JP5916966B2 - 光ファイバ母材の製造方法および光ファイバの製造方法 - Google Patents
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Description
ここで、図1から図4を参照しながら、第1実施形態に係る光ファイバ母材の製造方法および光ファイバの製造方法を説明する。図1は、第1実施形態に係る光ファイバ母材の製造方法および光ファイバの製造方法の工程順序を示すフローチャートである。図1に示されるように、第1実施形態の光ファイバ母材の製造方法は、多孔質母材形成工程(ステップS11)と、第1脱水工程(ステップS12)と、第2脱水工程(ステップS13)と、焼結工程(ステップS14)とを有する。また、第1実施形態の光ファイバの製造方法は、光ファイバ母材の製造方法の焼結工程(ステップS14)の後に線引き工程(ステップS15)をさらに有する。なお、上記工程の他にドープ工程等を含む場合であっても、本実施形態に係る光ファイバ母材の製造方法および光ファイバの製造方法を適切に実施することができる。
次に、図5を参照しながら、第2実施形態に係る光ファイバ母材の製造方法および光ファイバの製造方法を説明する。なお、第2実施形態における光ファイバ母材の製造方法および光ファイバの製造方法では、第1実施形態と同様の装置構成が用いられる。したがって、第2実施形態の説明では、適宜図2〜図3に示された装置構成を参照することにより、装置構成の説明を省略するものとする。
実施例1に係る多孔質母材形成工程では、VAD法で作製したコアを通常に行われている引き下げ方式のガラス化炉で脱水およびガラス化し、所定の径となるよう延伸したものをコアロッドRcとして用いた。なお、コアロッドRcのクラッド径/コア径は4.2であり、当該コアロッドRcの周囲に、OVD法により密度0.7g/cm3の多孔質層を堆積させ、多孔質母材Paを作製した。
実施例2に係る多孔質母材形成工程では、実施例1と同様の方法で製造されたコアロッドRcを用い、当該コアロッドRcの周囲に、OVD法により密度0.8g/cm3の多孔質層を堆積させ、多孔質母材Paを作製した。
実施例3に係る多孔質母材形成工程では、実施例1と同様の方法で製造されたコアロッドRcを用い、当該コアロッドRcの周囲に、OVD法により密度1.0g/cm3の多孔質層を堆積させ、多孔質母材Paを作製した。
実施例4に係る多孔質母材形成工程では、実施例1と同様の方法で製造されたコアロッドRcを用い、当該コアロッドRcの周囲に、OVD法により密度0.8g/cm3の多孔質層を堆積させ、多孔質母材Paを作製した。
比較例1に係る多孔質母材形成工程では、実施例1〜3と同様の方法で製造されたコアロッドRcを用い、当該コアロッドRcの周囲に、OVD法により密度0.8g/cm3の多孔質層を堆積させ、多孔質母材Paを作製した。
比較例2に係る多孔質母材形成工程では、実施例1〜3と同様の方法で製造されたコアロッドRcを用い、当該コアロッドRcの周囲に、OVD法により密度0.8g/cm3の多孔質層を堆積させ、多孔質母材Paを作製した。
比較例3に係る多孔質母材形成工程では、実施例1〜3と同様の方法で製造されたコアロッドRcを用い、当該コアロッドRcの周囲に、OVD法により密度0.8g/cm3の多孔質層を堆積させ、多孔質母材Paを作製した。
12 ガス
100 ガラス化炉
101 石英炉心管
102 ヒータ
103 ヒータ
104 ヒータ
105 ガス導入口
106 ガス排出口
107 真空ポンプ
108 支持棒
109 炉体
110 断熱材
200 線引き装置
201 線引き炉
202 ヒータ
203 外径測定器
204 樹脂被覆装置
205 ガイドローラ
206 巻き取り機
Claims (6)
- ターゲットロッドの外周にシリカ微粒子を堆積させて平均嵩密度が0.6g/cm3以上である多孔質母材を形成する工程と、前記多孔質母材を少なくとも3回の熱処理工程により脱水および焼結するガラス化工程とを含み、
前記3回の熱処理工程のうち最初の熱処理工程である第1の熱処理工程と2番目の熱処理工程である第2の熱処理工程では、塩素ガスと不活性ガスとからなる雰囲気中で前記多孔質母材を脱水し、
前記第2の熱処理工程における処理温度は、前記第1の熱処理工程における処理温度よりも高温であり、
前記第1の熱処理工程における処理温度は、1200℃以下であり、前記第2の熱処理工程における処理温度は、1200℃より高く1300℃以下であり、
前記3回の熱処理工程のうち3番目の熱処理工程である第3の熱処理工程における処理温度は、1400℃以上1550℃以下である
ことを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。 - 前記第1の熱処理工程における処理時間は、2時間以上4時間以下であり、前記第2の熱処理工程における処理時間は、1時間以上2時間以下とすることを特徴とする請求項1に記載の光ファイバ母材の製造方法。
- 前記雰囲気は、塩素ガスと窒素ガスとの混合ガスであることを特徴とする請求項1または2に記載の光ファイバ母材の製造方法。
- 前記第1の熱処理工程および前記第2の熱処理工程は、常圧で行われることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の光ファイバ母材の製造方法。
- 前記第3の熱処理工程では、減圧下で前記多孔質母材を焼結することを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の光ファイバ母材の製造方法。
- 請求項1〜5の何れか1項に記載の光ファイバ母材の製造方法にて製造された光ファイバ母材を線引きすることにより光ファイバを製造することを特徴とする光ファイバの製造方法。
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