JP5886876B2 - 新規な(トリオルガノシリル)アルキン及びその誘導体、並びに、新規な及び慣用の置換(トリオルガノシリル)アルキンと、その誘導体を得るための新規な触媒法 - Google Patents
新規な(トリオルガノシリル)アルキン及びその誘導体、並びに、新規な及び慣用の置換(トリオルガノシリル)アルキンと、その誘導体を得るための新規な触媒法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5886876B2 JP5886876B2 JP2013547383A JP2013547383A JP5886876B2 JP 5886876 B2 JP5886876 B2 JP 5886876B2 JP 2013547383 A JP2013547383 A JP 2013547383A JP 2013547383 A JP2013547383 A JP 2013547383A JP 5886876 B2 JP5886876 B2 JP 5886876B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alkyl
- group
- general formula
- same
- equal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 76
- 150000001345 alkine derivatives Chemical class 0.000 title claims description 42
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 title description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 35
- 229910006400 μ-Cl Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 22
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- -1 (trimethylsilylamino) phenyl Chemical group 0.000 claims description 21
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims description 20
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 14
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 claims description 14
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 13
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 13
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 claims description 13
- 125000002355 alkine group Chemical group 0.000 claims description 12
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 8
- 125000006705 (C5-C7) cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 6
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 claims description 6
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 claims description 6
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- VYXHVRARDIDEHS-QGTKBVGQSA-N (1z,5z)-cycloocta-1,5-diene Chemical compound C\1C\C=C/CC\C=C/1 VYXHVRARDIDEHS-QGTKBVGQSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims description 3
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 claims description 3
- 125000003031 C5-C7 cycloalkylene group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 59
- 239000000047 product Substances 0.000 description 38
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 26
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 22
- 230000008569 process Effects 0.000 description 22
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 14
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N Acetylene Chemical compound C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- JAZCEXBNIYKZDI-UHFFFAOYSA-N [Ir+] Chemical class [Ir+] JAZCEXBNIYKZDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 7
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 6
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 6
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 6
- 238000006884 silylation reaction Methods 0.000 description 6
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 5
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 5
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 5
- RVLZMYIIGFHKRF-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethynylsilane Chemical compound [SiH3]C#CCl RVLZMYIIGFHKRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UEXCJVNBTNXOEH-UHFFFAOYSA-N Ethynylbenzene Chemical group C#CC1=CC=CC=C1 UEXCJVNBTNXOEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 4
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 4
- BPBNKCIVWFCMJY-UHFFFAOYSA-N 1-ethynyl-4-phenylbenzene Chemical group C1=CC(C#C)=CC=C1C1=CC=CC=C1 BPBNKCIVWFCMJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JDXDVKASJVSNEV-UHFFFAOYSA-N C[Si](C)(C)NC#CC1=CC=CC=C1 Chemical group C[Si](C)(C)NC#CC1=CC=CC=C1 JDXDVKASJVSNEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 3
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 3
- 239000012451 post-reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 3
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 3
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 3
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 3
- MCZUXEWWARACSP-UHFFFAOYSA-N 1-ethynylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C#C)=CC=CC2=C1 MCZUXEWWARACSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004705 aldimines Chemical class 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 2
- OHGXFWJXGZXTEF-UHFFFAOYSA-N ethynyl-[ethynyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C#C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C#C OHGXFWJXGZXTEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 2
- WATBCTJRCLNXNF-UHFFFAOYSA-N trimethyl(2-naphthalen-1-ylethynyl)silane Chemical compound C1=CC=C2C(C#C[Si](C)(C)C)=CC=CC2=C1 WATBCTJRCLNXNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DPKAJXUOTPUDFG-UHFFFAOYSA-N trimethyl-[1-(2-trimethylsilylethynyl)cyclohexyl]oxysilane Chemical compound C[Si](C)(C)C#CC1(O[Si](C)(C)C)CCCCC1 DPKAJXUOTPUDFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YJXLVEMDFSRFPS-UHFFFAOYSA-N trimethyl-[2-(4-phenylphenyl)ethynyl]silane Chemical group C1=CC(C#C[Si](C)(C)C)=CC=C1C1=CC=CC=C1 YJXLVEMDFSRFPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 2
- KJDMMCYMVUTZSN-UHFFFAOYSA-N (1-ethynylcyclohexyl)oxy-trimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)OC1(C#C)CCCCC1 KJDMMCYMVUTZSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXJDDDACMDUFNA-UHFFFAOYSA-N (3,3-diphenyl-3-trimethylsilyloxyprop-1-ynyl)-trimethylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C#C[Si](C)(C)C)(O[Si](C)(C)C)C1=CC=CC=C1 IXJDDDACMDUFNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBBPUPOGOVBMT-UHFFFAOYSA-N 1,1-diphenylprop-2-ynoxy(trimethyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C#C)(O[Si](C)(C)C)C1=CC=CC=C1 QTBBPUPOGOVBMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVLGANVFCMOJHR-UHFFFAOYSA-N 1,4-diethynylbenzene Chemical compound C#CC1=CC=C(C#C)C=C1 MVLGANVFCMOJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYLFHLNFIHBCPR-UHFFFAOYSA-N 1-ethynylcyclohexan-1-ol Chemical compound C#CC1(O)CCCCC1 QYLFHLNFIHBCPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJNIUIDXCYUOJW-UHFFFAOYSA-N 2-[benzyl(2-trimethylsilylethynyl)silyl]ethynyl-trimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C#C[SiH](C#C[Si](C)(C)C)CC1=CC=CC=C1 PJNIUIDXCYUOJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001120493 Arene Species 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101150003085 Pdcl gene Proteins 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 1
- AABCXFWRIWKPJZ-UHFFFAOYSA-N [C-]1(C=CC=C1)C#C[Si](C)(C)C.[CH-]1C=CC=C1.[Fe+2] Chemical compound [C-]1(C=CC=C1)C#C[Si](C)(C)C.[CH-]1C=CC=C1.[Fe+2] AABCXFWRIWKPJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSCBKYJSIHYHNC-UHFFFAOYSA-N [dimethyl(2-trimethylsilylethynyl)silyl]oxy-dimethyl-(2-trimethylsilylethynyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C#C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C#C[Si](C)(C)C ZSCBKYJSIHYHNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004983 alkyl aryl ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005905 alkynylation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000005001 aminoaryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000001502 aryl halides Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDWYFWIBTZJGOR-UHFFFAOYSA-N bis(trimethylsilyl)acetylene Chemical compound C[Si](C)(C)C#C[Si](C)(C)C ZDWYFWIBTZJGOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007036 catalytic synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000002860 competitive effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005686 cross metathesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- VWWMOACCGFHMEV-UHFFFAOYSA-N dicarbide(2-) Chemical compound [C-]#[C-] VWWMOACCGFHMEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXVUNEVBRUNGTK-UHFFFAOYSA-N diethynyl(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C#C)(C#C)C1=CC=CC=C1 GXVUNEVBRUNGTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXUAYIZEOAKBSJ-UHFFFAOYSA-N diethynyl-methyl-phenylsilane Chemical compound C#C[Si](C)(C#C)C1=CC=CC=C1 TXUAYIZEOAKBSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- LAWTYLHSQJUVQH-UHFFFAOYSA-N diphenyl-bis(2-trimethylsilylethynyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C#C[Si](C)(C)C)(C#C[Si](C)(C)C)C1=CC=CC=C1 LAWTYLHSQJUVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTGAUXSVQKWNHO-UHFFFAOYSA-N ditert-butylsilicon Chemical group CC(C)(C)[Si]C(C)(C)C JTGAUXSVQKWNHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- ZQBSWAPGKZOLHT-UHFFFAOYSA-N ethynyl-[2-[ethynyl(dimethyl)silyl]ethyl]-dimethylsilane Chemical compound C#C[Si](C)(C)CC[Si](C)(C)C#C ZQBSWAPGKZOLHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- UPWPDUACHOATKO-UHFFFAOYSA-K gallium trichloride Chemical compound Cl[Ga](Cl)Cl UPWPDUACHOATKO-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical class C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009815 homocoupling reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 150000002503 iridium Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- YNESATAKKCNGOF-UHFFFAOYSA-N lithium bis(trimethylsilyl)amide Chemical compound [Li+].C[Si](C)(C)[N-][Si](C)(C)C YNESATAKKCNGOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 238000006384 oligomerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002900 organolithium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002901 organomagnesium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006552 photochemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012041 precatalyst Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- YORCIIVHUBAYBQ-UHFFFAOYSA-N propargyl bromide Chemical compound BrCC#C YORCIIVHUBAYBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000007348 radical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- YAYGSLOSTXKUBW-UHFFFAOYSA-N ruthenium(2+) Chemical compound [Ru+2] YAYGSLOSTXKUBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000000844 transformation Methods 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005829 trimerization reaction Methods 0.000 description 1
- UZIXCCMXZQWTPB-UHFFFAOYSA-N trimethyl(2-phenylethynyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C#CC1=CC=CC=C1 UZIXCCMXZQWTPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZMNDQDKRGSHNZ-UHFFFAOYSA-N trimethyl-(2-methyl-4-trimethylsilylbut-3-yn-2-yl)oxysilane Chemical compound C[Si](C)(C)OC(C)(C)C#C[Si](C)(C)C QZMNDQDKRGSHNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMTMWEXUJQSPCA-UHFFFAOYSA-N trimethyl-[2-[4-(2-trimethylsilylethynyl)phenyl]ethynyl]silane Chemical compound C[Si](C)(C)C#CC1=CC=C(C#C[Si](C)(C)C)C=C1 CMTMWEXUJQSPCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZADMVBSHDANSRO-UHFFFAOYSA-N trimethyl-[2-tri(propan-2-yl)silylethynyl]silane Chemical compound CC(C)[Si](C(C)C)(C(C)C)C#C[Si](C)(C)C ZADMVBSHDANSRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)C PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- FTVLMFQEYACZNP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl trifluoromethanesulfonate Chemical compound C[Si](C)(C)OS(=O)(=O)C(F)(F)F FTVLMFQEYACZNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWMFRHBXRUITQE-UHFFFAOYSA-N trimethylsilylacetylene Chemical compound C[Si](C)(C)C#C CWMFRHBXRUITQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N uranium(0) Chemical compound [U] JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
- C07F7/0825—Preparations of compounds not comprising Si-Si or Si-cyano linkages
- C07F7/0827—Syntheses with formation of a Si-C bond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F13/00—Compounds containing elements of Groups 7 or 17 of the Periodic Table
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F17/00—Metallocenes
- C07F17/02—Metallocenes of metals of Groups 8, 9 or 10 of the Periodic System
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
- C07F7/0805—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising only Si, C or H atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
- C07F7/081—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
- C07F7/0838—Compounds with one or more Si-O-Si sequences
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
- C07F7/0838—Compounds with one or more Si-O-Si sequences
- C07F7/0872—Preparation and treatment thereof
- C07F7/0876—Reactions involving the formation of bonds to a Si atom of a Si-O-Si sequence other than a bond of the Si-O-Si linkage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0896—Compounds with a Si-H linkage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/10—Compounds having one or more C—Si linkages containing nitrogen having a Si-N linkage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1876—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/188—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-O linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1892—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions not provided for in C07F7/1876 - C07F7/1888
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
Description
R1は−SiR2R3R4
を表し、R2R3R4は等しくかつC1〜5アルキル基またはフェニルを表し、
Zは3−N,N−ビス(トリメチルシリルアミノ)フェニル、4−N,N−ビス(トリメチルシリルアミノ)フェニルを表す。
R1は−SiR2R3R4
を表し、R2R3R4は等しくかつC1〜5アルキル基またはフェニルを表し、
Zは3−N,N−ビス(トリメチルシリルアミノ)フェニル、4−N,N−ビス(トリメチルシリルアミノ)フェニル、一般式2:
R5、R6、R7、R8はC1〜5アルキル基、フェニル基を表し、
oは値1をとり、
nは値0または1をとり、
YはOまたは基−CH2−CH2−を表し、
nが0の場合、R5及びR6は互いに等しくまたは異なり、
nが1の場合、R5、R6、R7及びR8は互いに等しい。
R1は−SiR2R3R4を表し、
R2R3R4は等しくまたは異なりかつ
C1〜5アルキル、
フェニル、C1〜4を含有する1〜5個のアルキル置換基を含有するアリール、
式7:
いずれのR2R3R4置換基もヘテロアリールまたはヘテロアリール誘導体を有さず、
Zは、R1が上記と同じものを表す式2を有する基を表し、
Eはフェニレンまたは式3を有する基を表し、式中、
R5、R6、R7、R8はC1〜5アルキル基、フェニル基、一般式7を有するシロキシ基を表し、一般式7中、R9は上記と同じものを表し、
nは値0または50をとり、
oは値0または1をとり、
YはO、基(CH2)m(m=1〜16)、NR10(基R10はH、C1〜5アルキル、1〜5個のC1〜4アルキル置換基またはC1〜4アルキルラジカルを有するアルコキシ置換基を含有するアリール、アルキル鎖がC1〜4を含有するアリールアルキル、一般式8:
n=0の場合、R4及びR5は互いに等しくまたは異なり、
n=1、o=1及びYが(CH2)mまたはOまたはNR10を表す場合、R5、R6、R7及びR8は互いに等しい、あるいは対R5とR7、R6とR8、R5とR6、R7とR8は互いに等しいが別の対とは異なり、
n=1及びo=0の場合、R5、R6、R7及びR8は互いに等しくなり得る、あるいは対R5とR7、R6とR8は等しいが他方の対とは異なり得て、
YがOであり、n=2〜50の場合、R4、R5、R6及びR7は互いに等しい)を有する新規な及び慣用の(トリオルガノシリル)アルキンを得るための本発明の方法は、
一般式9:
R1は上記と同じものを表す)を有する適切なハロゲノトリオルガノシランを、式4を有するイリジウム触媒及び一般式5を有する第三級アミンの存在下で反応させることから成る。
R1は−SiR2R3R4を表し、
R2R3R4は等しくまたは異なり、かつ、
C1〜5アルキル、C5〜7シクロアルキル、
フェニル、C1〜4を含有する1〜5個のアルキル置換基を含有するアリール、
式7:
Zは、
R11が上記と同じものを表す一般式8を有するシリル基、R9が上記と同じものを表す一般式7を有するシロキシ基、
フェロセニル基、
C1〜5アルキル、
C5〜7シクロアルキル、
R1が上記と同じものを表す−CH2NR1 2、
2〜6の範囲の縮合芳香環数のアレーネ、
一般式11:
yは値0または1をとり、wは値0〜2をとり、
R12はC1〜5アルキレン基、C5〜7シクロアルキレン基を表し、
R13、R14、R15、R16、R17は等しくまたは異なりかつ水素原子、C1〜4アルキル鎖、ハロゲン、アルキルラジカルがC1〜3を含有するアルコキシ基、−NH2、−OH、−OR1またはNR1 2(R1は上記と同じものを表す)を表し、
一般式11において、w=1及びy=1の場合、R13、R14、R15、R16、R17は等しくまたは異なりかつ水素原子、C1〜4アルキル鎖、ハロゲン、アルキルラジカルがC1〜3を含有するアルコキシ基を表し、
一般式において、y=0でありwが0〜2の範囲の値をとる場合、R13、R14、R15、R16、R17は上記と同じものを表し、さらに置換基R13、R14、R15、R16、R17の少なくとも1つはフェニル、ヘテロアリール以外のアリール、−NH2、−OH、−OR1またはNR1 2(R1は上記と同じものを表す)を表す)を有する基を表す)を有する新規な及び慣用の(トリオルガノシリル)アルキンを得るための本発明の方法は、一般式9(式中、Zは上記と同じものを表す)を有する適切な末端アルキン及び一般式10(式中、XはCl、Br、I、特にはヨウ素を表し、R1は上記と同じものを表す)を有する適切なハロゲノトリオルガノシランを式4を有するイリジウム触媒及び一般式5を有する第三級アミンの存在下で反応させることから成る。
1H、13C及び29Si NMR(スペクトロメータBrucker Ultra Shield 600MHz及びVarian Mercury VT 400MHzを使用して記録した)によるスペクトル分析、
Vario EL元素分析装置を使用して行う元素分析
の結果に基づいて同定された。
マグネチックスターラを備えた容量40mLのリアクタに、アルゴン雰囲気下、0.0085g(0.015mmol)の[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、次に8mLの無水脱酸素トルエン及び0.7g(5.4mmol)のNEt(i−Pr)2を充填した。混合物全体を、開始イリジウム(I)錯体が溶解するまで撹拌し、次に0.306g(3mmol)のフェニルアセチレン及び0.96g(4.8mmol)のISiMe3を得られた混合物に添加した。反応を、フェニルアセチレンが完全に変換されるまで80℃で行った。反応が完了したら、溶媒を減圧下で残留未反応基質と共に蒸発させることによって触媒を反応混合物から除去し、次に残留物を、シリカゲルを充填したクロマトグラフィカラムに移し、生成物をヘキサンを溶離剤として使用して単離した。溶媒を最初に溶離物から蒸発させ、残留生成物を、トラップ・トゥー・トラップ(trap−to−trap)技法により減圧下で蒸留すると0.47gのフェニルエチニルトリメチルシランが収率90%で得られた。
実施例1で用いた手順に従って、反応を、
0.475g(3mmol)の4−t−Bu−フェニルアセチレンと、
0.96g(4.8mmol)のISiMe3との間で、
0.0085g(0.015mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
0.70g(5.4mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、0.59gの1−(4−t−Bu−フェニル)−2−トリメチルシリルエチンであり、収率85%で得られた。
実施例1で用いた手順に従って、反応を、
0.511g(3mmol)のHC≡CC(Me)(Et)(OSiMe3)と、
0.96g(4.8mmol)のISiMe3との間で、
0.017g(0.03mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
0.70g(5.4mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、0.68gの1−トリメチルシリル−3−メチル−3−トリメチルシロキシ−1−ブチンであり、収率94%で得られた。
実施例1で用いた手順に従って、反応を、
0.393g(2mmol)の1−エチニル−1−トリメチルシロキシ−シクロヘキサンと、
0.64g(3.2mmol)のISiMe3との間で、
0.0113g(0.02mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
0.47g(3.6mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、0.51gの1−トリメチルシリルエチニル−1−トリメチルシロキシ−シクロヘキサンであり、収率95%で得られた。
マグネチックスターラを備えた容量30mLのリアクタに、アルゴン雰囲気下、0.0113g(0.02mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、10mLのトルエン及び0.827g(6.4mmol)のNEt(i−Pr)2を充填した。混合物全体を、開始イリジウム(I)錯体が溶解するまで撹拌し、次に0.248g(2mmol)の1−エチニル−1−ヒドロキシ−シクロヘキサンを添加した。続くステップにおいて、1.200g(6mmol)のISiMe3を室温でゆっくりと添加し、その後、混合物を力強く撹拌しながら80℃にまで加熱した。反応を、開始アルキンが完全に変換されるまで継続させた。反応が完了したら、溶媒を減圧下で未反応基質と共に蒸発させた。シリル化生成物を、カニューレシステムを使用してペンタンで単離した。溶媒を最初に抽出物から蒸発させ、次に粗生成物をSiO2充填カラム(Et3Nの15%ヘキサン溶液で修飾)上でヘキサンを溶離剤として使用して精製した。生成物は、0.52gの1−トリメチルシリルエチニル−1−トリメチルシロキシ−シクロヘキサンであり、収率91%で得られた。
実施例1で用いた手順に従って、反応を、
0.561g(2mmol)の3,3−ジフェニル−3−トリメチルシロキシ−1−プロピンと、
0.64g(3.2mmol)のISiMe3との間で、
0.0113g(0.02mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
0.47g(3.6mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、0.67gの1−トリメチルシリル−3,3−ジフェニル−3−トリメチルシロキシ−1−プロピンであり、収率95%で得られた。
実施例1で用いた手順に従って、反応を、
0.42g(2mmol)のエチニルフェロセンと、
0.64g(3.2mmol)のISiMe3との間で、
0.0113g(0.02mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
0.47g(3.6mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、0.51gの1−フェロセニル−2−トリメチルシリルエチンであり、収率90%で得られた。
実施例1で用いた手順に従って、反応を、
0.363g(2mmol)のHC≡CSi(i−Pr)3と、
0.64g(3.2mmol)のISiMe3との間で、
0.0113g(0.02mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
0.47g(3.6mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、0.49gの1−(トリ−イソ−プロピルシリル)−2−トリメチルシリルエチンであり、収率97%で得られた。
実施例1で用いた手順に従って、反応を、
0.32g(2mmol)のHC≡CSiMe2Phと、
0.64g(3.2mmol)のISiMe3との間で、
0.0113g(0.02mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
0.47g(3.6mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、0.44gの1−ジメチルフェニルシリル−2−トリメチルシリルエチンであり、収率95%で得られた。
マグネチックスターラを備えた容量25mLのリアクタに、アルゴン雰囲気下、0.017g(0.03mmol)の[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、次に10mlの無水脱酸素トルエン及び0.7g(5.4mmol)のNEt(i−Pr)2を充填した。混合物全体を、開始イリジウム(I)錯体が完全に溶解するまで撹拌し、次に0.274g(1.5mmol)の1,3−ジエチニルテトラメチルジシロキサン及び1.02g(5.1mmol)のISiMe3を得られた混合物に添加した。反応を、1,3−ジエチニルテトラメチルジシロキサンが完全に変換されるまで80℃で行った。反応が完了したら、触媒を反応混合物から除去するために、溶媒を残留未反応基質と共に蒸発させ、次に残留物をシリカゲルを充填したクロマトグラフィカラムに移し、生成物をヘキサンを溶離剤として使用して単離した。生成物は、0.45gの1,3−ビス(トリメチルシリルエチニル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンであり、収率92%で得られた。
実施例10で用いた手順に従って、反応を、
0.292g(1.5mmol)の1,2−ビス(ジメチルエチニルシリル)エタンと、
0.96g(5.1mmol)のISiMe3との間で、
0.017g(0.03mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
0.70g(5.4mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、0.44gの1,2−(ビス(トリメチルシリルエチニル)ジメチルシリル)エタンであり、収率86%で得られた。
実施例10で用いた手順に従って、反応を、
0.189g(1.5mmol)の1,4−ジエチニルベンゼンと、
1.02g(5.1mmol)のISiMe3との間で、
0.017g(0.03mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
0.70g(5.4mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、0.39gの1,4−ビス(トリメチルシリルエチニル)ベンゼンであり、収率97%で得られた。
実施例10で用いた手順に従って、反応を、
0.255g(1.5mmol)のジエチニルメチルフェニルシランと、
1.02g(5.1mmol)のISiMe3との間で、
0.017g(0.03mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
0.70g(5.4mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、0.43gのビス(トリメチルシリルエチニル)フェニルメチルシランであり、収率91%で得られた。
実施例10で用いた手順に従って、反応を、
0.384g(1.5mmol)のジエチニルジフェニルシランと、
1.02g(5.1mmol)のISiMe3との間で、
0.017g(0.03mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
0.70g(5.4mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、0.54gのビス(トリメチルシリルエチニル)ジフェニルシランであり、収率96%で得られた。
マグネチックスターラを備えた容量40mLのリアクタに、アルゴン雰囲気下、0.0085g(0.015mmol)の[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、次に25mLの無水脱酸素トルエン及び0.7g(5.4mmol)のNEt(i−Pr)2を充填した。混合物全体を、開始イリジウム(I)錯体が溶解するまで撹拌し、次に0.598g(3mmol)の(Me3Si)2NCH2C≡CH及び0.96g(4.8mmol)のISiMe3を得られた混合物に添加した。反応を、(Me3Si)2NCH2C≡CHが完全に変換されるまで80℃で行った。反応が完了したら、触媒を反応混合物から除去するために、溶媒を減圧下で残留未反応基質と共に蒸発させ、次に無水ペンタンを残留物に添加した。得られた懸濁液を濾過し、得られた沈殿物を2回にわたって溶媒ですすいだ。溶媒は最初に濾液から蒸発し、残留生成物をトラップ・トゥー・トラップ技法により減圧下で蒸留すると1.45gの1−(N,N−ビス(トリメチル−シリル)アミノ)−3−トリメチルシリルプロプ−2−インが96%の収率で得られた。
実施例15で用いた手順に従って、反応を、
1.57g(6mmol)の3−N,N−ビス(トリメチルシリルアミノ)フェニルアセチレンと、
1.92g(9.6mmol)のISiMe3との間で、
0.034g(0.06mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
1.40g(10.8mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、1.9gの1−(3−N,N−ビス(トリメチルシリル)アミノフェニル)−2−トリメチルシリルエチンであり、収率95%で得られた。
実施例15で用いた手順に従って、反応を、
1.57g(6mmol)の3−N,N−ビス(トリメチルシリルアミノ)フェニルアセチレンと、
1.92g(9.6mmol)のISiMe3との間で、
0.0403g(0.06mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(cod)}2]、
1.40g(10.8mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、1.9gの1−(3−N,N−ビス(トリメチルシリル)アミノフェニル)−2−トリメチルシリルエチンであり、収率78%で得られた。
マグネチックスターラを備えた容量40mLのリアクタに、アルゴン雰囲気下、0.0085g(0.015mmol)の[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、次に8mLの無水脱酸素トルエン及び0.7g(5.4mmol)のNEt(i−Pr)2を充填した。混合物全体を、開始イリジウム(I)錯体が溶解するまで撹拌し、次に0.535g(3mmol)の4−エチニルビフェニル及び0.96g(4.8mmol)のISiMe3を得られた混合物に添加した。反応を、4−エチニルビフェニルが完全に変換されるまで80℃で行った。反応が完了したら、触媒を反応混合物から除去するために、溶媒を減圧下で残留未反応基質と共に蒸発させた。シリル化生成物を、カニューレシステムを使用してペンタンで抽出した。溶媒を最初に抽出物から蒸発させ、次に粗生成物をSiO2充填カラム(Et3Nの15%ヘキサン溶液で修飾)上でヘキサンを溶離剤として使用して精製した。生成物は、0.706gの4−(トリメチルシリルエチニル)ビフェニルであり、収率94%で得られた。
実施例18で用いた手順に従って、反応を、
1.07g(6mmol)の4−エチニルビフェニルと、
1.92g(9.6mmol)のISiMe3との間で、
0.017g(0.03mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
1.40g(10.8mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、1.44gの4−(トリメチルシリルエチニル)ビフェニルであり、収率96%で得られた。
実施例18で用いた手順に従って、反応を、
0.457g(3mmol)の1−エチニルナフタレンと、
0.96g(4.8mmol)のISiMe3との間で、
0.0085g(0.015mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
0.70g(5.4mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、0.639gの1−(トリメチルシリルエチニル)ナフタレンであり、収率95%で得られた。
実施例18で用いた手順に従って、反応を、
0.914g(6mmol)の1−エチニルナフタレンと、
1.92g(9.6mmol)のISiMe3との間で、
0.017g(0.03mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
1.4g(10.8mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、1.305gの1−(トリメチルシリルエチニル)ナフタレンであり、収率97%で得られた。
実施例18で用いた手順に従って、反応を、
0.684g(3mmol)の2−(4−エチニルフェニル)−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキソボレートと、
0.96g(4.8mmol)のISiMe3との間で、
0.017g(0.03mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
0.70g(5.4mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、0.807gの2−(4−トリメチルシリルエチニルフェニル)−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキソボレートであり、収率94%で得られた。
実施例18で用いた手順に従って、反応を、
1.368g(6mmol)の2−(4−エチニルフェニル)−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキソボレートと、
1.92g(9.6mmol)のISiMe3との間で、
0.034g(0.06mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
1.4g(10.8mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、1.649gの2−(4−トリメチルシリルエチニルフェニル)−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキソボレートであり、収率96%で得られた。
マグネチックスターラを備えた容量40mLのリアクタに、アルゴン雰囲気下、0.017g(0.03mmol)の[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、次に25mLの無水脱酸素トルエン及び0.7g(5.4mmol)のNEt(i−Pr)2を充填した。混合物全体を、開始イリジウム(I)錯体が溶解するまで撹拌し、次に0.785g(3mmol)の4−(Me3Si)2NC6H4C≡CH及び0.96g(4.8mmol)のISiMe3を得られた混合物に添加した。反応を、4−(Me3Si)2NC6H4C≡CHが完全に変換されるまで80℃で行った。反応が完了したら、触媒を反応混合物から除去するために、溶媒を減圧下で残留未反応基質と共に蒸発させ、次に無水ペンタンを残留物に添加した。得られた懸濁液を濾過し、得られた沈殿物を2回にわたって溶媒ですすいだ。溶媒は最初に濾液から蒸発し、残留生成物をトラップ・トゥー・トラップ技法により減圧下で蒸留すると0.941gの1−(4−N,N−ビス(トリメチル−シリル)アミノフェニル)−2−トリメチルシリルエチンが収率94%で得られた。
実施例18で用いた手順に従って、反応を、
1.57g(6mmol)の4−N,N−ビス(トリメチルシリルアミノ)フェニルアセチレンと、
1.92g(9.6mmol)のISiMe3との間で、
0.034g(0.06mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
1.40g(10.8mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、1.9gの1−(4−N,N−ビス(トリメチルシリル)アミノフェニル)−2−トリメチルシリルエチンであり、収率95%で得られた。
Claims (12)
- 一般式1:
R1は−SiR2R3R4を表し、
R2R3R4は等しくまたは異なり、かつ、
C1〜5アルキル、
フェニル、C1〜4を含有する1〜5個のアルキル置換基を含有するアリール、
式7:
いずれのR2R3R4置換基もヘテロアリールまたはヘテロアリール誘導体を有さず、
Zは、式2:
Eはフェニレンまたは式3:
式中、
R5、R6、R7、R8はC1〜5アルキル基、フェニル基または一般式7を有するシロキシ基を表し、一般式7中、R9は上記と同じものを表し、
nは値0〜50をとり、
oは値0または1をとり、
YはO、基−(CH2)m−(m=1〜16)、−NR10−(基R10はH、C1〜5アルキル、1〜5個のC1〜4アルキル置換基またはC1〜4アルキルラジカルを有するアルコキシ置換基を含有するアリール、アルキル鎖がC1〜4を含有するアリールアルキル、一般式8:
n=0の場合、R4及びR5は互いに等しくまたは異なり、
n=1、o=1及びYが−(CH2)m−またはOまたはNR10を表す場合、R5、R6、R7及びR8は互いに等しい、あるいは対R5とR7、R6とR8、R5とR6、R7とR8は互いに等しいが別の対とは異なり、
n=1及びo=0の場合、R5、R6、R7及びR8は互いに等しくなり得る、あるいは対R5とR7、R6とR8は等しいが他方の対とは異なり得て、
YがOであり、n=2〜50の場合、R4、R5、R6及びR7は互いに等しい)を有する新規な及び慣用の(トリオルガノシリル)アルキンを得るための方法であって、
一般式9:
R1は上記と同じものを表す)を有する適切なハロゲノトリオルガノシランを、一般式4:
ことを特徴とする方法。 - 使用する前記イリジウム錯体が[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]である
請求項2に記載の方法。 - 前記イリジウム錯体を、官能性末端アルキン基に対して0.01〜4モル%の範囲の量で使用する
請求項2または3に記載の方法。 - 前記イリジウム錯体を、官能性末端アルキン基に対して1〜2モル%の範囲の量で使用する
請求項4に記載の方法。 - 前記式5を有するアミンを、生成されるハロゲン化水素の化学量論量と使用する錯体中のイリジウムイオンに対して2.2倍の過剰量との合計と同等以上の量で使用する
請求項2ないし5のいずれかに記載の方法。 - 一般式1:
R1は−SiR2R3R4を表し、
R2R3R4は等しくまたは異なりかつ
C1〜5アルキル、C5〜7シクロアルキル、
フェニル、C1〜4を含有する1〜5個のアルキル置換基を含有するアリール、
式7:
Zは、
R11が上記と同じものを表す一般式8を有するシリル基、
(式8:
R9が上記と同じものを表す一般式7を有するシロキシ基、
フェロセニル基、
C1〜5アルキル、
C5〜7シクロアルキル、
R1が上記と同じものを表す−CH2NR1 2、
2〜6の範囲の縮合芳香環数のアレーン、
一般式11:
yは値0または1をとり、wは値0〜2をとり、
R12はC1〜5アルキレン基、C5〜7シクロアルキレン基を表し、
R13、R14、R15、R16、R17は等しくまたは異なりかつ水素原子、C1〜4アルキル鎖、ハロゲン、アルキルラジカルがC1〜3を含有するアルコキシ基、−NH2、−OH、−OR1またはNR1 2(R1は上記と同じものを表す)を表し、
w=1及びy=1の場合、R13、R14、R15、R16、R17は等しくまたは異なりかつ水素原子、C1〜4アルキル鎖、ハロゲン、アルキルラジカルがC1〜3を含有するアルコキシ基を表し、
y=0でありwが0〜2の範囲の値をとる場合、R13、R14、R15、R16、R17は上記と同じものを表し、さらに置換基R13、R14、R15、R16、R17の少なくとも1つはフェニル、ヘテロアリール以外のアリール、−NH2、−OH、−OR1またはNR1 2(R1は上記と同じものを表す)を表す)を有する基を表す)を有する新規な及び慣用の(トリオルガノシリル)アルキンを得るための方法であって、
一般式9:
ことを特徴とする方法。 - 使用する前記イリジウム錯体が[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]である
請求項7に記載の方法。 - 前記イリジウム錯体を、官能性末端アルキン基に対して0.01〜4モル%の範囲の量で使用する
請求項7または8に記載の方法。 - 前記イリジウム錯体を、官能性末端アルキン基に対して0.5〜1モル%の範囲の量で使用する
請求項9に記載の方法。 - アミン置換基を含有する化合物の合成において、前記イリジウム錯体を、官能性末端アルキン基に対して0.5〜2モル%の範囲の量で使用する
請求項9に記載の方法。 - 前記式5を有するアミンを、生成されるハロゲン化水素の化学量論量と使用する錯体中のイリジウムイオンに対して2.2倍の過剰量との合計と同等以上の量で使用する
請求項7ないし11のいずれかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PL393475A PL218555B1 (pl) | 2010-12-30 | 2010-12-30 | Sposób otrzymywania (triorganosililo)alkinów |
PLP.393476 | 2010-12-30 | ||
PL393476A PL220987B1 (pl) | 2010-12-30 | 2010-12-30 | Nowe bis(triorganosililo)terminalne dialkiny oraz nowy katalityczny sposób otrzymywania bis(triorganosililo)terminalnych dialkinów |
PLP.393475 | 2010-12-30 | ||
PLP.394454 | 2011-04-06 | ||
PL394454A PL217836B1 (pl) | 2011-04-06 | 2011-04-06 | Nowy 1-(3-N,N-bis(trimetylosililoamino)fenylo)-2-(trimetylosililo)etyn oraz nowy katalityczny sposób otrzymywania 1-(N,N-bis(triorganosililoamino)organo)- -2-(triorganosililo)etynów |
PLP.397507 | 2011-12-24 | ||
PL397507A PL216696B1 (pl) | 2011-12-24 | 2011-12-24 | Nowy 1-(4-N,N-bis(triorganosililoamino)fenylo-2-(triorganosililo)etyn oraz nowy katalityczny sposób otrzymywania podstawionych (triorganosililo)alkinów |
PCT/PL2011/050056 WO2012091588A2 (en) | 2010-12-30 | 2011-12-29 | New (triorganosilyl)alkynes and their derivatives and a new catalytic method for obtaining new and conventional substituted (triorganosilyl)alkynes and their derivatives |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014501275A JP2014501275A (ja) | 2014-01-20 |
JP5886876B2 true JP5886876B2 (ja) | 2016-03-16 |
Family
ID=45688221
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013547383A Expired - Fee Related JP5886876B2 (ja) | 2010-12-30 | 2011-12-29 | 新規な(トリオルガノシリル)アルキン及びその誘導体、並びに、新規な及び慣用の置換(トリオルガノシリル)アルキンと、その誘導体を得るための新規な触媒法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9108994B2 (ja) |
EP (1) | EP2658861B8 (ja) |
JP (1) | JP5886876B2 (ja) |
KR (1) | KR101631132B1 (ja) |
CN (1) | CN103328489B (ja) |
PL (1) | PL2658861T3 (ja) |
WO (1) | WO2012091588A2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106661059B (zh) * | 2014-09-02 | 2019-08-06 | 加州理工学院 | 末端炔烃c-h键的碱催化的甲硅烷基化 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0892257A (ja) * | 1994-09-29 | 1996-04-09 | Sagami Chem Res Center | アルキニルシラン類の製造方法 |
JPH09295986A (ja) * | 1996-03-08 | 1997-11-18 | Sagami Chem Res Center | アルキニルシラン類の製造方法 |
JPH11228579A (ja) * | 1998-02-10 | 1999-08-24 | Sagami Chem Res Center | N−シリルイミン類の製造方法 |
FR2830188B1 (fr) * | 2001-09-28 | 2005-01-28 | Oreal | Composition tinctoriale contenant un compose para-aminophenol ou para-phenylene diamine substitue par un radical silanique |
WO2007102255A1 (ja) * | 2006-03-07 | 2007-09-13 | Japan Science And Technology Agency | フラーレン誘導体 |
EP2076521B1 (en) * | 2006-08-16 | 2012-12-26 | Adam Mickiewicz University | Synthesis of silylsubstituted 1,2-alkynes |
-
2011
- 2011-12-29 PL PL11819029T patent/PL2658861T3/pl unknown
- 2011-12-29 WO PCT/PL2011/050056 patent/WO2012091588A2/en active Application Filing
- 2011-12-29 EP EP11819029.7A patent/EP2658861B8/en not_active Not-in-force
- 2011-12-29 CN CN201180063476.4A patent/CN103328489B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2011-12-29 KR KR1020137020283A patent/KR101631132B1/ko active IP Right Grant
- 2011-12-29 JP JP2013547383A patent/JP5886876B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2011-12-29 US US13/976,260 patent/US9108994B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2015
- 2015-07-10 US US14/796,370 patent/US9518069B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20130132969A (ko) | 2013-12-05 |
CN103328489B (zh) | 2016-11-02 |
WO2012091588A3 (en) | 2012-10-04 |
US20140005427A1 (en) | 2014-01-02 |
EP2658861B8 (en) | 2016-12-07 |
US9518069B2 (en) | 2016-12-13 |
WO2012091588A2 (en) | 2012-07-05 |
CN103328489A (zh) | 2013-09-25 |
JP2014501275A (ja) | 2014-01-20 |
PL2658861T3 (pl) | 2017-05-31 |
US20150361111A1 (en) | 2015-12-17 |
KR101631132B1 (ko) | 2016-06-16 |
EP2658861A2 (en) | 2013-11-06 |
US9108994B2 (en) | 2015-08-18 |
EP2658861B1 (en) | 2016-10-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101710043B1 (ko) | 하이드로실릴화 촉매 | |
JP2017066147A (ja) | 有機アミノシランおよびその製造方法 | |
JP3864070B2 (ja) | オルガノシランの製造方法 | |
CA2019691C (en) | Preparation of tertiary-hydrocarbylsilyl compounds | |
JP5886876B2 (ja) | 新規な(トリオルガノシリル)アルキン及びその誘導体、並びに、新規な及び慣用の置換(トリオルガノシリル)アルキンと、その誘導体を得るための新規な触媒法 | |
JPH0812682A (ja) | ビス(ジクロロオルガノシリル)アルカン誘導体及びその製造方法 | |
JP3122358B2 (ja) | 3−クロロプロピルシラン類の製造方法 | |
JPH06157554A (ja) | トリオルガノクロロシランの製造方法 | |
US5068381A (en) | Poly(silvinylene)s and a process for their preparation | |
JPS6059916B2 (ja) | 1,2−ジシリルアルケン化合物の製造方法 | |
WO2018064163A1 (en) | Method for preparing silahydrocarbons | |
JP3856088B2 (ja) | ビスシリルノルボルナン化合物の製造方法 | |
JPH04124189A (ja) | 有機ケイ素化合物の製造方法 | |
JP3856050B2 (ja) | 3−クロロプロピルシラン類の製造方法 | |
JPS6059917B2 (ja) | シス−1,2−ジシリルアルケン化合物 | |
KR100469945B1 (ko) | 비닐클로로실란의제조방법 | |
JP2003212884A (ja) | フェニルシランの製造方法 | |
JP2003277389A (ja) | フェニルシランの製造方法 | |
PL216696B1 (pl) | Nowy 1-(4-N,N-bis(triorganosililoamino)fenylo-2-(triorganosililo)etyn oraz nowy katalityczny sposób otrzymywania podstawionych (triorganosililo)alkinów | |
PL217836B1 (pl) | Nowy 1-(3-N,N-bis(trimetylosililoamino)fenylo)-2-(trimetylosililo)etyn oraz nowy katalityczny sposób otrzymywania 1-(N,N-bis(triorganosililoamino)organo)- -2-(triorganosililo)etynów | |
JP2010235595A (ja) | アルキル化されたインドール類の製造方法 | |
PL188754B1 (pl) | Sposób otrzymywania sililoetenów | |
PL218555B1 (pl) | Sposób otrzymywania (triorganosililo)alkinów | |
JP2003277388A (ja) | フェニルシランの製造方法 | |
JPH09194484A (ja) | アルキニルシラン類の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130820 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140911 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140919 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150604 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150616 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150826 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160209 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160212 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5886876 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |