JP2003277388A - フェニルシランの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】ハロゲン化アリールとして安価な塩素化アリー
ルを用いて円滑にフェニルシランを生成させることがで
きる安価な工業的製造方法を提供する。 【解決手段】下記一般式［１］のジアミン化合物と遷移
金属化合物からなる有機金属触媒の存在下で、塩素化ア
リールとヒドロシランとを液相で反応させる。 【化１】 （上式において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、
Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹及びＲ¹⁰はそれぞれ同一または相異な
り、水素原子、シリル基を有していても良い炭化水素基
又はシリル基を示す。ｍは０または１の整数を示す。ま
た、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹及
びＲ¹⁰はこれら2個以上が相互に連結して環を形成して
も良い。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、有機金属触媒を用
いたフェニルシランの新規な製造法に関する。

【０００２】

【従来の技術】フェニルシランの合成方法として、直接
法及びグリニャール法が一般的に知られているが、各々
問題がある。即ち、直接法には、以下の問題がある(日
本化学会編, 1992, 実験化学講座24,p126, 丸善株式会
社) １）副生成物が多い。 ２）原料のタイプが限られる。 ３）複雑な精製工程が必要である。 一方、グリニャール反応には、以下の問題がある(日本
化学会編, 1992, 実験化学講座24, p123, 丸善株式会
社)。 １）反応温度の制御が困難である。 ２）基質、溶媒の脱水工程が必要である。 ３）高コストである。 これらの理由により、直接法又はグリニャール法を工業
的にスケールアップさせることは、困難な場合が多い。

【０００３】ロシアでは気相反応の研究が盛んであり、
クロロベンゼンとトリクロロシランからフェニルトリク
ロロシランを得る気相反応が知られている(Zn. Obshch.
Khim. 1995, 65, 1869-1872)。しかし、気相反応は、
５００〜７００℃という高い反応温度を必要とするた
め、工業的なスケールアップは極めて困難である。

【０００４】田中らは、o-ビス(ジメチルシリル)ベンゼ
ンと芳香族化合物との反応により、モノアリール化ヒド
ロシランが選択的に得られることを報告している(Organ
ometallics, 1993, 12, 2065-2069)。本反応は、o-ビス
(ジメチルシリル)ベンゼン特有の反応である。

【０００５】最近、増田らは、ヨードベンゼンとトリエ
トキシシランからフェニルトリエトキシシランを得る新
規な製造法を報告している (J. Org. Chem. 1997, 62,
8569-8571)。この報告において、ヨードベンゼンにおけ
るハロゲンが塩素又は臭素である場合、反応が殆ど進行
しないと報告されている。ヨードベンゼンを用いる製造
法では、コストが極めて高くなることから、増田らの製
造応を工業的にスケールアップさせることは困難であ
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、増田らの製
造法において、原料であるハロゲン化アリールとして安
価な塩素化アリールを用いても円滑にフェニルシランを
生成させることができる安価な工業的製造方法を提供す
ることを課題とするものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、下記一般式
［１］のジアミン化合物と遷移金属化合物からなる有機
金属触媒の存在下で、塩素化アリール［２］とヒドロシ
ラン［３］とを液相で反応させることを特徴とするフェ
ニルシラン［４］の製造方法である。

【０００８】

【化５】

【０００９】（上式において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ
⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹及びＲ¹⁰はそれぞれ同一または
相異なり、水素原子、シリル基を有していても良い炭化
水素基又はシリル基を示す。ｍは０または１の整数を示
す。また、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、
Ｒ⁹及びＲ¹⁰はこれら2個以上が相互に連結して環を形成
しても良い。）

【００１０】

【化６】

【００１１】（上式において、Ｒ¹¹は有機基であり、Ｘ
は塩素であり、ｎは０〜５の整数である。）

【００１２】

【化７】

【００１３】（上式において、Ｒ¹²、Ｒ¹³及びＲ¹⁴は炭
素数１から６のアルキル基、炭素数１から６のアルコキ
シ基、アリール基または塩素であり、互いに同一であっ
ても異なっていてもよい。）

【００１４】

【化８】

【００１５】（上式において、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴
及びｎは上記と同義である。）

【００１６】以下、本発明について詳述する。

【００１７】

【発明の実施の形態】「塩素化アリール」本発明におけ
る塩素化アリールは、上式［２］で表されるものであ
る。好ましい例は、クロロベンゼンである。上式［２］
におけるＲ¹¹は、本発明における有機金属触媒の形成を
阻害するものでない限り、制限されない。

【００１８】「ヒドロシラン」本発明におけるヒドロシ
ランは上式［３］で表されるものである。上式［３］に
おいて、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴は炭素数１から６のアルキル
基、炭素数１から６のアルコキシ基、アリール基または
塩素であり、互いに同一であっても異なっていてもよ
い。好ましいヒドロシランとして、トリクロロシラン、
ジメチルクロロシラン、メチルジクロロシラン等のクロ
ロシラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、
ジメチルエトキシシラン等のアルコキシシラン、トリエ
チルシラン等のアルキルシランがある。その中でも、原
料の得やすさ、生成物の機能を考慮すると、トリアルコ
キシシランが最も好ましい。

【００１９】「有機金属触媒」本発明における触媒は、
遷移金属化合物とジアミン化合物から形成することがで
きる。ジアミン化合物は遷移金属原子と配位結合を形成
し、触媒の活性、選択性を向上させる効果がある。

【００２０】「遷移金属化合物」本発明における遷移金
属化合物とは、触媒の活性中心たる金属を含む化合物で
ある。反応機構、触媒活性を考慮すると、好ましい中心
金属としては鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロ
ジウム、イリジウム、オスミウム、パラジウム、白金等
の第ＶＩＩＩ族の遷移金属があげられる。その中にあっ
て、パラジウムが最も好ましい。パラジウム化合物とし
ては、一般的に０価または２価のパラジウムが使用でき
る。触媒前駆体であるパラジウム化合物の好ましい例と
して、パラジウムブラック、アリルパラジウム クロラ
イド ダイマー、クロチルパラジウムクロライドダイマ
ー、ジアセテートビス(トリフェニルホスフィン)パラジ
ウム(ＩＩ)、ジクロロビス(アセトニトリル)パラジウム
(ＩＩ)、ジクロロビス(ベンゾニトリル)パラジウム(Ｉ
Ｉ)、ジクロロ(1,5-シクロオクタジエン)パラジウム(Ｉ
Ｉ)、トランス-ジクロロジアミン パラジウム (ＩＩ)、
パラジウム(ＩＩ) アセテート、パラジウム(ＩＩ) アセ
チルアセトン、パラジウム(ＩＩ) クロライド、パラジ
ウム (ＩＩ) オキサイド、テトラキス(トリフェニルホ
スフィン)パラジウム(0)、トリス(ジベンジリデンアセ
トン)ジパラジウム(0)、トリス(ジベンジリデンアセト
ン)ジパラジウム(0) クロロホルムアダクト 等がある。
その中でも、触媒の得やすさ、活性を考慮すると、トリ
ス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0) クロロホ
ルムアダクトが最も好ましい。

【００２１】「ジアミン化合物」本発明におけるジアミ
ン化合物は、遷移金属化合物と反応して有機金属触媒を
形成するものであり、下記式［１］に示す構造式で表さ
れるものである。

【００２２】

【化９】

【００２３】（上式において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ
⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹及びＲ¹⁰はそれぞれ同一または
相異なり、水素原子、シリル基を有していても良い炭化
水素基又はシリル基を示す。ｍは０または１の整数を示
す。また、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、
Ｒ⁹及びＲ¹⁰はこれら2個以上が相互に連結して環を形成
しても良い。）

【００２４】上記式［１］におけるＲ¹、Ｒ²、Ｒ³、
Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹及びＲ^{1 0}はそれぞれ同一
または相異なり、水素原子、シリル基を有していても良
い炭化水素基又はシリル基を表す。具体例としては、水
素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプ
ロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基
等のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基
等のシクロアルキル基、フェニル基等のアリール基、ｏ
−トリル基、ｐ−トリル基、メシチル基、２，６−ジイ
ソプロピルフェニル基、２，４，６−トリ−ｔ−ブチル
フェニル基等のアルキルアリール基、ベンジル基等のア
リールアルキル基、トリメチルシリル基、トリブチルシ
リル基等のシリル基等が挙げられる。

【００２５】また、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ
⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹及びＲ¹⁰はこれら2個以上、好ましくは隣接
する基が互いにに連結して環を形成しても良い。

【００２６】下記［化１０］，［化１１］にその具体的
な例を示すが、これらに限定されるものではない。

【００２７】

【化１０】

【００２８】

【化１１】

【００２９】上記２１個の構造式をまとめて式［１０］
という。上記式［１０］中のMeはメチル基を、i-Prはis
o-プロピル基を、t-Buはtert-ブチル基を表す。

【００３０】ジアミン化合物と遷移金属化合物との好ま
しい反応割合は、遷移金属化合物における遷移金属１モ
ル当たりジアミン化合物１モルとなる割合である。この
割合で反応させた場合、遷移金属１個当たり２個のＮが
配位する二座配位構造を形成すると推測され、触媒活性
が最も高くなる。

【００３１】「反応溶媒」本発明の製造方法において、
有機金属触媒を溶解させるため反応溶媒を用いることが
好ましい。好ましい反応溶媒は、N-メチルピロリドン、
ジメチルスルホキシド、N, N-ジメチルホルムアミドの
非プロトン性の極性溶媒、テトラヒドロフラン、1,4-ジ
オキサン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、ジ-n-ブチルエーテル等のエーテル類、メタノー
ル、エタノール、イソプロピルアルコール、n-ブチルア
ルコール等のアルコール類、アセトン、メチルイソブチ
ルケトン等のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族、ヘキサン、オクタン、デカンなどの脂肪族
炭化水素等である。反応の収率を考慮すると、これらの
中でN-メチルピロリドンが最も好ましい。反応溶媒の使
用量について特に制限はなく、反応系における反応基質
濃度が１〜９９％となる範囲内で所望に応じて適宜調整
すれば良い。

【００３２】「塩基」本発明における反応を円滑に進行
させるには、生成する酸を捕捉するために塩基を反応系
に共存させることが望ましい。好ましい塩基は、トリエ
チルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、
酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム及び水酸化リチウム等である。反応の収率
を考慮すると、これらの中でトリアルキルアミンが最も
好ましい。塩基の濃度は、反応系において捕捉する酸の
発生量に応じて適宜調整すればよく、通常塩素化アリー
ル１モル当たり塩基１〜５モルとなる割合とする。

【００３３】「触媒濃度、反応温度」触媒の好ましい使
用量は、塩素化アリールの仕込み量に対して、0.001 mo
l%から20 mol%である。また、反応温度の制御操作は、
外部からの加熱に依存するため、一概に決められない
が、通常、反応温度を室温〜１２０℃の範囲に保持する
ことで、反応を円滑に継続させることができる。

【００３４】「反応操作」 「反応操作」反応系を不活性ガス雰囲気とした後、上記
の遷移金属化合物（触媒前駆体）、ジアミン化合物、反
応溶媒、反応原料及び塩基を各々所定量添加して、所定
の温度で数分〜数時間攪拌して反応させる。この際、反
応系に添加する順序に特に制限はないが、塩素化アリー
ルとヒドロシランとを反応させる際には、本発明におけ
る有機金属触媒を存在させるようにすることが必要であ
る。反応系における塩素化アリールとヒドロシランの仕
込割合は、理論的には等モル比であるが、反応を効率的
に進行させるために、ヒドロシランをやや過剰に供給す
ることが好ましい。好ましい仕込み割合は、塩素化アリ
ール１モル当たりヒドロシラン１〜３モルである。

【００３５】

【実施例】以下、本発明を参考例および実施例によって
具体的に説明する。

【００３６】実施例１ （化合物［Ａ−１］の合成）磁気攪拌子、還流冷却器付
き水分定量管を備えた100mlの2口フラスコにトルエン50
ml、２，６−ジイソプロピルアニリン8.51g（48mmo
l）、２，３−ブタンジオン1.72g（20mmol）、p-トルエ
ンスルホン酸・1水和物 0.038g（0.20mmol）を採取し、
８時間加熱還流した。反応液を減圧濃縮後、残査をシリ
カゲルカラムにて精製し、化合物［A−１］を黄色結晶
として5.83g得た（収率72.0％）。

【００３７】

【化１２】

【００３８】得られた化合物［A−１］の同定データを
下記に示す。¹ H−NMR（CDCl₃，２７０ＭＨｚ）：δ＝1.14(d,12H)；
δ＝1.20 (d,12H)；δ＝2.08 (s,6H)；δ＝2.77 (m,4
H)；δ＝7.05-7.21 (m,6H)

【００３９】（化合物［Ａ−２］の合成）窒素雰囲気
下、還流冷却器、磁気攪拌子、ラバーセプタムを備えた
2口フラスコに乾燥テトラヒドロフラン 20mlを採取し
た。氷冷下、水素化リチウムアルミニウム 0.75g（19.8
mmol）を懸濁させた。化合物［A−１］2.00g（4.94mmo
l）を乾燥テトラヒドロフラン 4mlに溶解したものを注
射器にてセプタムラバーからゆっくり滴下した。滴下終
了後、室温で30分、加熱還流下３時間攪拌した。反応液
を氷冷後、水2ｍｌをゆっくり加えた。得られた懸濁液
をろ過・減圧濃縮後、クロロホルムで抽出し、水洗し
た。有機相を無水硫酸マグネシウム上で乾燥した後、減
圧濃縮した。残査をシリカゲルカラムにて精製し、化合
物［A−２］を淡黄色オイルとして1.09g得た（収率54.1
%）。

【００４０】

【化１３】

【００４１】得られた化合物［A−２］の同定データを
下記に示す。¹ H−NMR（CDCl₃，２７０ＭＨｚ）：δ＝0.92-1.29(m,30
H)；δ＝3.19-3.56 (m,6H)；δ＝6.94-7.21 (m,6H)

【００４２】（フェニルトリエトキシシランの合成反
応）乾燥窒素雰囲気下、磁気攪拌子、冷却管、ラバーセ
プタムを備えた反応器にトリス(ジベンジリデンアセト
ン)ジパラジウム(0) クロロホルムアダクト31mg（0.03m
mol)、化合物［Ａ−２］ 25mg(0.06mmol)を仕込んだ。N
-メチルピロリドン 4mLを加え、室温にて１５分間攪拌
した。反応系内にトリエトキシシラン 0.49g(3.0mmol)
を加え、室温にて５分間攪拌した。予め調製した混合液
〔トルエン(内部標準)0.2mL、クロロベンゼン 0.23g(2.
0mmol)、ジイソプロピルエチルアミン0.78g(6.0mmol)〕
を加えた。室温にて１時間攪拌後、ガスクロマトグラフ
ィーにてフェニルトリエトキシシランの収率を求めた。
その結果は以下の通りである。

【００４３】フェニルトリエトキシシランの収率：２２
％ 質量分析(EI) 観測ピーク：１９５、２４０ ライブラリー(フェニルトリエトキシシラン)：１９５(M
⁺-OC₂H₅)、２４０(M⁺)

【００４４】質量分析(CI） 観測ピーク：２４１ ライブラリー(フェニルトリエトキシシラン)：２４１(M
⁺+1)

【００４５】実施例２ （化合物［Ｂ−１］の合成）磁気攪拌子、還流冷却器付
き水分定量管を備えた100mlの2口フラスコにトルエン60
ml、２，６−ジイソプロピルアニリン12.76g（72mmo
l）、アセナフテンキノン 5.47g（30mmol）、p-トルエ
ンスルホン酸・1水和物 0.114g（0.60mmol）を採取し、
12時間加熱還流した。反応液を減圧濃縮後、エタノール
から再結晶し、化合物［B−１］を橙色結晶として12.18
g得た（収率83.5％）。

【００４６】

【化１４】

【００４７】得られた化合物［B−１］の同定データを
下記に示す。¹H−NMR（CDCl₃，２７０ＭＨｚ）：δ＝0.
97(d,12H)；δ＝1.24 (d,12H)；δ＝2.98-3.08 (m,4
H)；δ＝6.64 (d,2H)；δ＝7.13-7.39 (m,8H) ；δ＝7.
87 (d,2H)

【００４８】（化合物［Ｂ−２］の合成）窒素雰囲気
下、還流冷却器、磁気攪拌子、ラバーセプタムを備えた
2口フラスコに乾燥テトラヒドロフラン 20mlを採取し
た。氷冷下、水素化リチウムアルミニウム 0.75g（19.8
mmol）を懸濁させた。化合物［Ｂ−１］2.40g（4.94mmo
l）を乾燥テトラヒドロフラン 4mlに溶解したものを注
射器にてセプタムラバーからゆっくり滴下した。滴下終
了後、室温で30分、加熱還流下３時間攪拌した。反応液
を氷冷後、水2ｍｌをゆっくり加えた。得られた懸濁液
をろ過・減圧濃縮後、クロロホルムで抽出し、水洗し
た。有機相を無水硫酸マグネシウム上で乾燥した後、減
圧濃縮した。残査をシリカゲルカラムにて精製し、化合
物［B−２］を黄褐色粘稠オイルとして1.21g得た（収率
50.3%）。

【００４９】

【化１５】

【００５０】得られた化合物［B−２］の同定データを
下記に示す。¹ H−NMR（CDCl₃，２７０ＭＨｚ）：δ＝1.04(d,12H)；
δ＝1.32 (d,12H)；δ＝3.26-3.37 (m,4H)；δ＝4.73
(s,2H)；δ＝6.52-7.42 (m,12H)

【００５１】（フェニルトリエトキシシランの合成反
応）実施例１の化合物［Ａ−２］を化合物［Ｂ−２］29
mg(0.06mmol)とした以外、同様の仕込にて、室温で１時
間反応させた。反応結果は以下の通りである。 フェニルトリエトキシシランの収率：２０％

【００５２】実施例３ （化合物［Ｃ−１］の合成）磁気攪拌子を備えた100ml
のナス型フラスコにエタノール20ml、m−トリアルデヒ
ド5.00g（41.6mmol）、エチレンジアミン 1.25g（20.8m
mol）を採取し、室温下で８時間攪拌した。反応液を減
圧濃縮後、シリカゲルカラムにより精製し、化合物［Ｃ
−１］を茶褐色オイルとして5.12g得た（収率93.0
％）。

【００５３】

【化１６】

【００５４】得られた化合物［Ｃ−１］の同定データを
下記に示す。¹ H−NMR（CDCl₃，２７０ＭＨｚ）：δ＝2.35(s,6H)；δ
＝3.95 (s,4H)；δ＝7.12-7.57 (m,8H) ；δ＝8.25 (s,
2H)

【００５５】（化合物［Ｃ−２］の合成）50mlのナス型
フラスコにメタノール 20ml、化合物［Ｃ−１］2.66g
（10mmol）を採取した。ここへ室温で攪拌しながら水素
化ホウ素ナトリウム1.53g（40mmol）を少しずつ加え、
そのまま室温で１時間攪拌を続けた。反応液を減圧濃縮
後、クロロホルムで抽出し、水洗した。有機相を無水硫
酸マグネシウム上で乾燥した後、減圧濃縮した。残査を
シリカゲルカラムにて精製し、化合物［Ｃ−２］を黄褐
色オイルとして2.10g得た（収率77.9%）。

【００５６】得られた化合物［Ｃ−２］の同定データを
下記に示す。¹ H−NMR（CDCl₃，２７０ＭＨｚ）：δ＝2.33(s,6H)；δ
＝2.76 (s,4H)；δ＝3.73 (s,4H) ；δ＝7.02-7.25 (m,
8H)

【００５７】（フェニルトリエトキシシランの合成反
応）実施例１の化合物［Ａ−２］を化合物［Ｃ−２］16
mg(0.06mmol)とした以外、同様の仕込にて、室温で１時
間反応させた。反応結果は以下の通りである。フェニル
トリエトキシシランの収率：２４％

【００５８】

【発明の効果】本発明によって、温和な条件下で、種々
のフェニルシランを低コストで製造することができる。
本発明により製造されるフェニルアルコキシシラン及び
フェニルクロロシランは、ケイ素原子に結合した加水分
解性の官能基が存在するため、他の有機ケイ素化合物
（ポリマーを含む）との反応によりシロキサン結合を形
成したり、無機化合物中のシラノール基とカップリング
反応させることができる。また、フェニル基を含有する
ため、耐熱性シルセスキオキサンの原料となる。そのた
め、有機合成の中間原料、ポリマー樹脂の合成原料、ポ
リマーの改質剤、無機化合物の表面処理剤、ハードコー
ト剤として有用である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 浩 愛知県名古屋市港区船見町１番地の１ 東 亞合成株式会社新製品開発研究所内 Ｆターム(参考） 4H039 CA92 CD10 CD20 4H049 VN01 VP01 VQ21 VR21 VR43 VS21 VT16 VT17 VT30 VU36 VW01 VW02 VW33

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】下記一般式［１］のジアミン化合物と遷移
   金属化合物からなる有機金属触媒の存在下で、塩素化ア
   リール［２］とヒドロシラン［３］とを液相で反応させ
   ることを特徴とするフェニルシラン［４］の製造方法。 【化１】 （上式において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、
   Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹及びＲ¹⁰はそれぞれ同一または相異な
   り、水素原子、シリル基を有していても良い炭化水素基
   又はシリル基を示す。ｍは０または１の整数を示す。ま
   た、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹及
   びＲ¹⁰はこれら2個以上が相互に連結して環を形成して
   も良い。） 【化２】 （上式において、Ｒ¹¹は有機基であり、Ｘは塩素であ
   り、ｎは０〜５の整数である。） 【化３】 （上式において、Ｒ¹²、Ｒ¹³及びＲ¹⁴は炭素数１から６
   のアルキル基、炭素数１から６のアルコキシ基、アリー
   ル基または塩素であり、互いに同一であっても異なって
   いてもよい。） 【化４】 （上式において、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴及びｎは上記
   と同義である。）
2. 【請求項２】ヒドロシランがトリアルコキシシランであ
   ることを特徴とする請求項１記載のフェニルシランの製
   造方法。