JP5922142B2 - 表面処理組成物、表面処理組成物の製造方法、及び表面処理した物品 - Google Patents
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Description
Y-Za-[(OC3F6)b-(OCF(CF3)CF2)c-(OCF2CF(CF3))d-(OC2F4)e-(CF(CF3))f-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(CnH2n)-((SiR2-O)m-SiR2)i-(CjH2j)-Si-(X’)3-z(R1)z (A)
を有する。
F-(CF2)a-(OC3F6)b-(OC2F4)e-(OCF2)g-F (B)
により表される含フッ素化合物が、表面処理組成物の合計量に基づいて、少なくとも25モル%の量で表面処理組成物中に存在する。
Y’-Za-[(OC3F6)b-(OCF(CF3)CF2)c-(OCF2CF(CF3))d-(OC2F4)e-(CF(CF3))f-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(Cn’H2n’)-CR5=CR5-CH3 (C)
[式中、Y’は、フッ素及びCH3-CR5=CR5-(Cn’H2n’)-X-(CH2)h-から選択され;n’は、0〜17から独立して選択される整数であり;R5は、水素原子及びメチル基から独立して選択され;及びZ、a、b、c、d、e、f、g、h及びXは、上記のとおりである。]
により表される含フッ素化合物が、表面処理組成物の合計量に基づいて、40モル%未満の量で存在する。
Y-Za-[(OC3F6)b-(OCF(CF3)CF2)c-(OCF2CF(CF3))d-(OC2F4)e-(CF(CF3))f-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(CnH2n)-((SiR2-O)m-SiR2)i-(CjH2j)-Si-(X’)3-z(R1)z
を有するポリフルオロポリエーテルシランを含む。式(A)においてb〜gにより括られる基、即ち、角括弧内の基は、ポリフルオロポリエーテルシラン内において任意の順番であってよく、上記及びこの明細書全体を通して一般式(A)で表されている順番とは異なる順番を含むことを理解されたい。更に、これらの基は、ランダム形態又はブロック形態であってよい。加えて、bにより括られる基は、典型的に、直鎖状であってよく、即ち、bにより括られる基が、代替的に、(O-CF2-CF2-CF2)bと記載されてよい。
F-(CF2)a-(OC3F6)b-(OC2F4)e-(OCF2)g-F (B)
により表される含フッ素化合物は、表面処理組成物の合計量に基づいて、少なくとも25モル%、典型的に、25〜50モル%の量で、表面処理組成物中に存在することがある。典型的に、このような含フッ素化合物、即ち、一般式(B)により表される含フッ素化合物は、以下に更に詳細に示されるように、表面処理組成物を製造するのに用いるパーフルオロポリエーテル含有化合物とともに含有される。
Y’-Za-[(OC3F6)b-(OCF(CF3)CF2)c-(OCF2CF(CF3))d-(OC2F4)e-(CF(CF3))f-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(Cn’H2n’)-CR5=CR5-CH3 (C)
の含フッ素化合物は、表面処理組成物の合計量に基づいて、40モル%未満、あるいは、30モル%未満、あるいは、25モル%未満の量で表面処理組成物中に存在する。
Y-Z’a’-[(OC3F6)b-(OC2F4)e-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(CnH2n)-Si-(X’)3-z(R1)z
[式中、Z’が-(CF2)-であり;
a’が1〜3の整数であり;
b、e及びgが、0〜200からそれぞれ独立して選択される整数であり;
h及びnが、0〜20からそれぞれ独立して選択される整数であり;
Xが、二価有機基又は酸素原子であり;
zが、0〜2から独立して選択される整数であり;
X’が、独立して選択される加水分解性基であり;
R1が、独立して選択され脂肪族不飽和を有さず1〜22までの炭素原子を有する加水分解性基であり;Yがフッ素である。]
を有する場合に、以下の一般式(B):
F-(CF2)a-(OC3F6)b-(OC2F4)e-(OCF2)g-F (B)
により表される含フッ素化合物が、表面処理組成物の合計量に基づいて、少なくとも25モル%の量で、表面処理組成物中に存在する。この場合において、例えば、ポリフルオロポリエーテルシランが上記の一般式(G)を有する場合に、一般式(B)においてaは1〜3であり、b、e及びgは上記のとおりであることを理解されたい。
Y’-Za-[(OC3F6)b-(OCF(CF3)CF2)c-(OCF2CF(CF3))d-(OC2F4)e-(CF(CF3))f-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(Cn’’H2n’’)-CR5=CR5H
を有する。一般式(D)において、Y’は、フッ素及びCR5H=CR5-(Cn’’H2n’’)-X-(CH2)h-から選択され;n’’は、0〜16から独立して選択される整数であり;R5は、水素原子及びメチル基から独立して選択され;及びZ、a、b、c、d、e、f、g、h及びXは上記のとおりである。n’’により表される基、即ち、(Cn’’H2n’’)基は、また、独立して、直鎖状又は分岐状であってよいことを理解されたい。例えば、n’’が3である場合に、これらの基は、構造-CH2-CH2-CH2-、-CH(CH3)-CH2-、又は-CH2-CH(CH3)-を独立して有してよく、後者の2つの構造は、ペンダントアルキル基を有し、即ち、これらの構造は、分岐状であり、直鎖状ではない。一般式(D)においてb〜gにより括られる基、即ち、角括弧内の基は、パーフルオロポリエーテル含有化合物内の任意の順番であってよく、上記及び本明細書全体を通して一般式(A)に表される順番とは異なる順番を含むことを理解されたい。
Claims (10)
- 以下の一般式(A):
Y-Za-[(OC3F6)b-(OCF(CF3)CF2)c-(OCF2CF(CF3))d-(OC2F4)e-(CF(CF3))f-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(CnH2n)-((SiR2-O)m-SiR2)i-(CjH2j)-Si-(X’)3-z(R1)z (A)
[式中、Zは、-(CF2)-、-(CF(CF3)CF2O)-、-(CF2CF(CF3)O)-、-(CF(CF3)O)-、-(CF(CF3)CF2)-、-(CF2CF(CF3))-、及び-(CF(CF3))-から独立して選択され;
aは、1〜200の整数であり;
b、c、d、e、f及びgは、0〜200からそれぞれ独立して選択される整数であり;
h、n及びjは、0〜20からそれぞれ独立して選択される整数であり;
i及びmは、0〜5からそれぞれ独立して選択される整数であり;
Xは、酸素原子であり;
Rは、1〜22の炭素原子を有する炭化水素基であり;
zは、0〜2から独立して選択される整数であり;
X’は、独立して選択される加水分解性基であり;
R1は、独立して選択され脂肪族不飽和を有さず1〜22の炭素原子を有する炭化水素基であり;
Yは、フッ素及びSi-(X’)3-z(R1)z(CjH2j)-((SiR2-O)m-SiR2)i-(CnH2n)-X-(CH2)h-(ここで、X’、z、R1、j、m、i、n及びhは、上記のとおりである。)から選択される。]
を有するポリフルオロポリエーテルシランを含む表面処理組成物であって、
但し、iが0である場合に、jも0であり;iが0よりも大きい整数である場合に、jも0よりも大きい整数であり;及びiが0よりも大きい整数である場合に、mも0よりも大きい整数であり;
但し、Yが、フッ素であり;Zが、-(CF2)-であり;aが、1〜3の整数であり;c、d、f及びiが、0である場合に、以下の一般式(B):
F-(CF2)a-(OC3F6)b-(OC2F4)e-(OCF2)g-F (B)
[式中、aは、1〜3であり、b、e及びgは、上記のとおりである。]
により表される含フッ素化合物が、表面処理組成物の合計量に基づいて、25〜50モル%の量で、表面処理組成物中に存在し、
及び但し、以下の一般式(C):
Y’-Za-[(OC3F6)b-(OCF(CF3)CF2)c-(OCF2CF(CF3))d-(OC2F4)e-(CF(CF3))f-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(Cn’H2n’)-CR5=CR5-CH3 (C)
[式中、Y’は、フッ素及びCH3-CR5=CR5-(Cn’H2n’)-X-(CH2)h-から選択され;
n’は、0〜17から独立して選択される整数であり;
R5は、水素原子及びメチル基から独立して選択され;
Z、a、b、c、d、e、f、g、h及びXは、上記のとおりである。]
により表される含フッ素化合物が、表面処理組成物の合計量に基づいて、40モル%未満の量で、表面処理組成物中に存在する、表面処理組成物。 - ポリフルオロポリエーテルシランを含む表面処理組成物の製造方法であって、製造方法が、
少なくとも1つの脂肪族不飽和基を有するパーフルオロポリエーテル含有化合物を準備する工程;
ヒドロシラン化合物を準備する工程;
ヒドロシリル化触媒を準備する工程;
異性体減少剤を準備する工程;及び
ヒドロシリル化触媒と異性体減少剤の存在下においてパーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシラン化合物を反応させてポリフルオロポリエーテルシランと表面処理組成物とを製造する工程;
を含み、
但し、ポリフルオロポリエーテルシランが、以下の一般式(G):
Y-Z’a’-[(OC3F6)b-(OC2F4)e-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(CnH2n)-Si-(X’)3-z(R1)z (G)
[式中、Z’は、-(CF2)-であり;
a’は、1〜3の整数であり;
b、e及びgは、0〜200からそれぞれ独立して選択される整数であり;
h及びnは、0〜20からそれぞれ独立して選択される整数であり;
Xは、酸素原子;
zは、0〜2から独立して選択される整数であり;
X’は、独立して選択される加水分解性基であり;
R1は、独立して選択され脂肪族不飽和を有さず1〜22の炭素原子を有する炭化水素基であり;
Yはフッ素である。]
を有する場合に、以下の一般式(B):
F-(CF2)a-(OC3F6)b-(OC2F4)e-(OCF2)g-F (B)
[式中、aは、1〜3であり、b、e及びgは、上記のとおりである。]
により表される含フッ素化合物が、表面処理組成物の合計量に基づいて、25〜50モル%の量で表面処理組成物中に存在する、表面処理組成物の製造方法。 - ポリフルオロポリエーテルシランが以下の一般式(A):
Y-Za-[(OC3F6)b-(OCF(CF3)CF2)c-(OCF2CF(CF3))d-(OC2F4)e-(CF(CF3))f-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(CnH2n)-((SiR2-O)m-SiR2)i-(CjH2j)-Si-(X’)3-z(R1)z (A)
[式中、Zは、-(CF2)-、-(CF(CF3)CF2O)-、-(CF2CF(CF3)O)-、-(CF(CF3)O)-、-(CF(CF3)CF2)-、-(CF2CF(CF3))-、及び-(CF(CF3))-から独立して選択され;
aは、1〜200の整数であり;
b、c、d、e、f及びgは、0〜200からそれぞれ独立して選択される整数であり;
h、n及びjは、0〜20からそれぞれ独立して選択される整数であり;
i及びmは、0〜5からそれぞれ独立して選択される整数であり;
Xは、酸素原子であり;
Rは、1〜22の炭素原子を有する炭化水素基であり;
zは、0〜2から独立して選択される整数であり;
X’は、独立して選択される加水分解性基であり;
R1は、独立して選択され脂肪族不飽和を有さず1〜22の炭素原子を有する炭化水素基であり;
Yは、フッ素及びSi-(X’)3-z(R1)z(CjH2j)-((SiR2-O)m-SiR2)i-(CnH2n)-X-(CH2)h-(ここで、X’、z、R1、j、m、i、n及びhは、上記のとおりである。)から選択される。]
を有し、
但し、iが0である場合に、jも0であり;iが0よりも大きい整数である場合に、jも0よりも大きい整数であり;及びiが0よりも大きい整数である場合に、mも0よりも大きい整数であり;
但し、Yが、フッ素であり;Zが、-(CF2)-であり;aが、1〜3の整数であり;c、d、f及びiが、0である場合に;以下の一般式(B):
F-(CF2)a-(OC3F6)b-(OC2F4)e-(OCF2)g-F (B)
[式中、aは、1〜3であり、b、e及びgは、上記のとおりである。]
により表される含フッ素化合物が、表面処理組成物の合計量に基づいて、25〜50モル%の量で、表面処理組成物中に存在する、請求項2に記載の方法。 - 異性体減少剤が、カルボン酸化合物を含む、請求項2または3に記載の方法。
- 異性体減少剤が、1以上のシリル化カルボン酸を含む、請求項2〜4のいずれか1項に記載の方法。
- 以下の一般式(C):
Y’-Za-[(OC3F6)b-(OCF(CF3)CF2)c-(OCF2CF(CF3))d-(OC2F4)e-(CF(CF3))f-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(Cn’H2n’)-CR5=CR5-CH3 (C)
[式中、Y’は、フッ素及びCH3-CR5=CR5-(Cn’H2n’)-X-(CH2)h-から選択され;
n’は、0〜17から独立して選択される整数であり;
R5は、水素原子とメチル基から独立して選択され;
Z、a、b、d、e、f、g、h及びXは上記のとおりである。]
により表される含フッ素化合物が、表面処理組成物の合計量に基づいて、40モル%未満の量で表面処理組成物中に存在する、請求項2〜5のいずれか1項に記載の方法。 - ポリフルオロポリエーテルシランを含む表面処理組成物であって、
ポリフルオロポリエーテルシランが、ヒドロシリル化触媒と異性体減少剤との存在下においてパーフルオロポリエーテル含有化合物とヒドロシラン化合物とから形成され、
ポリフルオロポリエーテルシランが、以下の一般式(A):
Y-Za-[(OC3F6)b-(OCF(CF3)CF2)c-(OCF2CF(CF3))d-(OC2F4)e-(CF(CF3))f-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(CnH2n)-((SiR2-O)m-SiR2)i-(CjH2j)-Si-(X’)3-z(R1)z (A)
[式中、Zは、-(CF2)-、-(CF(CF3)CF2O)-、-(CF2CF(CF3)O)-、-(CF(CF3)O)-、-(CF(CF3)CF2)-、-(CF2CF(CF3))-、及び-(CF(CF3))-から独立して選択され;
aは、1〜200の整数であり;
b、c、d、e、f及びgは、0〜200からそれぞれ独立して選択される整数であり;
h、n及びjは、0〜20からそれぞれ独立して選択される整数であり;
i及びmは、0〜5からそれぞれ独立して選択される整数であり;
Xは、酸素原子であり;
Rは、1〜22の炭素原子を有する炭化水素基であり;
zは、0〜2から独立して選択される整数であり;
X’は、独立して選択される加水分解性基であり;
R1は、独立して選択され脂肪族不飽和を有さず1〜22の炭素原子を有する炭化水素基であり;
Yは、フッ素及びSi-(X’)3-z(R1)z(CjH2j)-((SiR2-O)m-SiR2)i-(CnH2n)-X-(CH2)h-(ここで、X’、z、R1、j、m、i、n及びhは、上記のとおりである。)から選択される。]
を有し、
但し、iが0である場合に、jも0であり;iが0よりも大きい整数である場合に、jも0よりも大きい整数であり;及びiが0よりも大きい整数である場合に、mも0よりも大きい整数であり;
但し、Yが、フッ素であり;Zが、-(CF2)-であり;aが、1〜3の整数であり;c、d、f及びiが、0である場合に;以下の一般式(B):
F-(CF2)a-(OC3F6)b-(OC2F4)e-(OCF2)g-F (B)
[式中、aは、1〜3であり、b、e及びgは、上記のとおりである。]
により表される含フッ素化合物が、表面処理組成物の合計量に基づいて、25〜50モル%の量で、表面処理組成物中に存在する、表面処理組成物。 - 異性体減少剤が、カルボン酸化合物を含む、請求項7に記載の表面処理組成物。
- 異性体減少剤が、1以上のシリル化カルボン酸を含む、請求項7または8に記載の表面処理組成物。
- 表面処理した物品であって;
表面を有する物品;及び、
物品の表面上に形成される層;を含み、
層が、ポリフルオロポリエーテルシランを含む表面処理組成物から形成されており、
ポリフルオロポリエーテルシランが、以下の一般式(A):
Y-Za-[(OC3F6)b-(OCF(CF3)CF2)c-(OCF2CF(CF3))d-(OC2F4)e-(CF(CF3))f-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(CnH2n)-((SiR2-O)m-SiR2)i-(CjH2j)-Si-(X’)3-z(R1)z (A)
[式中、Zは、-(CF2)-、-(CF(CF3)CF2O)-、-(CF2CF(CF3)O)-、-(CF(CF3)O)-、-(CF(CF3)CF2)-、-(CF2CF(CF3))-、及び-(CF(CF3))-から独立して選択され;
aは、1〜200の整数であり;
b、c、d、e、f及びgは、0〜200からそれぞれ独立して選択される整数であり;
h、n及びjは、0〜20からそれぞれ独立して選択される整数であり;
i及びmは、0〜5からそれぞれ独立して選択される整数であり;
Xは、酸素原子であり;
Rは、1〜22の炭素原子を有する炭化水素基であり;
zは、0〜2から独立して選択される整数であり;
X’は、独立して選択される加水分解性基であり;
R1は、独立して選択され脂肪族不飽和を有さず1〜22の炭素原子を有する炭化水素基であり;
Yは、フッ素及びSi-(X’)3-z(R1)z(CjH2j)-((SiR2-O)m-SiR2)i-(CnH2n)-X-(CH2)h-(ここで、X’、z、R1、j、m、i、n及びhは、上記のとおりである。)から選択される。]
を有し、
但し、iが0である場合に、jも0であり;iが0よりも大きい整数である場合に、jも0よりも大きい整数であり;及びiが0よりも大きい整数である場合に、mも0よりも大きい整数であり;
但し、Yが、フッ素であり;Zが、-(CF2)-であり;aが、1〜3の整数であり;c、d、f及びiが、0である場合に;以下の一般式(B):
F-(CF2)a-(OC3F6)b-(OC2F4)e-(OCF2)g-F (B)
[式中、aは、1〜3であり、b、e及びgは、上記のとおりである。]
により表される含フッ素化合物は、表面処理組成物の合計量に基づいて、25〜50モル%の量で、表面処理組成物中に存在し、
及び但し、以下の一般式(C):
Y’-Za-[(OC3F6)b-(OCF(CF3)CF2)c-(OCF2CF(CF3))d-(OC2F4)e-(CF(CF3))f-(OCF2)g]-(CH2)h-X-(Cn’H2n’)-CR5=CR5-CH3 (C)
[式中、Y’は、フッ素及びCH3-CR5=CR5-(Cn’H2n’)-X-(CH2)h-から選択され;
n’は、0〜17から独立して選択される整数であり;
R5は、水素原子及びメチル基から独立して選択され;
Z、a、b、c、d、e、f、g、h及びXは、上記のとおりである。]
により表される含フッ素化合物が、表面処理組成物の合計量に基づいて40モル%未満の量で、表面処理組成物中に存在する、表面処理した物品。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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