JPS6059917B2 - シス−1,2−ジシリルアルケン化合物 - Google Patents

シス−1,2−ジシリルアルケン化合物

Info

Publication number
JPS6059917B2
JPS6059917B2 JP52154204A JP15420477A JPS6059917B2 JP S6059917 B2 JPS6059917 B2 JP S6059917B2 JP 52154204 A JP52154204 A JP 52154204A JP 15420477 A JP15420477 A JP 15420477A JP S6059917 B2 JPS6059917 B2 JP S6059917B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
groups
compound according
cis
methyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP52154204A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5488225A (en
Inventor
洋一郎 永井
濱夫 渡辺
三千夫 善林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Momentive Performance Materials Japan LLC
Original Assignee
Toshiba Silicone Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Silicone Co Ltd filed Critical Toshiba Silicone Co Ltd
Priority to JP52154204A priority Critical patent/JPS6059917B2/ja
Publication of JPS5488225A publication Critical patent/JPS5488225A/ja
Publication of JPS6059917B2 publication Critical patent/JPS6059917B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規なジシリルアルケン化合物、すなわち炭素
−炭素二重結合の両側のシス位にシリル基のついたアル
ケン化合物に関するものである。
直接法によつてメチルクロロシラン類を合成する際に副
生する高沸点留分は、主としてメチルクロロジシラン類
、特に3〜4個の塩素原子を含むジシラン類から成り、
直接これを有効に利用する道は限られていた。そこで、
従来これらのジシラン類を反応せしめて、工業的に有用
な有機ケイ素化合物に変換する方法が数多く研究されて
きた。その主要なものとしては、1アミン、アンモニウ
ム塩、ホスホニウム塩、または遷移金属錯体などの存在
下に、これらのジシラン類を塩化水素またはハロゲン化
炭化水素と反応させて、ヒドロシラン類や各種の炭化水
素置換シラン類を得る方法、2アルコキシ化したジシラ
ン類をアセチレン誘導体と400〜45(代)の高温で
反応させて、アルケニルシラン類を得る方法である。し
かし、1、2とも、目的とするヒドロシラン、アルケニ
ルシランなどとして利用し得るのは、ジシラン類のケイ
素原子の半分に過ぎず、特に4官能性ジシラン類を出発
物質とする場合は、工業的に利用度の低いメチルトリク
ロロシランやメチルトリアルコキシシランを大量に生ず
るという欠点がある。また、1の場合は反応の制御がむ
ずかしく、その多くは高圧反応装置を必要とする。2の
場合はすべて高圧反応装置中でなされ、かつ高温で反応
せしめる必要があり、やはり反応の制御がむずかしいと
いう問題がある。
一方、ビニルシラン類以外の炭素一炭素脂肪族二重結合
を有するシラン誘導体の合成には、次のような方法が知
られている。
すなわち、1アルケニル有機金属試薬とハロシラン類と
の反応、2アセチレンとクロロシラン類をマグネシウム
−ヘキサメチルホスホリックトリアミド(以下、HMP
Aという)中で反応させる方法、3アルコキシジシラン
類とアセチレン化合物を高温で反応させる方法、4塩化
白金酸などの触媒の存在下にアセチレン化合物をヒドロ
シリル化する方法である。
しかし、1の方法はアルケニル有機金属試薬の合成が困
難であり、2の方法では限定されたタイプのアルケニル
シラン類しか得られず、3の方法では400〜450℃
という高温を必要とし、かつ反応の制御が困難であり、
4の方法は全般に収率が低いうえに副反応を伴う場合が
多いという、いくたの問題点がある。本発明者らは、ジ
シラン類とアセチレン化合物を、遷移金属、またはそれ
を中心原子とする錯化合物を触媒として用いて反応させ
ることにより、新規なケイ素官能性を有するシスー1・
2ージシリルアルケン化合物を得ることを見出した。
前述の2の反応により、フェニルアセチレンとヘキサメ
チルジシランをマグネシウムーHMPA中で反応させる
と1−フェニルー1・2−ビス(トリメチルシリル)ア
ルケンを得ることは知られているが、この反応によつて
、ケイ素官能性を有する1・2ージシリルアルケン類は
得られていない。これらのケイ素官能性シスー1・2ー
ジシリルアルケン化合物から、ハロゲン化水素、アルカ
リ金属塩、またはアルカリ金属のアルコラートを用いて
切断反応を行うことにより、容易に広範囲のケイ素官能
性アルケニルシラン類を得ることができる。
本発明は、一般式 (た〜し、R1〜R6は、アルキル基、アルコキシ基、
および塩素原子から成る群より選ばれ、かつ、その少く
とも1個はアルコキシ基または塩素原子である互に同一
または相異なる1価の基、R7およびR8は水素原子、
アルキル基、フェニル基、およびトリメチルシリル基か
ら成る群より選ばれ、かつ、その少くとも1個はアルキ
ル基、フェニル基、およびトリメチルシリル基である互
に同一または相異なる1価の基を表わす)で示されるシ
スー1・2ージシリルアルケン化合物を提供するもので
ある。
本発明の化合物において、R1〜R6は上記のとおりで
あるが、アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基など、アルコキシ基としてはメトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などが例示
される。
後述のように、原料の入手のしやすさ、合成のしやすさ
から、メチル基と塩素原子の組み合わせ、またはメチル
基とメトキシ基またはエトキシ基の組み合わせであるこ
とが望ましく、入手のしやすさから、R1〜R6のうち
2個または3個がメチル基、残余が塩素原子、メトキシ
基、またはエトキシ基であるもの、生成物の有用性から
、4個がメチル基で2個が塩素原子、メトキシ基、また
はエトキシ基であるものが特に望ましい。なお、R1〜
R6のすべてがアルキル基であるものは、反応収率が低
く、本発明の化合物からは除外される。本発明の化合物
において、R7およびR8は上記のとおりであるが、ア
ルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基などが例示される。
合成の容易さ、取扱いのしやすさから、“R7およびR
8のうち少くとも一方が、フェニル基、n−ブチル基、
またはトリメチルシリル基であることが望ましい。本発
明の化合物は、 一般式 (たSt..Rl〜R6は、アルキル基、アルコキシ基
、および塩素原子から成る群より選ばれた1価の基を表
わす)で示されるジシラン類(4)と、一般式(たSt
,.R7、R8は水素原子、アルキル基、フェニル基お
よびトリメチルシリル基から成る群より選ばれ、かつ、
その少くとも1個はアルキル基、フェニル基、またはト
リメチルシリル基である互に同一または相異なる1価の
基を表わす)で示されるアセチレン化合物(B)とを、
一般式M(PR93)2X2またはM(PRlO3)4
(たS゛し、R9およびRlOは炭素原子1〜18の1
価の炭化水素基、xはハロゲン原子、アルコキシ基、お
よびアセトキシ基から成る群より選ばれた1価の基、M
はニッケル、パラジウムおよび白金から成る群より選ば
れた金属を表わす)で示される錯化合物類(C−1)ま
たはニッケル、パラジウムおよび白金から成る群より選
ばれた金属(C−2)からなる触媒(C)の存在下に、
160℃以下の温度で反応させることによつて製造され
る。
ジシラン類(4)は、一般式RlR2R3SiSiR4
R5R6で示される。ここでR1〜R6は、上記のとお
りであり、互に同一であつても相異つていてもよいが、
そのすべてがアルキル基である場合は除かれる。アルキ
ル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基など、アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基
、プロポキシ基、ブトキシ基などが例示される。これら
のうち、原料の入手の.しやすさ、合成のしやすさから
、直接法によるメチルクロロシラン類の合成の際に副生
する、R1〜R6がメチル基および/または塩素原子で
あるものが望ましく、特に、入手のしやすさからはR1
〜R6のうち2個または3個がメチル基である.1●2
−ジメチルー1●1・2●2−テトラクロロジシランお
よび1●1●2−トリメチルー1・2・2−トリクロロ
ジシラン、生成物が最も有用性の高い2官能性化合物で
あることからは、R1〜R6のうち4個がメチル基であ
る1・1・2・2−テトラメチルー1・2−ジクロロジ
シランであることが望ましい。また、これらのジシラン
類をアルコリシスすることによつて容易に得られる、R
1〜R6がメチル基および/またはメトキシ基ないしエ
トキシ基であるジシラン類も、入手のしやすさと、水に
よつて強酸性の副生物を生じない点から望ましい。この
ようなジシラン類としては、などが例示される。
た〜し、上記ならびに以下の・組成式において、簡単な
ために次の略号を用いる。Me:メチル基 Ph:フエ
ニル基 Et:エチル基 Ac:アセチル基 Bu:ブチル基 アセチレン化合物(B)は、一般式87C=CR8で示
される。
ここでR7およびR8は上記のとおりで互に同一であつ
ても相異つていてもよいが、双方が水素原子である場合
は除かれる。アルキル基としてはメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基などが例示される。合成のしやす
さ、取扱の容易さから、R7およびR8のうちの少くと
も一方が、フェニル基、n−ブチル基、またはトリメチ
ルシリル基であることが好ましい。このようなアセチレ
ン化合物としては、PhC=CH.PhC=CMe、n
−BuC=CH..Me3SiC=CHなどが例示され
る。ジシラン類(4)に対するアセチレン化合物(B)
の使用量は任意でよいが、アセチレン化合物の反応性を
考慮して、ジシラン類に対して0.4〜1.樗量の間で
あることが望ましく、0.7〜1.蒔量の間がさらに望
ましい。
触媒(6)は、ジシラン類(4)とアセチレン化合物(
B)との反応の触媒であり、かかる触媒(C)のうち錯
化合物(C−1)は、ニッケル、パラジウム、または白
金の(0)価ないし2価のホスフィン錯体で、一般式M
(PR■)2X2またはM(PRlO3)4で示される
ここでR3、RlO、XおよびMは前述のとおりで、R
3およびRlOはそれぞれ互に同一であつても相異つて
いてもよい。R3およびRlOは、合成の容易さからフ
ェニル基、n−ブチル基が最も一般的である。またxと
しては塩素原子、メトキシ基、エトキシ基、アセトキシ
基が例示される。Mとしては、反応収率のすぐれている
点でパラジウムが望ましいが、ニッケルや白金も用いる
ことができる。触媒(C)のうち金属(C−2)は、ニ
ッケル、パラジウム、または白金である。
パラジウムおよび白金は微粉末、またはそれを所望によ
りカーボンやシリカゲルのような支持体に担持させて用
いられる。ニッケルは、上記と同様な微粉末として用い
られるほか、ラネーニツケルのような合金粉末の形で用
いてもよい。これらの金属のうち、反応収率のすぐれて
いる点でパラジウムが望ましい。本発明で用いられる触
媒(C)の量は、特に限定的なものではないが、きわめ
て少量で有効であり、アセチレン化合物(B)に対して
0.5〜5モル%またはそれ以下で十分である。本発明
の化合物を得る反応は、室温から反応体の還流温度、す
なわち約16(代)までの温度範囲で行われるが、一般
に80〜150℃の間が最も収率が良いので望ましい。
この反応は大気圧、大気圧以下、または大気圧以上の条
件で実施することができるが、装置上の考慮を払う必要
の少ない大気圧での反応が有利である。反応が激しい場
合や、各成分を均一に混合するのを容易ならしめるため
に、必要に応じて溶媒を用いてもさしつかえない。溶媒
としてはベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭
化水素類、およびヘキサンなどの脂肪族炭化水素類が例
示される。上記の如き方法によつて得られた1・2ージ
シリルアルケン化合物は、ガスクロマトグラフィーの結
果、すべて単一成分であり、Nr!4RによるC鴇のプ
ロトンの吸収の位置から、シスー1・2ージシリルアル
ケン化合物であることが確認された。
またフェニルアセチレン、トリメチルクロロシラン、マ
グネシウムよりHMPA中で得られたシスー1●2−ビ
ス(トリメチルシリル)スチレンと上記の如き方法によ
つて得られたシスー1・2−ビス(トリメチルシ21ル
)スチレン(比較例21)とは、メチル基のプロトンN
MRがょく一致し、かかる生成物が、シリル基に関して
シス体であることが確認された。本発明の化合物は、直
接法によるメチルクロロシラン類の合成の際に不可避的
に副生するジシラン類を出発原料として、比較的温和な
条件で得られ、かつ、分子中にケイ素原子に結合したア
ルコキシ基または塩素原子を有するので、その反応性を
利用した用途や中間体として利用できる。
また、これをハロゲン化水素、アルカリ金属塩、または
アルカリ金属のアルコラートで切断することにより、従
来法に比べてはるかに容易に、また高温ないし高圧を用
いることなしに、広範囲のケイ素官能性アルケニルシラ
ン類を得ることができる。本発明のシスー1・2ージシ
リルアルケン化合物は、それ自体、接着剤やポリオルガ
ノシロキサンの硬化剤として有用である。
また、これより切断反応によつて得られるアルケニルシ
ラン類も、接着助剤などの成分として用いられるほか、
各種ポリオルガノシロキサンにアルケニル基を導入する
ための中間体として用いられる。か)るポリオルガノシ
ロキサンは、常温硬化ないし熱硬化によつてゴム状弾性
体や樹脂状物を与え、広く耐熱性、耐寒性材料として用
いられる。以下、本発明を実施例によつて説明するが、
本発明は実施例によつて限定されるべきではない。
実施例中、部はすべて重量部を表わす。実施例1 フェニルアセチレン102部、1●2−ジメチルー1・
1・2・2−テトラクロロジシラン24部、テトラキス
(トリフェニルホスフィン)パラジウム0.5部の混合
物を、大気圧の窒素気流中で140℃゛に加熱した。
5時間の加熱後、フェニルアセチレンは完全に消費され
、蒸留により、シスー1・2−ビス(ジクロロメチルシ
リル)スチレンを2娼得た。
これは理論収率の60%に相当した。生成したシスー1
●2−ビス(ジクロロメチル.シリル)スチレンの物理
的性質、元素分析結果、NMRおよびIR測定結果は下
記のとおりであつた。物理的性質 実施例2 実施例1と同様の反応を、フェニルアセチレン,310
2部と各種ジシランの間で行つた。
ジシラン類はフェニルアセチレンに対して120〜20
0モル%用い、触媒としてテトラキス(トリフェニルホ
スフィン)パラジウムをフェニルアセチレンに対して0
.1〜0.5モル%用いた。反応式は次式のとおりであ
る。用いたジシラン類と反応条件を第1表、生成物とそ
の収率、物理的性質、分析結果NMRおよび釈測定結果
を第2表に示す。
た)゛し、実験番号21は比較例である。実施例3実施
例1と同様の反応を、種々のジシラン類とアセチレン化
合物の間で行つた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 (R^1R^2R^3Si)(R^7)C=C(R^8
    )(SiR^4R^5R^6)(ただし、R^1〜R^
    6は、アルキル基、アルコキシ基、および塩素原子から
    成る群より選ばれ、かつ、その少くとも1個はアルコキ
    シ基または塩素原子である互に同一または相異なる1価
    の基、R^7およびR^8は水素原子、アルキル基、フ
    ェニル基、およびトリメチルシリル基から成る群より選
    ばれ、かつ、その少くとも1個はアルキル基、フェニル
    基、およびトリメチルシリル基である互に同一または相
    異なる1価の基を表わす)で示されるシス−1・2−ジ
    シリルアルケン化合物。 2 R^1〜R^6がメチル基および塩素原子から成る
    群より選ばれた1価の基である、特許請求の範囲第1項
    記載の化合物。 3 1価の基R^1〜R^6のうち2〜4個がメチル基
    で残余が塩素原子である、特許請求の範囲第2項記載の
    化合物。 4 R^1〜R^6がメチル基、メトキシ基、およびエ
    トキシ基から成る群より選ばれた1価の基である、特許
    請求の範囲第1項記載の化合物。 5 1価の基R^1〜R^6のうち2〜4個がメチル基
    で残余がメトキシ基またはエトキシ基である、特許請求
    の範囲第4項記載の化合物。 6 R^7およびR^8のうち少くとも1個がフェニル
    基である、特許請求の範囲第1項記載の化合物。 7 R^7およびR^8のうち少くとも1個がn−ブチ
    ル基である、特許請求の範囲第1項記載の化合物。 8 R^7およびR^8のうち少くとも1個がトリメチ
    ルシリル基である、特許請求の範囲第1項記載の化合物
JP52154204A 1977-12-21 1977-12-21 シス−1,2−ジシリルアルケン化合物 Expired JPS6059917B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP52154204A JPS6059917B2 (ja) 1977-12-21 1977-12-21 シス−1,2−ジシリルアルケン化合物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP52154204A JPS6059917B2 (ja) 1977-12-21 1977-12-21 シス−1,2−ジシリルアルケン化合物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5488225A JPS5488225A (en) 1979-07-13
JPS6059917B2 true JPS6059917B2 (ja) 1985-12-27

Family

ID=15579110

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP52154204A Expired JPS6059917B2 (ja) 1977-12-21 1977-12-21 シス−1,2−ジシリルアルケン化合物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6059917B2 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS593729A (ja) * 1982-06-29 1984-01-10 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 光学的情報記録媒体
JP6497390B2 (ja) 2014-06-16 2019-04-10 信越化学工業株式会社 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物及び該室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物の硬化物である成形物
US10442896B2 (en) * 2015-04-03 2019-10-15 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Room temperature-curable organopolysiloxane composition and cured product thereof
WO2017195508A1 (ja) * 2016-05-09 2017-11-16 信越化学工業株式会社 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物及び該組成物の硬化物でコーティングされた基材

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5488225A (en) 1979-07-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR940010290B1 (ko) 비스실릴메탄 및 그들의 제조방법
JPH05255355A (ja) ビスシリルアルカンの製造方法
EP0798302B1 (en) Method for preparation of allylsilanes
JPH0786115B2 (ja) 第3級炭化水素基含有ハロゲン化シランの製造方法
JPS6059917B2 (ja) シス−1,2−ジシリルアルケン化合物
EP0378430B1 (en) Novel organosilicon compound and process for producing organosilicon compound
JPS6059916B2 (ja) 1,2−ジシリルアルケン化合物の製造方法
JP2864973B2 (ja) ジメチルクロロシランとトリオルガノクロロシランの併産方法
JP3122358B2 (ja) 3−クロロプロピルシラン類の製造方法
JPH0786117B2 (ja) アルコキシシラン
JP3856090B2 (ja) 5−ビニルノルボルニルトリクロロシランの製造方法
JP5886876B2 (ja) 新規な(トリオルガノシリル)アルキン及びその誘導体、並びに、新規な及び慣用の置換(トリオルガノシリル)アルキンと、その誘導体を得るための新規な触媒法
JP2019182793A (ja) 第三級炭化水素基を有するハロシラン化合物の製造方法
EP1797103B1 (en) Preparation of an aminoaryl-containing organosilicon compound and intermediate used in its preparation
JPH0532396B2 (ja)
JPH0314590A (ja) 不飽和基含有有機ケイ素化合物およびその製造方法
JPH04124189A (ja) 有機ケイ素化合物の製造方法
JP3052841B2 (ja) テキシルジメチルクロロシランとトリオルガノクロロシランの併産方法
JP2002069083A (ja) ビスシリルノルボルナン化合物の製造方法
EP0659754B1 (en) Method for introducing hydrocarbons into chlorosilanes
KR20200015644A (ko) 폴리실릴알칸의 제조방법
JPS6039079B2 (ja) ジシラン類の製造方法
JP2003212884A (ja) フェニルシランの製造方法
Lee et al. Hydrosilylation of olefins catalyzed by activated titanocene prepared from the reduction of titanocene dichloride with excess lithium
JP2000351785A (ja) シラメチレン結合を含むケイ素化合物およびその製造法