JP5886876B2 - 新規な(トリオルガノシリル)アルキン及びその誘導体、並びに、新規な及び慣用の置換(トリオルガノシリル)アルキンと、その誘導体を得るための新規な触媒法 - Google Patents
新規な(トリオルガノシリル)アルキン及びその誘導体、並びに、新規な及び慣用の置換(トリオルガノシリル)アルキンと、その誘導体を得るための新規な触媒法 Download PDFInfo
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Description
R1は−SiR2R3R4
を表し、R2R3R4は等しくかつC1〜5アルキル基またはフェニルを表し、
Zは3−N,N−ビス(トリメチルシリルアミノ)フェニル、4−N,N−ビス(トリメチルシリルアミノ)フェニルを表す。
R1は−SiR2R3R4
を表し、R2R3R4は等しくかつC1〜5アルキル基またはフェニルを表し、
Zは3−N,N−ビス(トリメチルシリルアミノ)フェニル、4−N,N−ビス(トリメチルシリルアミノ)フェニル、一般式2:
R5、R6、R7、R8はC1〜5アルキル基、フェニル基を表し、
oは値1をとり、
nは値0または1をとり、
YはOまたは基−CH2−CH2−を表し、
nが0の場合、R5及びR6は互いに等しくまたは異なり、
nが1の場合、R5、R6、R7及びR8は互いに等しい。
R1は−SiR2R3R4を表し、
R2R3R4は等しくまたは異なりかつ
C1〜5アルキル、
フェニル、C1〜4を含有する1〜5個のアルキル置換基を含有するアリール、
式7:
いずれのR2R3R4置換基もヘテロアリールまたはヘテロアリール誘導体を有さず、
Zは、R1が上記と同じものを表す式2を有する基を表し、
Eはフェニレンまたは式3を有する基を表し、式中、
R5、R6、R7、R8はC1〜5アルキル基、フェニル基、一般式7を有するシロキシ基を表し、一般式7中、R9は上記と同じものを表し、
nは値0または50をとり、
oは値0または1をとり、
YはO、基(CH2)m(m=1〜16)、NR10(基R10はH、C1〜5アルキル、1〜5個のC1〜4アルキル置換基またはC1〜4アルキルラジカルを有するアルコキシ置換基を含有するアリール、アルキル鎖がC1〜4を含有するアリールアルキル、一般式8:
n=0の場合、R4及びR5は互いに等しくまたは異なり、
n=1、o=1及びYが(CH2)mまたはOまたはNR10を表す場合、R5、R6、R7及びR8は互いに等しい、あるいは対R5とR7、R6とR8、R5とR6、R7とR8は互いに等しいが別の対とは異なり、
n=1及びo=0の場合、R5、R6、R7及びR8は互いに等しくなり得る、あるいは対R5とR7、R6とR8は等しいが他方の対とは異なり得て、
YがOであり、n=2〜50の場合、R4、R5、R6及びR7は互いに等しい)を有する新規な及び慣用の(トリオルガノシリル)アルキンを得るための本発明の方法は、
一般式9:
R1は上記と同じものを表す)を有する適切なハロゲノトリオルガノシランを、式4を有するイリジウム触媒及び一般式5を有する第三級アミンの存在下で反応させることから成る。
R1は−SiR2R3R4を表し、
R2R3R4は等しくまたは異なり、かつ、
C1〜5アルキル、C5〜7シクロアルキル、
フェニル、C1〜4を含有する1〜5個のアルキル置換基を含有するアリール、
式7:
Zは、
R11が上記と同じものを表す一般式8を有するシリル基、R9が上記と同じものを表す一般式7を有するシロキシ基、
フェロセニル基、
C1〜5アルキル、
C5〜7シクロアルキル、
R1が上記と同じものを表す−CH2NR1 2、
2〜6の範囲の縮合芳香環数のアレーネ、
一般式11:
yは値0または1をとり、wは値0〜2をとり、
R12はC1〜5アルキレン基、C5〜7シクロアルキレン基を表し、
R13、R14、R15、R16、R17は等しくまたは異なりかつ水素原子、C1〜4アルキル鎖、ハロゲン、アルキルラジカルがC1〜3を含有するアルコキシ基、−NH2、−OH、−OR1またはNR1 2(R1は上記と同じものを表す)を表し、
一般式11において、w=1及びy=1の場合、R13、R14、R15、R16、R17は等しくまたは異なりかつ水素原子、C1〜4アルキル鎖、ハロゲン、アルキルラジカルがC1〜3を含有するアルコキシ基を表し、
一般式において、y=0でありwが0〜2の範囲の値をとる場合、R13、R14、R15、R16、R17は上記と同じものを表し、さらに置換基R13、R14、R15、R16、R17の少なくとも1つはフェニル、ヘテロアリール以外のアリール、−NH2、−OH、−OR1またはNR1 2(R1は上記と同じものを表す)を表す)を有する基を表す)を有する新規な及び慣用の(トリオルガノシリル)アルキンを得るための本発明の方法は、一般式9(式中、Zは上記と同じものを表す)を有する適切な末端アルキン及び一般式10(式中、XはCl、Br、I、特にはヨウ素を表し、R1は上記と同じものを表す)を有する適切なハロゲノトリオルガノシランを式4を有するイリジウム触媒及び一般式5を有する第三級アミンの存在下で反応させることから成る。
1H、13C及び29Si NMR(スペクトロメータBrucker Ultra Shield 600MHz及びVarian Mercury VT 400MHzを使用して記録した)によるスペクトル分析、
Vario EL元素分析装置を使用して行う元素分析
の結果に基づいて同定された。
マグネチックスターラを備えた容量40mLのリアクタに、アルゴン雰囲気下、0.0085g(0.015mmol)の[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、次に8mLの無水脱酸素トルエン及び0.7g(5.4mmol)のNEt(i−Pr)2を充填した。混合物全体を、開始イリジウム(I)錯体が溶解するまで撹拌し、次に0.306g(3mmol)のフェニルアセチレン及び0.96g(4.8mmol)のISiMe3を得られた混合物に添加した。反応を、フェニルアセチレンが完全に変換されるまで80℃で行った。反応が完了したら、溶媒を減圧下で残留未反応基質と共に蒸発させることによって触媒を反応混合物から除去し、次に残留物を、シリカゲルを充填したクロマトグラフィカラムに移し、生成物をヘキサンを溶離剤として使用して単離した。溶媒を最初に溶離物から蒸発させ、残留生成物を、トラップ・トゥー・トラップ(trap−to−trap)技法により減圧下で蒸留すると0.47gのフェニルエチニルトリメチルシランが収率90%で得られた。
実施例1で用いた手順に従って、反応を、
0.475g(3mmol)の4−t−Bu−フェニルアセチレンと、
0.96g(4.8mmol)のISiMe3との間で、
0.0085g(0.015mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
0.70g(5.4mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、0.59gの1−(4−t−Bu−フェニル)−2−トリメチルシリルエチンであり、収率85%で得られた。
実施例1で用いた手順に従って、反応を、
0.511g(3mmol)のHC≡CC(Me)(Et)(OSiMe3)と、
0.96g(4.8mmol)のISiMe3との間で、
0.017g(0.03mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
0.70g(5.4mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、0.68gの1−トリメチルシリル−3−メチル−3−トリメチルシロキシ−1−ブチンであり、収率94%で得られた。
実施例1で用いた手順に従って、反応を、
0.393g(2mmol)の1−エチニル−1−トリメチルシロキシ−シクロヘキサンと、
0.64g(3.2mmol)のISiMe3との間で、
0.0113g(0.02mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
0.47g(3.6mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、0.51gの1−トリメチルシリルエチニル−1−トリメチルシロキシ−シクロヘキサンであり、収率95%で得られた。
マグネチックスターラを備えた容量30mLのリアクタに、アルゴン雰囲気下、0.0113g(0.02mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、10mLのトルエン及び0.827g(6.4mmol)のNEt(i−Pr)2を充填した。混合物全体を、開始イリジウム(I)錯体が溶解するまで撹拌し、次に0.248g(2mmol)の1−エチニル−1−ヒドロキシ−シクロヘキサンを添加した。続くステップにおいて、1.200g(6mmol)のISiMe3を室温でゆっくりと添加し、その後、混合物を力強く撹拌しながら80℃にまで加熱した。反応を、開始アルキンが完全に変換されるまで継続させた。反応が完了したら、溶媒を減圧下で未反応基質と共に蒸発させた。シリル化生成物を、カニューレシステムを使用してペンタンで単離した。溶媒を最初に抽出物から蒸発させ、次に粗生成物をSiO2充填カラム(Et3Nの15%ヘキサン溶液で修飾)上でヘキサンを溶離剤として使用して精製した。生成物は、0.52gの1−トリメチルシリルエチニル−1−トリメチルシロキシ−シクロヘキサンであり、収率91%で得られた。
実施例1で用いた手順に従って、反応を、
0.561g(2mmol)の3,3−ジフェニル−3−トリメチルシロキシ−1−プロピンと、
0.64g(3.2mmol)のISiMe3との間で、
0.0113g(0.02mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
0.47g(3.6mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、0.67gの1−トリメチルシリル−3,3−ジフェニル−3−トリメチルシロキシ−1−プロピンであり、収率95%で得られた。
実施例1で用いた手順に従って、反応を、
0.42g(2mmol)のエチニルフェロセンと、
0.64g(3.2mmol)のISiMe3との間で、
0.0113g(0.02mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
0.47g(3.6mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、0.51gの1−フェロセニル−2−トリメチルシリルエチンであり、収率90%で得られた。
実施例1で用いた手順に従って、反応を、
0.363g(2mmol)のHC≡CSi(i−Pr)3と、
0.64g(3.2mmol)のISiMe3との間で、
0.0113g(0.02mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
0.47g(3.6mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、0.49gの1−(トリ−イソ−プロピルシリル)−2−トリメチルシリルエチンであり、収率97%で得られた。
実施例1で用いた手順に従って、反応を、
0.32g(2mmol)のHC≡CSiMe2Phと、
0.64g(3.2mmol)のISiMe3との間で、
0.0113g(0.02mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
0.47g(3.6mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、0.44gの1−ジメチルフェニルシリル−2−トリメチルシリルエチンであり、収率95%で得られた。
マグネチックスターラを備えた容量25mLのリアクタに、アルゴン雰囲気下、0.017g(0.03mmol)の[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、次に10mlの無水脱酸素トルエン及び0.7g(5.4mmol)のNEt(i−Pr)2を充填した。混合物全体を、開始イリジウム(I)錯体が完全に溶解するまで撹拌し、次に0.274g(1.5mmol)の1,3−ジエチニルテトラメチルジシロキサン及び1.02g(5.1mmol)のISiMe3を得られた混合物に添加した。反応を、1,3−ジエチニルテトラメチルジシロキサンが完全に変換されるまで80℃で行った。反応が完了したら、触媒を反応混合物から除去するために、溶媒を残留未反応基質と共に蒸発させ、次に残留物をシリカゲルを充填したクロマトグラフィカラムに移し、生成物をヘキサンを溶離剤として使用して単離した。生成物は、0.45gの1,3−ビス(トリメチルシリルエチニル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンであり、収率92%で得られた。
実施例10で用いた手順に従って、反応を、
0.292g(1.5mmol)の1,2−ビス(ジメチルエチニルシリル)エタンと、
0.96g(5.1mmol)のISiMe3との間で、
0.017g(0.03mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
0.70g(5.4mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、0.44gの1,2−(ビス(トリメチルシリルエチニル)ジメチルシリル)エタンであり、収率86%で得られた。
実施例10で用いた手順に従って、反応を、
0.189g(1.5mmol)の1,4−ジエチニルベンゼンと、
1.02g(5.1mmol)のISiMe3との間で、
0.017g(0.03mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
0.70g(5.4mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、0.39gの1,4−ビス(トリメチルシリルエチニル)ベンゼンであり、収率97%で得られた。
実施例10で用いた手順に従って、反応を、
0.255g(1.5mmol)のジエチニルメチルフェニルシランと、
1.02g(5.1mmol)のISiMe3との間で、
0.017g(0.03mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
0.70g(5.4mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、0.43gのビス(トリメチルシリルエチニル)フェニルメチルシランであり、収率91%で得られた。
実施例10で用いた手順に従って、反応を、
0.384g(1.5mmol)のジエチニルジフェニルシランと、
1.02g(5.1mmol)のISiMe3との間で、
0.017g(0.03mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
0.70g(5.4mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、0.54gのビス(トリメチルシリルエチニル)ジフェニルシランであり、収率96%で得られた。
マグネチックスターラを備えた容量40mLのリアクタに、アルゴン雰囲気下、0.0085g(0.015mmol)の[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、次に25mLの無水脱酸素トルエン及び0.7g(5.4mmol)のNEt(i−Pr)2を充填した。混合物全体を、開始イリジウム(I)錯体が溶解するまで撹拌し、次に0.598g(3mmol)の(Me3Si)2NCH2C≡CH及び0.96g(4.8mmol)のISiMe3を得られた混合物に添加した。反応を、(Me3Si)2NCH2C≡CHが完全に変換されるまで80℃で行った。反応が完了したら、触媒を反応混合物から除去するために、溶媒を減圧下で残留未反応基質と共に蒸発させ、次に無水ペンタンを残留物に添加した。得られた懸濁液を濾過し、得られた沈殿物を2回にわたって溶媒ですすいだ。溶媒は最初に濾液から蒸発し、残留生成物をトラップ・トゥー・トラップ技法により減圧下で蒸留すると1.45gの1−(N,N−ビス(トリメチル−シリル)アミノ)−3−トリメチルシリルプロプ−2−インが96%の収率で得られた。
実施例15で用いた手順に従って、反応を、
1.57g(6mmol)の3−N,N−ビス(トリメチルシリルアミノ)フェニルアセチレンと、
1.92g(9.6mmol)のISiMe3との間で、
0.034g(0.06mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
1.40g(10.8mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、1.9gの1−(3−N,N−ビス(トリメチルシリル)アミノフェニル)−2−トリメチルシリルエチンであり、収率95%で得られた。
実施例15で用いた手順に従って、反応を、
1.57g(6mmol)の3−N,N−ビス(トリメチルシリルアミノ)フェニルアセチレンと、
1.92g(9.6mmol)のISiMe3との間で、
0.0403g(0.06mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(cod)}2]、
1.40g(10.8mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、1.9gの1−(3−N,N−ビス(トリメチルシリル)アミノフェニル)−2−トリメチルシリルエチンであり、収率78%で得られた。
マグネチックスターラを備えた容量40mLのリアクタに、アルゴン雰囲気下、0.0085g(0.015mmol)の[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、次に8mLの無水脱酸素トルエン及び0.7g(5.4mmol)のNEt(i−Pr)2を充填した。混合物全体を、開始イリジウム(I)錯体が溶解するまで撹拌し、次に0.535g(3mmol)の4−エチニルビフェニル及び0.96g(4.8mmol)のISiMe3を得られた混合物に添加した。反応を、4−エチニルビフェニルが完全に変換されるまで80℃で行った。反応が完了したら、触媒を反応混合物から除去するために、溶媒を減圧下で残留未反応基質と共に蒸発させた。シリル化生成物を、カニューレシステムを使用してペンタンで抽出した。溶媒を最初に抽出物から蒸発させ、次に粗生成物をSiO2充填カラム(Et3Nの15%ヘキサン溶液で修飾)上でヘキサンを溶離剤として使用して精製した。生成物は、0.706gの4−(トリメチルシリルエチニル)ビフェニルであり、収率94%で得られた。
実施例18で用いた手順に従って、反応を、
1.07g(6mmol)の4−エチニルビフェニルと、
1.92g(9.6mmol)のISiMe3との間で、
0.017g(0.03mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
1.40g(10.8mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、1.44gの4−(トリメチルシリルエチニル)ビフェニルであり、収率96%で得られた。
実施例18で用いた手順に従って、反応を、
0.457g(3mmol)の1−エチニルナフタレンと、
0.96g(4.8mmol)のISiMe3との間で、
0.0085g(0.015mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
0.70g(5.4mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、0.639gの1−(トリメチルシリルエチニル)ナフタレンであり、収率95%で得られた。
実施例18で用いた手順に従って、反応を、
0.914g(6mmol)の1−エチニルナフタレンと、
1.92g(9.6mmol)のISiMe3との間で、
0.017g(0.03mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
1.4g(10.8mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、1.305gの1−(トリメチルシリルエチニル)ナフタレンであり、収率97%で得られた。
実施例18で用いた手順に従って、反応を、
0.684g(3mmol)の2−(4−エチニルフェニル)−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキソボレートと、
0.96g(4.8mmol)のISiMe3との間で、
0.017g(0.03mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
0.70g(5.4mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、0.807gの2−(4−トリメチルシリルエチニルフェニル)−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキソボレートであり、収率94%で得られた。
実施例18で用いた手順に従って、反応を、
1.368g(6mmol)の2−(4−エチニルフェニル)−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキソボレートと、
1.92g(9.6mmol)のISiMe3との間で、
0.034g(0.06mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
1.4g(10.8mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、1.649gの2−(4−トリメチルシリルエチニルフェニル)−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキソボレートであり、収率96%で得られた。
マグネチックスターラを備えた容量40mLのリアクタに、アルゴン雰囲気下、0.017g(0.03mmol)の[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、次に25mLの無水脱酸素トルエン及び0.7g(5.4mmol)のNEt(i−Pr)2を充填した。混合物全体を、開始イリジウム(I)錯体が溶解するまで撹拌し、次に0.785g(3mmol)の4−(Me3Si)2NC6H4C≡CH及び0.96g(4.8mmol)のISiMe3を得られた混合物に添加した。反応を、4−(Me3Si)2NC6H4C≡CHが完全に変換されるまで80℃で行った。反応が完了したら、触媒を反応混合物から除去するために、溶媒を減圧下で残留未反応基質と共に蒸発させ、次に無水ペンタンを残留物に添加した。得られた懸濁液を濾過し、得られた沈殿物を2回にわたって溶媒ですすいだ。溶媒は最初に濾液から蒸発し、残留生成物をトラップ・トゥー・トラップ技法により減圧下で蒸留すると0.941gの1−(4−N,N−ビス(トリメチル−シリル)アミノフェニル)−2−トリメチルシリルエチンが収率94%で得られた。
実施例18で用いた手順に従って、反応を、
1.57g(6mmol)の4−N,N−ビス(トリメチルシリルアミノ)フェニルアセチレンと、
1.92g(9.6mmol)のISiMe3との間で、
0.034g(0.06mmol)の錯体[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]、
1.40g(10.8mmol)のNEt(i−Pr)2の存在下で行った。生成物は、1.9gの1−(4−N,N−ビス(トリメチルシリル)アミノフェニル)−2−トリメチルシリルエチンであり、収率95%で得られた。
Claims (12)
- 一般式1:
R1は−SiR2R3R4を表し、
R2R3R4は等しくまたは異なり、かつ、
C1〜5アルキル、
フェニル、C1〜4を含有する1〜5個のアルキル置換基を含有するアリール、
式7:
いずれのR2R3R4置換基もヘテロアリールまたはヘテロアリール誘導体を有さず、
Zは、式2:
Eはフェニレンまたは式3:
式中、
R5、R6、R7、R8はC1〜5アルキル基、フェニル基または一般式7を有するシロキシ基を表し、一般式7中、R9は上記と同じものを表し、
nは値0〜50をとり、
oは値0または1をとり、
YはO、基−(CH2)m−(m=1〜16)、−NR10−(基R10はH、C1〜5アルキル、1〜5個のC1〜4アルキル置換基またはC1〜4アルキルラジカルを有するアルコキシ置換基を含有するアリール、アルキル鎖がC1〜4を含有するアリールアルキル、一般式8:
n=0の場合、R4及びR5は互いに等しくまたは異なり、
n=1、o=1及びYが−(CH2)m−またはOまたはNR10を表す場合、R5、R6、R7及びR8は互いに等しい、あるいは対R5とR7、R6とR8、R5とR6、R7とR8は互いに等しいが別の対とは異なり、
n=1及びo=0の場合、R5、R6、R7及びR8は互いに等しくなり得る、あるいは対R5とR7、R6とR8は等しいが他方の対とは異なり得て、
YがOであり、n=2〜50の場合、R4、R5、R6及びR7は互いに等しい)を有する新規な及び慣用の(トリオルガノシリル)アルキンを得るための方法であって、
一般式9:
R1は上記と同じものを表す)を有する適切なハロゲノトリオルガノシランを、一般式4:
ことを特徴とする方法。 - 使用する前記イリジウム錯体が[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]である
請求項2に記載の方法。 - 前記イリジウム錯体を、官能性末端アルキン基に対して0.01〜4モル%の範囲の量で使用する
請求項2または3に記載の方法。 - 前記イリジウム錯体を、官能性末端アルキン基に対して1〜2モル%の範囲の量で使用する
請求項4に記載の方法。 - 前記式5を有するアミンを、生成されるハロゲン化水素の化学量論量と使用する錯体中のイリジウムイオンに対して2.2倍の過剰量との合計と同等以上の量で使用する
請求項2ないし5のいずれかに記載の方法。 - 一般式1:
R1は−SiR2R3R4を表し、
R2R3R4は等しくまたは異なりかつ
C1〜5アルキル、C5〜7シクロアルキル、
フェニル、C1〜4を含有する1〜5個のアルキル置換基を含有するアリール、
式7:
Zは、
R11が上記と同じものを表す一般式8を有するシリル基、
(式8:
R9が上記と同じものを表す一般式7を有するシロキシ基、
フェロセニル基、
C1〜5アルキル、
C5〜7シクロアルキル、
R1が上記と同じものを表す−CH2NR1 2、
2〜6の範囲の縮合芳香環数のアレーン、
一般式11:
yは値0または1をとり、wは値0〜2をとり、
R12はC1〜5アルキレン基、C5〜7シクロアルキレン基を表し、
R13、R14、R15、R16、R17は等しくまたは異なりかつ水素原子、C1〜4アルキル鎖、ハロゲン、アルキルラジカルがC1〜3を含有するアルコキシ基、−NH2、−OH、−OR1またはNR1 2(R1は上記と同じものを表す)を表し、
w=1及びy=1の場合、R13、R14、R15、R16、R17は等しくまたは異なりかつ水素原子、C1〜4アルキル鎖、ハロゲン、アルキルラジカルがC1〜3を含有するアルコキシ基を表し、
y=0でありwが0〜2の範囲の値をとる場合、R13、R14、R15、R16、R17は上記と同じものを表し、さらに置換基R13、R14、R15、R16、R17の少なくとも1つはフェニル、ヘテロアリール以外のアリール、−NH2、−OH、−OR1またはNR1 2(R1は上記と同じものを表す)を表す)を有する基を表す)を有する新規な及び慣用の(トリオルガノシリル)アルキンを得るための方法であって、
一般式9:
ことを特徴とする方法。 - 使用する前記イリジウム錯体が[{Ir(μ−Cl)(CO)2}2]である
請求項7に記載の方法。 - 前記イリジウム錯体を、官能性末端アルキン基に対して0.01〜4モル%の範囲の量で使用する
請求項7または8に記載の方法。 - 前記イリジウム錯体を、官能性末端アルキン基に対して0.5〜1モル%の範囲の量で使用する
請求項9に記載の方法。 - アミン置換基を含有する化合物の合成において、前記イリジウム錯体を、官能性末端アルキン基に対して0.5〜2モル%の範囲の量で使用する
請求項9に記載の方法。 - 前記式5を有するアミンを、生成されるハロゲン化水素の化学量論量と使用する錯体中のイリジウムイオンに対して2.2倍の過剰量との合計と同等以上の量で使用する
請求項7ないし11のいずれかに記載の方法。
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