JP3864070B2 - オルガノシランの製造方法 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、触媒としてのイリジウム化合物及び助触媒としての遊離ジエンの存在でのヒドロシリル化によるオルガノシランの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
置換されたアルキルシランは、多数の分野にとって莫大な経済的重要性を有する。これらは、例えば付着促進剤又は架橋剤として使用される。
【0003】
不飽和化合物の白金もしくはロジウムにより触媒作用されたヒドロシリル化は、既にしばしば研究されてきた。生成物収率は、しばしば20〜45%で極めて低く、これは著しい副反応に起因している。
【0004】
ジエン配位子を有するイリジウム−触媒は、US−A−4658050によれば、アルコキシ置換されたシランを用いるアリル化合物のヒドロシリル化の際に使用される。JP−A−07126271には、ジエン配位子を有するイリジウム−触媒の存在でクロロジメチルシランを用いるハロゲン化アリルのヒドロシリル化が記載されている。この方法の欠点は、中程度の収率、不経済な高い触媒濃度及び/又は極めて短い触媒寿命である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、高い生成物収率及び生成物純度を、極めて僅かな触媒量で確実にし、かつその上、連続的並びに不連続的な反応操作を可能にする長い寿命を有する触媒系を開発することにあった。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明の対象は、一般式I
CH−RCH−SiR (I)
で示されるシランの製造方法であり、その際、一般式II
HSiR (II)
のシランと、一般式III
C=CHR (III)
のアルケンとを、触媒としての一般式IV
[(ジエン)IrCl] (IV)
のイリジウム化合物、及び助触媒としての遊離ジエンの存在で反応させ、
上記式中、R、R、Rは、非置換又はハロゲン置換され、Si−C結合した一価のC〜C18−炭化水素基、クロロ又はC〜C18−アルコキシ基を表し、
、R、Rは、水素原子、非置換又はF、Cl、OR、NR′、CN又はNCOで置換された一価のC〜C18−炭化水素基、クロロ、フルオロ又はC〜C18−アルコキシ基を表し、その際、それぞれR、R、Rのうちの2つの基は、結合している炭素原子と一緒になって、環状基を形成してもよく、
Rは、水素原子、一価のC〜C18−炭化水素基を表し、かつ
ジエンは、非置換又はF、Cl、OR、NR′、CN又はNCOで置換され、少なくとも2個のエチレン系C=C二重結合を有するC〜C50−炭化水素化合物を表す。
【0007】
本方法の場合に、一般式Iの目的生成物は、極めて僅かな触媒量の使用下に少なくとも95%から98%までの収率で得られる。従って、使用分野に応じて、蒸留による後処理を省略してもよい。
【0008】
〜C18−炭化水素基R、R、Rは、有利にアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基又はアリール基を意味する。有利に、R、R、Rは、多くとも10個、特に多くとも6個の炭素原子を有する。有利に、R、R、Rは、直鎖又は分枝鎖のC〜C−アルキル基又はC〜C−アルコキシ基である。好ましくはハロゲン置換基は、フルオロ及びクロロである。特に好ましくはR、R、Rとして、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、クロロ、フェニル及びビニルの基である。
【0009】
炭化水素基R、R、Rは、有利にアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基又はアリール基を意味する。有利にR、R、Rのうちの多くとも1つは、アルコキシ基である。有利にR、Rは、多くとも10個、特に多くとも6個の炭素原子を有する。有利にR、Rは、直鎖又は分枝鎖のC〜C−アルキル基又はC〜C−アルコキシ基である。特に好ましくはR、Rとして、水素、メチル、エチル、クロロ及びフェニルの基である。
【0010】
有利に炭化水素基Rは、多くとも6個、特に多くとも2個の炭素原子を有する。特に好ましくはRとして、水素、メチル、エチルの基である。
【0011】
有利に炭化水素基Rは、多くとも6個、特に多くとも2個の炭素原子を有する。
【0012】
ジエンとして使用される炭化水素化合物は、エチレン系C=C二重結合を有する分子単位に加えて、なおアルキル単位、シクロアルキル単位又はアリール単位を有していてよい。有利にジエンは6〜12個の炭素原子を有する。好ましくは、単環又は二環式のジエンである。ジエンの好ましい例は、ブタジエン、1,3−ヘキサジエン、1,4−ヘキサジエン、1,5−ヘキサジエン、イソプレン、1,3−シクロヘキサジエン、1,3−シクロオクタジエン、1,4−シクロオクタジエン、1,5−シクロオクタジエン及びノルボルナジエンである。
【0013】
一般式IVの触媒中のジエン及び助触媒として使用する遊離のジエンは、同じか又は異なっていてよい。有利に双方のジエンが同じである。
【0014】
特に好ましい場合において、触媒として一般式IV[(シクロオクタ−1c,5c−ジエン)IrCl]のもの及び助触媒として1,5−シクロオクタジエンが使用される。
【0015】
一般式IIのシラン成分は、一般式IIIのアルケンに対して、好ましくは0.01〜100モル%のII、特に好ましくは0.1〜10モル%の過剰量で変換される。一般式IVのイリジウム−化合物は、反応混合物中に存在する全ての成分に対して、有利に5〜250ppm、特に10〜50ppmの濃度で存在する。ジエンは、反応混合物中に存在する全ての成分に対して、有利に50〜2500ppm、特に50〜1000ppmの濃度で助触媒として添加される。
【0016】
本方法は、非プロトン性溶剤の存在又は不在で実施されることができる。非プロトン性溶剤が使用される場合には、0.1MPaで120℃までの沸点もしくは沸点範囲を有する溶剤又は溶剤混合物が好ましい。そのような溶剤の例は、エーテル、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル;塩素化炭化水素、例えばジクロロメタン、トリクロロメタン、テトラクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、トリクロロエチレン;炭化水素、例えばペンタン、n−ヘキサン、ヘキサン−異性体混合物、ヘプタン、オクタン、ベンジン(Waschbenzin)、石油エーテル、ベンゼン、トルエン、キシレン;ケトン、例えばアセトン、メチルエチルケトン、ジイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン(MIBK);エステル、例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸プロピル、酪酸エチル、イソ酪酸エチル;二硫化炭素及びニトロベンゼン、又はこの溶剤の混合物である。
【0017】
非プロトン性溶剤として、本方法において、一般式Iの目的生成物も使用されることができる。この方法の変法は好ましい。
【0018】
例えば、一般式IIの反応成分は、一般式IVのイリジウム−触媒及び場合によりジエンと一緒に装入され、一般式IIIの反応成分は、場合によりジエンとの混合物で、撹拌下に計量供給される。他の変法において、一般式Iの目的生成物は、一般式IVの触媒及び場合によりジエンと一緒に装入され、成分II、III及び場合によりジエンの混合物が計量供給される。使用すべき反応時間は、好ましくは10〜2000分間である。反応は、好ましくは0〜300℃、特に20〜200℃の温度で実施される。場合により、高められた圧力の使用も有用であり、有利に100barまでである。
【0019】
その上、ジエンの添加は、触媒の後計量供給を行わずに複数の変換を実施するのを可能にする。有利にジエンは、助触媒として、特に連続的に後供給される。
【0020】
上記の式の全ての上記の記号は、それぞれ互いに独立してそれらの意味を有する。
【0021】
次の例において、それぞれ他に記載されない限り、全ての量及び百分率の記載は、質量に基づいており、全ての圧力は0.10MPa(絶対)であり、かつ全ての温度は20℃である。
【0022】
【実施例】
例1(実施態様I)
ジャケット付蛇管冷却器、内部温度計及び滴下漏斗を備えた100mlの三つ口フラスコ中に、塩化アリル19.2g(0.25モル)、1,5−シクロオクタジエン0.1g(9.2×10- モル)及びジ−μ−クロロ−ビス−[(シクロオクタ−1c,5c−ジエン)−イリジウム(I)]3.0mg(4.5×10- モル)を装入した。37℃の浴温度で、クロロジメチルシラン23.7g(0.25モル)及び1,5−シクロオクタジエン0.1g(9.2×10- モル)からなる混合物を、1.5時間の期間に亘り、内部温度が45℃を上回らないようにして計量供給した。後反応のために、バッチを更に1時間、45℃の浴温度で保持した。蒸留による後処理後に、クロロ−(3−クロロプロピル)−ジメチルシラン40.8gが、シランに対して95%の収率に相応して得られた。
【0023】
例2(触媒装入物の再使用可能性)
例1に類似。蒸留による後処理の代わりに、塩化アリル19.2g(0.25モル)及び1,5−シクロオクタジエン0.1g(9.2×10- モル)をバッチに添加し、新たにクロロジメチルシラン23.7g(0.25モル)及び1,5−シクロオクタジエン0.1g(9.2×10- モル)からなる混合物を計量供給した。例1と同様に実施した。蒸留後の全収量は、76.2g(89%)であった。
【0024】
例3(蒸留かん出液の触媒活性の証明)
例2の蒸留残留物に、塩化アリル19.2g(0.25モル)及び1,5−シクロオクタジエン0.1g(9.2×10- モル)を添加し、新たにクロロジメチルシラン23.7g(0.25モル)及び1,5−シクロオクタジエン0.1g(9.2×10- モル)からなる混合物を計量供給した。例1と同様に実施した。蒸留後の収量は37.0g(87%)であった。
【0025】
例4(実施態様II)
例1に類似。付加的に、溶剤としてクロロ−(3−クロロプロピル)−ジメチルシラン10.0g(0.06モル)を装入した。蒸留後に、生成物48.8gが得られた。使用された量の10.0gを差し引いた後に、収量は、91%の収率に相応して38.8gである。
【0026】
例5(実施態様III)
例2におけるようなバッチサイズ。クロロ−(3−クロロプロピル)−ジメチルシラン、触媒及び1,5−シクロオクタジエンを装入し、塩化アリル、クロロジメチルシラン及び1,5−シクロオクタジエンからなる混合物を滴加する。蒸留後に、生成物50.1gが得られる。使用された量の10.0gを差し引いた後に、収量は、94%の収率に相応して40.1gである。
【0027】
例6(白金−触媒を用いた比較例)
ジャケット付蛇管冷却器、内部温度計及び滴下漏斗を備えた100mlの三つ口フラスコ中で、塩化アリル19.2g(0.25モル)及びジクロロジシクロペンタジエン−白金(II)21.0mg(3.1×10- モル、125ppm)を装入した。37℃の浴温度で、クロロジメチルシラン23.7g(0.25モル)を計量供給した。50℃で、なお3時間、後反応させた。蒸留による後処理後に、クロロ−(3−クロロプロピル)−ジメチルシラン18.1g(42%)が得られたに過ぎなかった。
【0028】
例7(助触媒を添加しない比較例)
例1に類似のバッチ、但し1,5−シクロオクタジエンを添加しない。24時間の反応時間後でさえ、測定可能な変換率(NMR)が見出され得なかった。

Claims (8)

  1. 一般式I
    CH−RCH−SiR (I)
    で示されるシランの製造方法において、一般式II
    HSiR (II)
    のシランを、一般式III
    C=CHR (III)
    のアルケンと、触媒として一般式IV
    [(ジエン)IrCl] (IV)
    {上記式中、R、R、Rは、非置換又はハロゲン置換され、Si−C結合した一価のC〜C18−炭化水素基、クロロ又はC〜C18−アルコキシ基を表し、
    、R、Rは水素原子、非置換又はF、Cl、OR、NR′、CN又はNCOで置換された一価のC〜C18−炭化水素基、クロロ、フルオロ又はC〜C18−アルコキシ基を表し、その際、R、R、Rのうちのそれぞれ2つの基は、結合している炭素原子と一緒になって、環状基を形成していてよく、
    Rは、水素原子、一価のC〜C18−炭化水素基を表し、かつ
    ジエンは、非置換又はF、Cl、OR、NR′、CN又はNCOで置換され、少なくとも2個のエチレン系C=C二重結合を有するC〜C50−炭化水素化合物を表す}のイリジウム化合物及び助触媒としての遊離ジエンの存在下に反応させ、その際にジエンを助触媒として連続的に後計量供給することを特徴とする、一般式Iのシランの製造方法。
  2. 、R、RがC〜C−アルキル基又はC〜C−アルコキシ基である、請求項1記載の方法。
  3. 、RがC〜C−アルキル基又はC〜C−アルコキシ基である、請求項1又は2記載の方法。
  4. を水素、メチル、エチルの基から選択する、請求項1から3までのいずれか1項記載の方法。
  5. 温度が0〜300℃である、請求項1から4までのいずれか1項記載の方法。
  6. 100barまでの高められた圧力を使用する、請求項1から5までのいずれか1項記載の方法。
  7. 触媒として一般式IV[(シクロオクタ−1c,5c−ジエン)IrCl]を使用する、請求項1から6までのいずれか1項記載の方法。
  8. 助触媒として1,5−シクロオクタジエンを使用する、請求項1から7までのいずれか1項記載の方法。
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Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3856081B2 (ja) * 2000-05-15 2006-12-13 信越化学工業株式会社 ハロプロピルジメチルクロロシラン化合物の製造方法
US6605734B2 (en) 2001-12-07 2003-08-12 Dow Corning Corporation Alkene-platinum-silyl complexes
FR2841244B1 (fr) * 2002-06-21 2007-10-05 Rhodia Chimie Sa Procede de preparation d'organo dialkylalcoxysilane
FR2841245B1 (fr) * 2002-06-21 2005-02-18 Rhodia Chimie Sa Procede de preparation d'organo dialkylalcoxysilane
DE10232663C1 (de) * 2002-07-18 2003-10-16 Wacker Chemie Gmbh Kontinuierliche Herstellung von Organosilanen
FR2856402B1 (fr) * 2003-06-17 2005-08-26 Rhodia Chimie Sa Procede de preparation d'halogenoalkylchlorosilane
FR2871802B1 (fr) * 2004-06-16 2006-07-21 Rhodia Chimie Sa Procede de preparation d'un omega-halogenoalkyl dialylhalogenosilane
US20090036702A1 (en) * 2004-10-28 2009-02-05 Wacker Chemie Ag Production of organosilanes in the presence of iridium-catalysts and cocatalysts
DE102006039191A1 (de) * 2006-08-21 2008-03-20 Wacker Chemie Ag Kontinuierliche Herstellung von Organosilanen
DE102007011158A1 (de) * 2007-03-07 2008-09-11 Wacker Chemie Ag Iridiumkatalysiertes Herstellungsverfahren für siliciumorganische Verbindungen
CN101970447B (zh) * 2008-03-06 2015-04-08 陶氏康宁公司 卤代烷基烷氧基硅烷和卤代烷基卤硅烷的制备方法
DE102008002552A1 (de) * 2008-06-20 2009-12-24 Wacker Chemie Ag Verfahren zur Hydrosilylierung
JP5170419B2 (ja) * 2008-06-25 2013-03-27 信越化学工業株式会社 1,2−ビス(ハロゲノジオルガノシリル)エタンの製造方法
CN103842368B (zh) * 2011-09-20 2017-02-22 道康宁公司 含铱硅氢加成催化剂及含有该催化剂的组合物
CZ305369B6 (cs) * 2013-05-02 2015-08-19 Ústav Chemických Procesů Akademie Věd České Republiky Způsob přípravy polyfluorovaného činidla
JP2015074634A (ja) * 2013-10-09 2015-04-20 独立行政法人産業技術総合研究所 アリールシラン類の製造方法及びアリールシラン類合成用触媒組成物
CN108291030B (zh) 2015-12-07 2021-01-05 美国陶氏有机硅公司 使用铱络合物催化剂氢化硅烷化羧酸烷基酯和氢封端的有机硅氧烷寡聚物的方法和组合物
JP6987149B2 (ja) * 2017-04-11 2021-12-22 ダウ シリコーンズ コーポレーション 脱水素シリル化によるアリールアルコキシシランの調製方法
EP3645607A1 (en) 2017-06-26 2020-05-06 Dow Silicones Corporation Method for hydrosilylation of aliphatically unsaturated alkoxysilanes and hydrogen terminated organosiloxane oligomers to prepare alkoxysilyl terminated polymers useful for functionalizing polyorganosiloxanes using an iridium catalyst
US11028297B2 (en) 2017-08-22 2021-06-08 Dow Silicones Corporation Dual cure adhesive composition and methods for its preparation and use
JP2021178786A (ja) * 2020-05-13 2021-11-18 信越化学工業株式会社 ジメチルクロロシラン化合物の製造方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4549018A (en) * 1981-03-20 1985-10-22 Minnesota Mining And Manufacturing Company Rhodium-and iridium-nitrogen complex catalysts
US4658050A (en) * 1986-03-31 1987-04-14 Union Carbide Corporation Novel process for the preparation of halopropyltrialkoxysilanes and halopropylalkylalkoxysilanes
DE59509258D1 (de) * 1994-10-25 2001-06-21 Degussa Verfahren zur Herstellung von 3-Halogen- bzw. -Pseudohalogen-alkylsilanestern
CA2161181A1 (en) * 1994-10-25 1996-04-26 Frank Kropfgans Process for the preparation of 3-halo- and -pseudohaloalkylsilane esters
US6303728B1 (en) * 1997-07-08 2001-10-16 Kaneka Corporation Hydrosilylation process and polymers produced by the process
US6271280B1 (en) * 2000-04-19 2001-08-07 General Electric Company Diacetylenic polyorganosiloxanes, intermediates therefor, and cured compositions prepared therefrom
JP3856081B2 (ja) * 2000-05-15 2006-12-13 信越化学工業株式会社 ハロプロピルジメチルクロロシラン化合物の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP1201671A1 (de) 2002-05-02
PL350308A1 (en) 2002-05-06
PL201469B1 (pl) 2009-04-30
DE10053037C1 (de) 2002-01-17
CN1351015A (zh) 2002-05-29
CN1167705C (zh) 2004-09-22
EP1201671B1 (de) 2003-11-12
US20020052520A1 (en) 2002-05-02
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