて、製造した赤外遮蔽フィルムの測定側の裏面を粗面化処理を行い、黒色のスプレーで光吸収処理することで裏面での光の反射を防止した。次いで、５度正反射の条件と４５度正反射の条件で可視光領域（３６０ｎｍ〜７４０ｎｍ）の反射率を測定し、得られた結果から、Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊値を算出し、５度正反射の条件と４５度正反射の条件の色差ΔＥを下記式（３）により求めた。

下記基準に従い、得られた値から赤外遮蔽フィルムの色差を評価した：
○：１０未満
△：１０以上２０未満
×：２０以上。

得られた結果を下記表２に示す。

表２の結果から明らかなように、実施例１〜９の赤外遮蔽フィルムは、膜厚変動率および色差について良好な結果が得られた。すなわち、塗布液に、せん断速度１０００（１／ｓｅｃ）以上のせん断処理を加えると、ナノオーダー（実施例では１５０ｎｍ）で薄膜化した場合であっても膜厚のバラツキが抑制され、色ムラの発生が抑制された赤外遮蔽フィルムを得ることができることが理解される。また、せん断速度が高いほど、良好な結果が得られていることが分かる。

１ ステーター歯、
２ ローター歯、
３ せん断間隙、
４、５、１４、２４、３４ 塗布液、
１１ バルブシート、
１２ バルブ、
Ｌａ、Ｌｂ、Ｌｃ、Ｌｄ 間隙、
２１ 外箱、
２２ａ、２２ｂ 歯車、
３１ 内壁、
３２ 撹拌羽根。

Claims (4)

1. 基材上に、膜厚が１〜１０００ｎｍである屈折率の異なる屈折率層が積層されてなる赤外遮蔽フィルムの製造方法であって、
   高分子を含む塗布液を調製する工程（１）と、
   前記工程（１）で調製した塗布液に、せん断速度１０００（１／ｓ）以上、最小間隙０．１〜０．３ｍｍのせん断処理を加える工程（２）と、
   前記工程（２）で得られた塗布液を基材上に塗布して塗膜を形成して前記屈折率層を形成する工程（３）と、
   を含む、製造方法。
2. 前記塗布が、１ｍ／ｍｉｎ以上の速度で行われる、請求項１に記載の製造方法。
3. 前記工程（３）が、前記工程（２）の後、３時間以内に行われる、請求項１または２に記載の製造方法。
4. 前記せん断処理が、分散装置、高速撹拌装置、吐出装置、またはこれらの組み合わせにより行われる、請求項１〜３のいずれか１項に記載の製造方法。

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