JP5963395B2 - 保護テープ - Google Patents
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Description
図1および図2を用いて、本実施形態に係る保護テープ1の概要を説明する。本実施形態に係る保護テープ1は、はんだリフロー工程を流れる基板30に貼り付けられ、基板30の少なくとも一部を保護する保護テープであって、基板30上に貼り付けられる粘着層11と、金属層14と、樹脂層13と、を有し、粘着層11上には、少なくとも金属層14と樹脂層13が設けられている。また、図1および図2に示す保護テープ1は、樹脂層13および金属層14が、粘着層11上において、樹脂層13、金属層14の順に設けられている。なお、これに限らず、樹脂層13および金属層14は、粘着層11上において、金属層14、樹脂層13の順に設けられていてもよい。ここで、本実施形態に係るはんだリフロー工程中において基板30における温度は、最大で270℃となる。
具体的に、図2を参照して保護テープ1の使用方法を説明する。本実施形態に係る基板30は、フレキシブルプリント基板(FPC)と呼称されるものを用いる。この基板30は、後述する図3のはんだリフロー工程において用いられる支持板20上に配置される。また、基板30上には、電子部品40などが接続される接続部35a、35bが設けられている。図2の場合、接続部35aには、はんだ45を介して電子部品40が接続されており、接続部35bには、保護テープ1が貼り付けられている。このようにして基板30に貼り付けられた保護テープ1は、同時に支持板20の表面にも貼り付けられており、保護テープ1によって基板30が支持板20に固定されるようになっている。このように、電子部品40が接続されない接続部35bに保護テープ1が貼り付けられることによって、はんだリフロー工程においてはんだ45が融解し、飛び散ったはんだ45が基板30上に付着してしまうことを防いでいる。なお、保護テープ1は、基板30の接続部35bに限らず、基板30上の保護したい部分に適宜貼り付けることができる。
先ず、保護テープ1の金属層14について説明する。金属層14は、後述する樹脂層13上に接着剤層12によって貼り付けられて、保護テープ1の最外層に配置されており、はんだリフロー工程中における熱を反射したり、放熱したりする役割を有する。また、この金属層14の厚さは、6μm〜30μmである方がよい。これは、金属層14の厚さが6μmよりも薄いと、剥離作業の際に破れ易くなったり、放熱しにくくなるためである。一方、金属層14の厚さが30μmよりも厚いと、厚さによって保護テープ1が硬くなりすぎて剥がしにくくなったり、また多量の材料が必要になり高コストになるためである。また、金属層14は、アルミニウム、銀、銅などの金属めっきでもよいし、金属箔を利用してもよい。その中でも、はんだリフロー工程中における熱を反射し、且つ、放熱しやすい特性から金属層14にアルミニウムを用いる方がよい。
接着剤層12は、金属層14と樹脂層13との間に介在し、樹脂層13上に金属層14を貼り付ける役割を有する。この接着剤層12は、ポリウレタン系接着剤やポリエステル系接着剤によって形成されており、その厚みは、1〜6μmである。
次に、保護テープ1の樹脂層13について説明する。樹脂層13は、接着剤層12によって貼り付けられた金属層14と共に後述する粘着層11上に設けられている。図1の場合、樹脂層13は、金属層14と粘着層11との間に介在し、接着剤層12によって金属層14に張り合わされている。そして、樹脂層13は、保護テープ1を剥がす際の金属層14の引き裂けを防止している。
次に、保護テープ1の粘着層11について説明する。粘着層11は、基板30に接する側に配置され、金属層14に積層された樹脂層13に積層されると共に、基板30に貼り付けられる。粘着層11は、アクリル系、ゴム系、シリコン系、およびウレタン系などの樹脂によって形成されている。このうち、透明性や粘着力の安定性などを考慮すると、粘着層11は、アクリル系樹脂を用いて形成される方がよい。また、粘着層11の厚さは5μm〜20μmである。これは、粘着層11の厚さが5μmよりも薄いと、基板30に貼りづらくなり、20μmよりも厚いと、保護テープ1を剥がした際にのり残りが生じやすくなるためである。なお、アクリル系樹脂で形成された粘着層11の場合、250℃以上の熱が加わると劣化を始めるため、粘着層11に加わる熱の温度は少なくとも250℃以下にする必要がある。
次に、上記のような構成を有する保護テープ1が貼り付けられる基板30について説明する。本実施形態に係る基板30は、フレキシブルプリント基板(FPC)である。基板30は、図示しない信号用配線パターンやグランド用配線パターンなどの複数の配線パターンが、ポリイミドから形成されたベース部材上に設けられており、その表面には、絶縁層などによって覆われている。このような構成を有する基板30には接続部35aおよび接続部35bが設けられており、接続部35aに配された接続端子と電子部品40に配された接続端子とが、はんだ45によって接着されて双方が電気的に接続されるようになっている。なお、ポリイミドで形成された基板30は、300℃以上の熱にも耐えられるようになっている。また、図2に示すように、基板30の電子部品40が接続されない接続部35bには保護テープ1が貼り付けられるようになっており、はんだリフロー工程において飛び散ったはんだ45が基板30に付着することを防止する。なお、本実施形態において基板30にフレキシブルプリント基板(FPC)を用いているが、他種類の基板を用いていてもよい。
次に、図3を用いて、本実施形態に係るはんだリフロー工程について説明する。先ず、はんだリフロー工程で用いられるはんだリフロー装置50について説明する。はんだリフロー装置50は、土台部51と、ベルトコンベア52と、熱炉部55と、を有している。土台部51は、長尺状の筐体を有し、はんだリフロー装置50の土台となる。ベルトコンベア52は、土台部51上に設置されており、一定の距離を保って同じ方向に並列に配列された複数のローラ53を内部に設置して、各ローラ53の上下面を覆うようにしてベルトが架設されている。ローラ53は、断面が円となる細長い円柱状であり、円の中心を軸に夫々のローラ53が回転することによって、ベルトコンベア52のベルトが左右方向に移動するようになっている。熱炉部55は、全長が2mで、その内部に赤外線照射部56が設けられており、赤外線をベルトコンベア52上に向けて照射することができるようになっている。また、赤外線照射部56は、ベルトコンベア52との間に一定の隙間を隔てて設置されている。これにより、ベルトコンベア52上を流れる基板30に対して、赤外線照射部56から赤外線を照射することができるようになっている。
次に、本実施形態に係る保護テープ1の実施例1および比較例1を用いて、本発明を具体的に説明する。
次に、本実施形態に係る保護テープ1の実施例2〜4および比較例2を用いて、本発明を具体的に説明する。
11 粘着層
13 樹脂層
14 金属層
70 熱
Claims (1)
- はんだリフロー工程を流れる基板に貼り付けられ、当該基板の少なくとも一部を保護する保護テープであって、
前記基板上に貼り付けられる粘着層と、金属層と、樹脂層と、を有し、
前記粘着層上には、少なくとも前記金属層と前記樹脂層が設けられており、
前記樹脂層および前記金属層は、前記粘着層上において、当該樹脂層、当該金属層の順に設けられ、
前記粘着層の厚さは、5μm〜20μmであり、
前記金属層の厚さは、6μm〜30μmであり、
前記樹脂層の厚さは、6μm〜50μmであり、
前記粘着層は、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、シリコン系樹脂、又はウレタン系樹脂によって形成され、
前記金属層は、アルミニウム、銀又は銅によって形成され、
前記樹脂層は、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリイミド(PI)又はエポキシ樹脂によって形成されていることを特徴とする保護テープ。
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