JP5868285B2 - プリント基板 - Google Patents

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本発明は、プリント基板に関する。
近年、電子機器の小型化、高密度実装化が進んできており、これに伴い、プリント基板上の配線やIC部品等の回路部品の間隔が狭くなり、電磁ノイズが伝搬し易くなってきている。
このため、静電気等の外来電磁ノイズが、プリント基板内へ伝搬し易くなり、プリント基板上の回路部品の誤動作を引き起こし易くなっている。
たとえば、特開2010−50298号公報に記載されたプリント基板においては、外来電磁ノイズをプリント基板上へ伝搬させないために、フレームグランド配線とシグナルグラウンド配線との間にスリットが設けられている。
上記の文献に限られず、従来からノイズの低減を図るために、各種の装置が提案されている。
たとえば、特開2011−151538号公報に記載されたドーム型監視カメラ用の基板構造は、回路基板と、回路基板の表面に形成されたフレームグランドのベタグランドと、筐体とを備え、ベタパターンと筐体とで電磁シールドを形成している。これにより、高速信号線から発生する放射ノイズの抑制が図られている。
また、特開2000−236189号公報に記載された航空機用電子回路シールド装置は、電磁波を放射する部品と、2つの金属板から形成され、電磁波を放射する部品を覆うケースとを備え、ケースをフレームグランドに接続することにより、電磁波の放射が抑制されている。
なお、特開平7−240595号公報、特開平8−64984号公報、特開平5−82211号公報、実公平7−13280号公報などにも各種のノイズを抑制するための構造が提案されている。
特開2010−50298号公報 特開2011−151538号公報 特開2000−236189号公報 特開平7−240595号公報 特開平8−64984号公報 特開平5−82211号公報 実公平7−13280号公報
上記のように従来から電磁ノイズの抑制を目的として各種の提案がなされている一方で、いずれの特許文献においても、外部インターフェースコネクタに基づくノイズの伝搬を十分に抑制することができない。
たとえば、特開2010−50298号公報に記載されたプリント基板は、フレームグランド配線とシグナルグラウンド配線の間にスリットを設けられている。フレームグランド配線に搭載された外部インターフェースコネクタの筐体に、高周波成分(数kHz以上)を含んだ外来電磁ノイズ(例えば、静電気ノイズ)が印加された場合、電磁ノイズの大部分はフレームグランド配線を伝搬し、アースや機器の筐体などの安定した電位に伝搬する。
しかし、このとき電磁ノイズの一部は、信号配線やIC部品等の回路部品が実装された回路配線部に空間結合し、プリント基板上の回路部品が誤動作を引き起こすという問題点があった。
本発明は、上記のような問題点を解決することを目的とするものであって、その目的は、外来電磁ノイズ(例えば、静電気ノイズ)が回路部品に伝搬するのを低減したプリント基板を提供することである。
本発明に係るプリント基板は、外部インターフェースコネクタが実装される外部インターフェースコネクタ実装配線部と接続されたメインフレームグランド配線と、メインフレームグランド配線と対向するように間隔をあけて配置されたガードフレームグランド配線と、外部インターフェースコネクタ実装配線部、メインフレームグランド配線およびガードフレームグランド配線と間隔をあけて配置された信号配線やIC部品等の回路部品が実装された回路配線部とを備える。上記メインフレームグランド配線とガードフレームグランド配線とは、アースされる。
好ましくは、上記メインフレームグランド配線と信号配線やIC部品等の回路部品が実装された回路配線部との間隔は、メインフレームグランド配線とガードフレームグランド配線との間隔よりも大きい。
好ましくは、上記メインフレームグランド配線とガードフレームグランド配線とが延びる方向に垂直な平面でメインフレームグランド配線とガードフレームグランド配線と断面視したときにおいて、メインフレームグランド配線およびガードフレームグランド配線からメインフレームグランド配線およびガードフレームグランド配線の配列方向に間隔をあけて位置する仮想平面にメインフレームグランド配線とガードフレームグランド配線とを投影すると、メインフレームグランド配線の投影部は、ガードフレームグランド配線の投影部内に位置する。
好ましくは、上記ガードフレームグランド配線は、複数層に配線されている。好ましくは、メインフレームグランド配線が形成された導体層は、1つである。好ましくは、ガードフレームグランド配線は、間隔をあけて積層された複数のガードフレームグランド配線を含む。好ましくは、上記ガードフレームグランド配線は、メインフレームグランド配線と対向する第1ガードフレームグランド配線と、メインフレームグランド配線に対して第1ガードフレームグランド配線と反対側に配置された第2ガードフレームグランド配線と、第1ガードフレームグランド配線と第2ガードフレームグランド配線とを電気的に接続するビアとを含む。
好ましくは、上記メインフレームグランド配線と、ガードフレームグランド配線との少なくとも一方は、蛇行する配線であるミアンダ配線である。
好ましくは、上記ガードフレームグランド配線は、メインフレームグランド配線の周囲を取り囲むように形成される。好ましくは、上記ガードフレームグランド配線は、メインフレームグランド配線の一端から他端に向かうにつれて、メインフレームグランド配線の周囲を取り囲むように形成される。
好ましくは、上記回路配線は、シグナルグランド配線と電源配線とを含む。上記メインフレームグランド配線とガードフレームグランド配線との少なくとも一方は、シグナルグランド配線または電源配線に接続される。
好ましくは、上記メインフレームグランド配線とガードフレームグランド配線との少なくとも一方と、シグナルグランド配線または電源配線に接続する電子デバイスをさらに備える。
本発明に係るプリント基板によれば、外来電磁ノイズ(例えば、静電気ノイズ)が回路部品に伝搬するのを低減することができる。
本実施の形態1に係るプリント基板1を模式的に示す斜視図である。 プリント基板1の一部を示す断面図である。 本実施の形態1に係るプリント基板1の解析結果を示すグラフである。 プリント基板1を示す断面図である。 本実施の形態3に係るプリント基板1を示す断面図である。 本実施の形態3に係るプリント基板1の変形例を示す断面図である。 本実施の形態4に係るプリント基板1を示す断面図である。 メインフレームグランド配線20の平面図である。 変形例に係るプリント基板1の断面図である。 第1ガードフレームグランド配線21を示す平面図である。 本実施の形態5に搭載されるガードフレームグランドユニット16およびメインフレームグランド配線20を示す平面図である。 ガードフレームグランドユニット16およびメインフレームグランド配線20を示す側面図である。 実施の形態6に係るプリント基板1を模式的に示す断面図である。 実施の形態6に係るプリント基板1の変形例を模式的に示す断面図である。 本実施の形態7に係るプリント基板1を模式的に示す断面図である。 実施の形態7に係るプリント基板1の変形例を模式的に示す断面図である。 素子50およびその周囲の構成を模式的に示す斜視図である。
図1から図17を用いて、本発明に係る実施の形態について説明する。なお、各図面に示す構成のうち、互いに同一または相当する構成については、同一の符号を付して、重複する説明を書略する場合がある。また、各実施の形態を組み合わせることは出願当初から予定されている。
(実施の形態1)
図1は、本実施の形態1に係るプリント基板1を模式的に示す斜視図である。この図1に示すように、プリント基板1は、複数の誘電体層6a,6b,6cと、各誘電体層の上面上に形成された導電体層と、導電体層を電気的に接続するための複数のビアとを備え、各導電体層によって、回路本体部2と、フレームグランド部3とが形成されている。
具体的には、プリント基板1は、誘電体層6aと、この誘電体層6a上に形成された回路配線部7および第2ガードフレームグランド配線22と、回路配線部7および第2ガードフレームグランド配線22上に形成された誘電体層6bと、誘電体層6bの上面上に形成された回路配線部8およびメインフレームグランド配線20と、回路配線部8およびメインフレームグランド配線20上に形成された誘電体層6cと、誘電体層6cの上面上に形成された回路配線部9、第1ガードフレームグランド配線21および外部インターフェースコネクタ実装配線部18とを含む。
回路本体部2は、回路配線部7と、回路配線部8と、回路配線部9とを含み、さらにIC部品などの回路部品が実装されている。回路配線部7と、回路配線部8と、回路配線部9とには、信号配線、電源配線およびシグナルグランド配線などが形成されている。
フレームグランド部3は、メインフレームグランドユニット15と、ガードフレームグランドユニット16とを含む。メインフレームグランドユニット15は、外部インターフェースコネクタ実装配線部18と、メインフレームグランド配線20と、外部インターフェースコネクタ実装配線部18およびメインフレームグランド配線20を接続するビア19とを含む。外部インターフェースコネクタ実装配線部18は、外部インターフェースコネクタ4のアース電位とする部位に接続される。
ガードフレームグランドユニット16は、第1ガードフレームグランド配線21と、第2ガードフレームグランド配線22と、第1ガードフレームグランド配線21および第2ガードフレームグランド配線22を接続する複数のビア23とを含む。第2ガードフレームグランド配線22の端部は、アースや導電性のケースなどの安定した電位に接続されている。
第1ガードフレームグランド配線21の端部とメインフレームグランド配線20の端部とは、ビア30によって接続され、メインフレームグランド配線20の端部と第2ガードフレームグランド配線22の端部とは、ビア31によって接続されている。なお、第2ガードフレームグランド配線22の端部は、図示しない部材によって、導電性のケースなどにアースされている。
メインフレームグランド配線20の上方には、第1ガードフレームグランド配線21が配置され、メインフレームグランド配線20の下方には、第2ガードフレームグランド配線22が位置している。
第1ガードフレームグランド配線21および第2ガードフレームグランド配線22は、略全長に亘って、メインフレームグランド配線20と対向するように配置されている。
外部インターフェースコネクタ実装配線部18と第1ガードフレームグランド配線21との間にはスリット26が形成されている。第1ガードフレームグランド配線21と回路配線部9との間には、スリット25が形成されている。メインフレームグランド配線20と回路配線部8との間には、スリット24が形成されている。第2ガードフレームグランド配線22と回路配線部7との間には、スリット27が形成されている。
なお、本実施の形態においては、第1ガードフレームグランド配線21と回路配線部9とが同一の層に形成されているが、第1ガードフレームグランド配線21の層と回路配線部9の層とを異なる層に形成してもよい。同様に、メインフレームグランド配線20と回路配線部8とを同一の層に配置する例に限られず、また、第2ガードフレームグランド配線22と回路配線部7とを同一の層に配置する例に限られない。
なお、本実施の形態においては、プリント基板1の導電体層を3層のみ記述しているが、実際のプリント基板では、導電体層が4層、6層、8層、10層・・・と多層であり、本実施の形態においても、3層に限ったものではない。
図2は、プリント基板1の一部を示す断面図である。なお、この図2においては、誘電体層は図示していない。この図2に示すように、第1ガードフレームグランド配線21と、メインフレームグランド配線20と、第2ガードフレームグランド配線22とは、上下方向に配列するように配置されている。
図2中の仮想平面Pは、第1ガードフレームグランド配線21、メインフレームグランド配線20および第2ガードフレームグランド配線22の配列方向に、第2ガードフレームグランド配線22から離れた位置に配置され、第1ガードフレームグランド配線21、メインフレームグランド配線20および第2ガードフレームグランド配線22の配列方向に垂直な仮想平面である。
そして、メインフレームグランド配線20を仮想平面Pに投影した時の投影部を投影部L1とし、第1ガードフレームグランド配線21および第2ガードフレームグランド配線22を仮想平面Pに投影した時の投影部を投影部L2,L3とする。この図2からも明らかなように、投影部L1は、投影部L2および投影部L3内に位置する。なお、メインフレームグランド配線20の幅W1は、第1ガードフレームグランド配線21の幅W2よりも小さい。メインフレームグランド配線20の幅W1は、第2ガードフレームグランド配線22の幅W3よりも小さい。
上記のように構成されたプリント基板1において、図1に示す外部インターフェースコネクタ4やスイッチなどの筐体に、高周波成分(数kHz以上)を含んだ外来電磁ノイズ(たとえば、静電気ノイズ)が印加された場合について説明する。
この際、電磁ノイズは、外部インターフェースコネクタ実装配線部18、ビア19、およびメインフレームグランド配線20を通って導電性のケースやアースなど安定した電位に伝搬する。
メインフレームグランド配線20は、長手方向に亘って、第1ガードフレームグランド配線21および第2ガードフレームグランド配線22と対向しており、メインフレームグランド配線20と第1ガードフレームグランド配線21および第2ガードフレームグランド配線22との間の結合容量が大きい。これにより、メインフレームグランド配線20を通る電磁ノイズが、回路本体部2と空間結合することを抑制することができる。
特に、本実施の形態においては、図2に示すように、第1ガードフレームグランド配線21および第2ガードフレームグランド配線22の幅W2,W3は、メインフレームグランド配線20の幅W1よりも大きい。このため、メインフレームグランド配線20と第1ガードフレームグランド配線21および第2ガードフレームグランド配線22との間に形成される静電容量が大きく、メインフレームグランド配線20を流れる電磁ノイズが回路本体部2と空間結合することを抑制することができる。さらに、メインフレームグランド配線20と第1ガードフレームグランド配線21と第2ガードフレームグランド配線22とは、投影部L1が投影部L2,L3内に位置するように配置されているため、メインフレームグランド配線20を流れる電磁ノイズが回路本体部2と空間結合することが抑制されている。
図3は、本実施の形態1に係るプリント基板1の解析結果を示すグラフである。縦軸は、回路本体部2へのノイズ伝搬量を示し、横軸は、周波数を示す。このグラフにおいて、図1に示すガードフレームグランドユニット16がないプリント基板1におけるノイズ伝搬量の基準(0dB)とする。
この図3に示すグラフから明らかなように、本実施の形態1に係るプリント基板1によれば、ガードフレームグランドユニット16がない比較例と比較して、回路本体部2へのノイズ伝搬量が低いことが分かる。
(実施の形態2)
図4は、本実施の形態2に係るプリント基板1を示す断面図である。
これにより、メインフレームグランド配線20と回路配線部8との間のスリット24の幅W5は、メインフレームグランド配線20と第1ガードフレームグランド配線21との間の基板間距離Hよりも大きい。このため、メインフレームグランド配線20内を電磁ノイズが伝搬する際に、電磁ノイズが回路配線部8と空間結合することを抑制することができる。なお、当然のことながら、回路配線部9とメインフレームグランド配線20との間の距離と、メインフレームグランド配線20と回路配線部7との間の距離とのいずれも、基板間距離Hよりも大きく、電磁ノイズが回路本体部2と空間結合することが抑制されている。
(実施の形態3)
図5は、本実施の形態3に係るプリント基板1を示す断面図である。この図5に示すように、本実施の形態3に係るプリント基板1のガードフレームグランドユニット16は、メインフレームグランド配線20の上方に配置された第1ガードフレームグランド配線21と、メインフレームグランド配線20の下方に配置された第2ガードフレームグランド配線22と、複数のビア23と、複数のビア28とを含む。
ビア23は、第1ガードフレームグランド配線21の両辺部と、第2ガードフレームグランド配線22の両辺部とを接続する。ビア28は、メインフレームグランド配線20に形成された穴部29を通り、第1ガードフレームグランド配線21の幅方向の中央部と第2ガードフレームグランド配線22の幅方向の中央部とを接続する。ビア28は、メインフレームグランド配線20の長手方向に間隔をあけて複数配置されている。
このような構成によれば、メインフレームグランド配線20を通る電磁ノイズが第1ガードフレームグランド配線21と空間結合して、第1ガードフレームグランド配線21が電位変動したときに、複数のビアによって第1ガードフレームグランド配線21の電位変動が第2ガードフレームグランド配線22にも伝搬することで、第1ガードフレームグランド配線21の電位変動を減衰させることができる。
また、ビア28は、メインフレームグランド配線20に形成された穴部29に挿入されているため、ビア28とメインフレームグランド配線20との間の容量結合を大きく確保することができ、電磁ノイズがメインフレームグランド配線20を伝搬する際に、電磁ノイズが回路本体部2と空間結合することを抑制することができる。
図6は、本実施の形態3に係るプリント基板1の変形例を示す断面図である。この図6に示す例においては、ガードフレームグランドユニット16は、メインフレームグランド配線20の上方に配置された第1ガードフレームグランド配線21と、メインフレームグランド配線20の下方に配置された第2ガードフレームグランド配線22と、ビア28とを含む。ビア28は、メインフレームグランド配線20に形成された穴部29を通り、第1ガードフレームグランド配線21の幅方向の中央部と、第2ガードフレームグランド配線22の幅方向の中央部とを接続する。ビア28は、メインフレームグランド配線20の長手方向に間隔をあけて複数配置されている。このように、図5に示すビア23は、必ずしも必須の構成ではなく、第1ガードフレームグランド配線21と第2ガードフレームグランド配線22とを接続するビアとして、ビア28のみとしてもよい。
(実施の形態4)
図7から図10を用いて、本実施の形態4に係るプリント基板1について説明する。図7は、本実施の形態4に係るプリント基板1を示す断面図であり、図8は、メインフレームグランド配線20の平面図である。
図8に示すように、メインフレームグランド配線20として、ミアンダ配線が採用されている。このメインフレームグランド配線20は、メインフレームグランド配線20の一端から他方端に向かう間に複数回蛇行するように曲げられている。
このため、直線状の配線を採用した場合よりもメインフレームグランド配線20の配線長が長くなる。このため、メインフレームグランド配線20と、第1ガードフレームグランド配線21および第2ガードフレームグランド配線22との間の静電容量を大きくすることができる。これに伴い、電磁ノイズがメインフレームグランド配線20を伝搬する際に、電磁ノイズが回路本体部2と空間結合することを抑制することができる。すなわち、メインフレームグランド配線20の形状を調整することで、回路本体部2と空間結合する電磁ノイズの周波数や減衰量を調整することができる。
さらに、ミアンダ配線の配線長、配線幅や静電容量などを調整することで、メインフレームグランド配線20の共振周波数を調整することができ、ミアンダ配線の共振周波数と、回路本体部2に設けられた電子素子の駆動周波数とをずらすことができる。また、ミアンダ配線の配線長、配線幅や静電容量などを調整することで、インピーダンスが低くなる周波数を適宜設定することができる。
なお、図7および図8に示す例では、メインフレームグランド配線20にミアンダ配線を採用しているが、第1ガードフレームグランド配線21および第2ガードフレームグランド配線22にミアンダ配線を採用してもよい。
図9および図10を用いて、本実施の形態4に係るプリント基板1の変形例について説明する。図9は、変形例に係るプリント基板1の断面図である。図10は、第1ガードフレームグランド配線21を示す平面図である。
図9および図10に示すように、第1ガードフレームグランド配線21としてミアンダ配線が採用されている。同様に第2ガードフレームグランド配線22としてミアンダ配線が採用されている。
このように、第1ガードフレームグランド配線21および第2ガードフレームグランド配線22としてミアンダ配線を採用することで、第1ガードフレームグランド配線21および第2ガードフレームグランド配線22の配線長は、直線状の配線が採用された第1ガードフレームグランド配線21および第2ガードフレームグランド配線22よりも長くなる。
これにより、メインフレームグランド配線20と、第1ガードフレームグランド配線21および第2ガードフレームグランド配線22との間に形成される静電容量を高めることができ、メインフレームグランド配線20内を電磁ノイズが伝搬する際に、電磁ノイズが回路本体部2と空間結合することを抑制することができる。
(実施の形態5)
図11および図12を用いて、本実施の形態5に係るプリント基板1について説明する。図11は、本実施の形態5に搭載されるガードフレームグランドユニット16およびメインフレームグランド配線20を示す平面図である。具体的には、メインフレームグランド配線20の上方から、ガードフレームグランドユニット16と、メインフレームグランド配線20とを平面視したときの平面図である。図12は、ガードフレームグランドユニット16およびメインフレームグランド配線20を示す側面図である。
この図11および図12に示すように、ガードフレームグランドユニット16は、メインフレームグランド配線20の上方に配置された複数のガードフレームグランド配線40と、メインフレームグランド配線20の下方に配置された複数のガードフレームグランド配線41と、ガードフレームグランド配線40およびガードフレームグランド配線41を直列に接続する複数のビア23とを含む。
図11に示すように、ガードフレームグランド配線40の上方からガードフレームグランド配線40およびメインフレームグランド配線20をみると、ガードフレームグランド配線40は、メインフレームグランド配線20の延びる方向と交差する方向に延びるように配置されている。ガードフレームグランド配線40の両端部は、メインフレームグランド配線20から離れた位置に配置されている。
同様に、ガードフレームグランド配線40の上方からメインフレームグランド配線20と、ガードフレームグランド配線41とをみると、ガードフレームグランド配線41もメインフレームグランド配線20の延びる方向と交差する方向に延びるように配置されている。
ガードフレームグランド配線40の後端部と、ガードフレームグランド配線41の前端部とが上下方向に重なるように配置され、ガードフレームグランド配線40の前端部とガードフレームグランド配線41の後端部とが上下方向に重なるように配置されている。
1つのビア23は、ガードフレームグランド配線40の後端部とガードフレームグランド配線41の前端部とを接続し、1つのビア23がガードフレームグランド配線40の前端部とガードフレームグランド配線41の後端部とを接続する。
このように、ガードフレームグランドユニット16は、メインフレームグランド配線20の一端からメインフレームグランド配線20の他端に向かうにつれて、メインフレームグランド配線20の周囲を取り囲むように形成されている。
これにより、メインフレームグランド配線20から回路本体部2への電磁ノイズ伝搬量を低減することができると共に、回路本体部2へ伝搬される電磁ノイズの周波数を調整することができる。
また、ガードフレームグランドユニット16の形状を調整することで、メインフレームグランド配線20とガードフレームグランドユニット16との間に形成される静電容量を変更することが容易に可能となる。これにより、ガードフレームグランドユニット16の共振周波数と、回路本体部2に実装された電子素子の駆動周波数とをずらすことができる。さらに、ガードフレームグランドユニット16の静電容量を調整することで、ガードフレームグランドユニット16のインピーダンスが低くなるときの周波数を調整することができる。
(実施の形態6)
図13および図14を用いて、本実施の形態6に係るプリント基板1について説明する。図13は、実施の形態6に係るプリント基板1を模式的に示す断面図である。この図13に示すように、第1ガードフレームグランド配線21は、回路配線部9に形成されたシグナルグランド配線と電源配線とのいずれか一方に電気的に接続されている。
このプリント基板1において、メインフレームグランド配線20に高周波の電磁ノイズが印加されることで、第1ガードフレームグランド配線21が電位変動したとする。第1ガードフレームグランド配線21の電位変動は、回路配線部9に形成されたシグナルグランド配線と電源配線とのいずれか一方に逃がされる。シグナルグランド配線や電源配線は、面積が広くなるように形成されている場合には、シグナルグランド配線や電源配線の電位が安定する。そこで、第1ガードフレームグランド配線21や第2ガードフレームグランド配線22がアースされた位置にノイズを逃がす場合よりも、電位が安定したシグナルグランド配線または電源配線に接続した方が、電磁ノイズが周囲に漏れることを抑制できる。
図14は、実施の形態6に係るプリント基板1の変形例を模式的に示す断面図である。この図14に示すように、メインフレームグランド配線20には、ビア42が接続されており、ビア42は、回路配線部9に形成されたシグナルグランド配線と電源配線とのいずれか一方に接続されている。
この図14に示す例において、メインフレームグランド配線20に電磁ノイズが印加されると、メインフレームグランド配線20の電位変動は、ビア42を通して、回路配線部9に形成されたシグナルグランド配線と電源配線との少なくとも一方に伝達される。シグナルグランド配線や電源配線に伝達された電位変動は、各配線を伝わる間に減衰される。
特に、シグナルグランド配線や電源配線を面積が広くなるように形成することで、電位変動を良好に減衰させることができ、回路配線部9に実装された素子に与える影響を小さく抑えることができる。
(実施の形態7)
図15から図17を用いて、本実施の形態7に係るプリント基板1について説明する。図15は、本実施の形態7に係るプリント基板1を模式的に示す断面図である。この図15に示すように、プリント基板1は、第1ガードフレームグランド配線21と回路配線部9との間に位置するスリットを跨ぐように配置された素子50を含む。
素子50は、第1ガードフレームグランド配線21と、回路配線部9に形成されたシグナルグランド配線と電源配線との少なくとも一方とを接続する。なお、素子50としては、コンデンサ、インダクタおよび抵抗などの少なくとも1つを含む。
このプリント基板1において、メインフレームグランド配線20に電磁ノイズが印加され、第1ガードフレームグランド配線21が電位変動すると、第1ガードフレームグランド配線21の電位変動が素子50を通して、電源配線やシグナルグランド配線に伝達される。
電源配線やシグナルグランド配線と、第1ガードフレームグランド配線21との間には、素子50が設けられているため、第1ガードフレームグランド配線21から電源配線やシグナルグランド配線に伝達される電磁ノイズの周波数を選択することができる。これにより、電磁ノイズが電源配線やシグナルグランド配線を伝達する間に減衰し易い周波数帯のみを選択することで、回路配線部9に実装された素子への影響を低減することができる。
図16、図17は、本実施の形態7に係るプリント基板1の変形例を模式的に示す断面図および斜視図である。この図16に示すプリント基板1は、メインフレームグランド配線20に接続されたビア51と、ビア51に接続された接続配線52と、接続配線52と回路配線部9に形成されたシグナルグランド配線と電源配線との少なくとも一方とを接続する素子50とを備える。
以上のように本発明の実施の形態について説明を行なったが、今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
1 プリント基板、2 回路本体部、3 フレームグランド部、4 外部インターフェースコネクタ、6a,6b,6c 誘電体層、7,8,9 回路配線部、15 メインフレームグランドユニット、16 ガードフレームグランドユニット、18 外部インターフェースコネクタ実装配線部、19,23,28,30,31,42,51 ビア、20 メインフレームグランド配線、21 第1ガードフレームグランド配線、22 第2ガードフレームグランド配線、24,25,26,27 スリット、29 穴部、40,41 ガードフレームグランド配線、50 素子、52 接続配線、H 基板間距離、L1,L2,L3 投影部、P 仮想平面、W1,W2,W3,W5 幅。

Claims (10)

  1. プリント基板であって、
    外部インターフェースコネクタが実装される外部インターフェースコネクタ実装配線部と、
    前記外部インターフェースコネクタ実装配線部と接続されたメインフレームグランド配線と、
    前記外部インターフェースコネクタ実装配線部と間隔をあけて配置され、かつ当該プリント基板の厚み方向において前記メインフレームグランド配線と対向するように前記厚み方向において前記メインフレームグランド配線の上方と下方とに間隔をあけて配置された一対のガードフレームグランド配線と、
    前記外部インターフェースコネクタ実装配線部、前記メインフレームグランド配線および前記一対のガードフレームグランド配線と間隔をあけて配置され、回路部品が搭載された回路配線部と、を備え、
    前記メインフレームグランド配線と前記一対のガードフレームグランド配線とは、安定した電位に接続される、プリント基板。
  2. 前記メインフレームグランド配線と前記回路配線部との間隔は、前記メインフレームグランド配線と前記一対のガードフレームグランド配線の各々との間隔よりも大きい、請求項1に記載のプリント基板。
  3. 前記メインフレームグランド配線と前記一対のガードフレームグランド配線とが延びる方向に垂直な平面で前記メインフレームグランド配線と前記一対のガードフレームグランド配線と断面視したときにおいて、前記メインフレームグランド配線および前記一対のガードフレームグランド配線から前記メインフレームグランド配線および前記一対のガードフレームグランド配線の配列方向に間隔をあけて位置する仮想平面に前記メインフレームグランド配線と前記一対のガードフレームグランド配線とを投影すると、前記メインフレームグランド配線の投影部は、前記一対のガードフレームグランド配線の各々の投影部内に位置する、請求項1または請求項2に記載のプリント基板。
  4. 前記メインフレームグランド配線が形成された導体層は、1つである、請求項1から請求項3のいずれかに記載のプリント基板。
  5. 前記一対のガードフレームグランド配線を電気的に接続するビアをさらに備えた、請求項1から請求項のいずれかに記載のプリント基板。
  6. 前記一対のガードフレームグランド配線および前記メインフレームグランド配線の少なくとも一方は、蛇行する配線であるミアンダ配線である、請求項1から請求項のいずれかに記載のプリント基板。
  7. 前記一対のガードフレームグランド配線は、前記メインフレームグランド配線の周囲を取り囲むように形成された、請求項1から請求項6のいずれかに記載のプリント基板。
  8. 前記一対のガードフレームグランド配線は、前記メインフレームグランド配線の一端から他端に向かうにつれて、前記メインフレームグランド配線の周囲を取り囲むように形成された、請求項に記載のプリント基板。
  9. 前記回路配線部は、シグナルグランド配線と電源配線とを含み、
    前記一対のガードフレームグランド配線および前記メインフレームグランド配線の少なくとも一方は、前記シグナルグランド配線または前記電源配線に接続された、請求項1から請求項のいずれかに記載のプリント基板。
  10. 前記一対のガードフレームグランド配線および前記メインフレームグランド配線の少なくとも一方と、前記シグナルグランド配線または前記電源配線に接続する電子デバイスをさらに備えた、請求項に記載のプリント基板。
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