JP5850412B2 - 半導体装置の製造システム及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造システム及び半導体装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5850412B2 JP5850412B2 JP2012220620A JP2012220620A JP5850412B2 JP 5850412 B2 JP5850412 B2 JP 5850412B2 JP 2012220620 A JP2012220620 A JP 2012220620A JP 2012220620 A JP2012220620 A JP 2012220620A JP 5850412 B2 JP5850412 B2 JP 5850412B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- carrier
- wafers
- bonding
- target
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 60
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 34
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 301
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 52
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 41
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 21
- 239000000969 carrier Substances 0.000 claims description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 description 126
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 16
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 13
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101000873785 Homo sapiens mRNA-decapping enzyme 1A Proteins 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 102100035856 mRNA-decapping enzyme 1A Human genes 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/30—Computing systems specially adapted for manufacturing
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Management, Administration, Business Operations System, And Electronic Commerce (AREA)
Description
このように、1又は複数種類のウェハを収容するキャリアの搬送及び、ウェハの選択・搬送を、予め記憶されている組み合わせ情報に基づき自動で行うことができるので、作業者の作業負担を減らすことができると共に、人為的ミスを抑えることができ、生産効率を向上させることができる。特に、ウェハの種類やウェハの貼り合わせの組み合わせが多い場合であっても、生産効率を低下させることなく、所望のウェハの貼り合わせを行うことができる。
以下、本発明の第1実施形態について、詳細に説明する。なお、本第1実施形態では、半導体装置の製造工程の中で、主に、ウェハの貼り合わせ工程について説明する。
本発明の第1実施形態に係る半導体装置の製造システム1は、当該システムを制御するホストコンピュータ10と、所定の保管場所からキャリアを搬送するキャリア搬送装置20と、キャリアからウェハを選び出して貼り合わせ装置60内へ搬送するウェハ搬送装置40と、複数のウェハを貼り合わせるための貼り合わせ装置60とを備えている。そして、貼り合わせ装置60と、キャリア搬送装置20及びウェハ搬送装置40は、ホストコンピュータ10とLAN等のネットワークを介してそれぞれ接続されている。
まず、キャリア搬送工程について説明する。
このキャリア搬送工程では、所定の保管場所に保管されている1又は複数種類のウェハを収容した複数のキャリアの中から、少なくとも対象ウェハを収容した必要キャリアを選び出して、ポート50へ搬送する。
材料ウェハWzには、貼り合わせ処理の品質を維持するために、使用期限が設けられている。具体的には、例えば、ウェハ貼り合わせ前に、何らかの処理(例えば、ウェハ表面に酸化膜を形成する処理など)を行った場合、その処理の終了から貼り合わせ処理開始までの期限時間(以下「消費期限」ともいう)と、貼り合わせ装置60に搬入されてから材料ウェハWzが使用されるまでの期限時間(以下「開封期限」ともいう)が設けられている。消費期限は、ウェハ表面の酸化などの処理が終了した時点から、制御部12にてカウントダウンが開始されるようになっている。また、開封期限は、貼り合わせ処理において、材料ウェハWzを搭載した材料キャリアCzが、材料ポート50c、50dに搬入されたタイミングで、制御部12にて、カウントダウンが開始されるようになっている。なお、開封期限に関して、材料ウェハWzを搭載した材料キャリアCzが材料ポート50c、50dから一旦搬出される場合でも、カウントダウンは継続されるようになっている。
次に、材料ウェハWzの使用順序について説明する。
例えば、製品ウェハWsと貼り合わせ対象となる材料ウェハWzが必ずしも同じ枚数、ポート50に仕掛けることができるとは限らない。そして、貼り合わせを順次行っていくと、端数の材料ウェハWzを搭載した材料キャリアCzが存在する場合がある。また、材料ウェハWzには、使用期限(消費期限及び開封期限)が設けられており、この使用期限内に材料ウェハWzの貼り合わせを行う必要があり、本実施形態では、例えば、以下の優先順位で、製品ウェハWsと貼り合わせを行う材料ロット(材料ウェハWzの集合単位)を決定して、材料ウェハWzを順次、貼り合わせ装置60内へ搬送するようにしている。
(1)既にポートに仕掛け済みの材料ウェハWz。
(2)使用可能なウェハ枚数の少ないキャリアに搭載された材料ウェハWz。
(3)消費期限、開封期限の残り時間が短い材料ウェハWz。
(4)製造ロット番号の若い材料ウェハWz(製造時期がより前のロット番号の材料ウェハWz)。
この貼り合わせ工程では、ホストコンピュータ10の制御部12は、記憶部14に記憶される処理レシピに基づき、製品キャリアCsaに搭載されている1枚目の製品ウェハWsa1と材料キャリアCza1に搭載されている1枚目の材料ウェハWza1、製品キャリアCsaに搭載されている2枚目の製品ウェハWsa2と材料キャリアCza1に搭載されている2枚目の材料ウェハWza2、製品キャリアCsaに搭載されている3枚目の製品ウェハWsa3と材料キャリアCza2に搭載されている1枚目の材料ウェハWza1、製品キャリアCsaに搭載されている4枚目の製品ウェハWsa4と材料キャリアCza1に搭載されている2枚目の材料ウェハWza2、製品キャリアCsaに搭載されている5枚目の製品ウェハWsa5と材料キャリアCza1に搭載されている3枚目の材料ウェハWza3の貼り合わせの指示を、貼り合わせ装置60に対して行う。そして、製品ウェハWsaと材料ウェハWzaとがこの指示に基づいて順次貼り合わされることになる。なお、この貼り合わせ工程は、例えば、図7(A)に示すように、一連の半導体装置の製造工程の中で、図7(B)に示すように「貼合せ作業10」と「貼合せ作業20」にて、異なる処理レシピ(「STICK−A」、「STICK−B」)を設定する事で、1品名(1種類の製品ウェハWsa)で複数種類の材料ウェハWzaを貼り合わせることが可能となる。
本実施形態では、ウェハを貼り合わせた後、この貼り合わせ結果が正常か否かをロット毎に判定する。図9に示すように、まず、ステップS10で、各ウェハに対して行った処理の履歴を参照し、処理データが正常か否かを判定する。例えば、この処理では、貼り合わせ条件(貼り合わせ温度など)が所定の管理値の範囲内であるか否かを判定する(ステップS10)。このとき、所定の管理値の範囲外であると判定されると(S10でNo)、ステップS13にて、ロットの流動(搬出)を停止すると共に、アラームを発砲して作業者等に報知する。なお、貼り合わせ未実施のウェハがあった場合も、S10でNoと判定される。
通常、半導体装置の母体となる製品ウェハWsには、生産計画(いつまでに何枚製造するかなどの計画)を基に各処理が行われるが、台座となる材料ウェハWzには、製品ウェハWsと貼り合わされることで消滅するため、材料ウェハWzの生産計画を立てることができず、材料ウェハの発注を自動で行うことは難しい。そこで本実施形態では、製品品名の貼合せ工程の生産計画(払出指示と払出進度)を基に材料品名の生産計画(投入指示と投入進度)を作成し、材料ウェハの原石発注を自動で行うようにする。
本実施形態では、所定の保管場所に保管されている材料ウェハの枚数を、固有の識別番号及び製造ロット番号を基に制御部12によって監視し、設定した在庫枚数未満(例えば、50枚未満)に達した場合には、アラームを発砲し、作業者等へ報知し、在庫の確保を促すようにしている。なお、アラームは、「報知手段」の一例に相当する。
このように、1又は複数種類のウェハを収容するキャリアの搬送及び、ウェハの選択・搬送を、予め記憶されている組み合わせ情報に基づき自動で行うことができるので、作業者の作業負担を減らすことができると共に、人為的ミスを抑えることができ、生産効率を向上させることができる。特に、ウェハの種類やウェハの貼り合わせの組み合わせが多い場合であっても、生産効率を低下させることなく、所望のウェハの貼り合わせを行うことができる。
このように、本製造方法によれば、1又は複数種類のウェハを収容するキャリアの搬送及び、ウェハの選択・搬送を、予め記憶されている組み合わせ情報に基づき自動で行うことができるので、作業者の作業負担を減らすことができると共に、人為的ミスを抑えることができ、生産効率を向上させることができる。特に、ウェハの種類やウェハの貼り合わせの組み合わせが多い場合であっても、生産効率を低下させることなく、所望のウェハの貼り合わせを行うことができる。
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
10…ホストコンピュータ
12…制御部(判断手段)
14…記憶部(記憶手段)
20…キャリア搬送装置(キャリア搬送手段)
40…ウェハ搬送装置(ウェハ搬送手段)
50…ポート(所定の設置場所)
50a、50b…製品ポート(所定の設置場所)
50c、50d…材料ポート(所定の設置場所)
60…貼り合わせ装置
61a、61b…プラズマチャンバ
62…アライメントユニット
63…接合機
64…赤外線ユニット
65…冷却機
Ws、Wsa、Wsb、Wsc…製品ウェハ
Wz、Wza、Wzb、Wzc…材料ウェハ
Cs、Csa…製品キャリア
Cz、Cza、Czb、Czc、Cza1、Cza2、Cza3…材料キャリア
Claims (8)
- 複数のウェハを貼り合わせるための貼り合わせ装置(60)と、
前記貼り合わせ装置(60)とネットワークを介して接続されるとともに、当該貼り合わせ装置(60)を制御するホストコンピュータ(10)と、
複数のウェハの貼り合わせを行うための組み合わせ情報を記憶する記憶手段(14)と、
1又は複数種類のウェハを収容し、所定の保管場所に保管可能な複数のキャリアと、
前記キャリアを前記所定の保管場所から前記貼り合わせ装置(60)側の所定の設置場所へ搬送するキャリア搬送手段(20)と、
前記所定の設置場所へ搬送された前記キャリアから貼り合わせ対象となる対象ウェハを選び出し前記貼り合わせ装置(60)内に搬送するウェハ搬送手段(40)と、を備え、
前記ホストコンピュータ(10)は、前記記憶手段(14)に記憶される前記組み合わせ情報に基づき、前記キャリア搬送手段(20)へ前記キャリアの搬送指示を出すと共に、前記ウェハ搬送手段(40)へ前記ウェハの搬送指示を出し、
前記キャリア搬送手段(20)は、前記ホストコンピュータ(10)からの搬送指示に基づき、前記所定の保管場所に保管されている複数のキャリアの中から少なくとも前記対象ウェハを収容した必要キャリアを選び出して前記貼り合わせ装置(60)側の前記所定の設置場所へ搬送可能に構成され、
前記ウェハ搬送手段(40)は、前記ホストコンピュータ(10)からの搬送指示に基づき、前記所定の設置場所へ搬送された前記キャリアに収容される複数のウェハの中から前記対象ウェハを選び出して前記貼り合わせ装置(60)内へ搬送することを特徴とする半導体装置の製造システム(1)。 - 前記ウェハ搬送手段(40)は、前記所定の設置場所に貼り合わせ対象となる前記対象ウェハを収容した前記キャリアが複数設置されている場合に、前記対象ウェハの残り枚数の少ない前記キャリアに収容された前記対象ウェハから順次搬送することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造システム(1)。
- 前記ウェハ搬送手段(40)は、前記所定の設置場所に貼り合わせ対象となる前記対象ウェハを収容した前記キャリアが複数設置されている場合に、使用期限が近い前記対象ウェハから順次搬送することを特徴とする請求項2に記載の半導体装置の製造システム(1)。
- 前記ウェハには、製造ロット番号が付与されており、
前記ウェハ搬送手段(40)は、前記所定の設置場所に貼り合わせ対象となる前記対象ウェハを収容した前記キャリアが複数設置されている場合に、前記製造ロット番号の若い前記対象ウェハから順次搬送することを特徴とする請求項2に記載の半導体装置の製造システム(1)。 - 前記ウェハには、それぞれ固有の識別番号が付与されており、
前記記憶手段(14)は、前記ウェハの前記識別番号と対応づけて前記ウェハの各処理の履歴を記憶することを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の半導体装置の製造システム(1)。 - 前記所定の保管場所に保管されるいずれかの種類のウェハが、所定枚数未満に達した場合に報知を行う報知手段を備えることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の半導体装置の製造システム(1)。
- 前記記憶手段(14)には、前記ウェハの使用期限が記憶されており、
前記キャリアに収容された前記ウェハの前記使用期限が有効か否かを判断する判断手段(12)を備え、
前記ウェハ搬送手段(40)は、前記ホストコンピュータ(10)の搬送指示に応じて前記対象ウェハを選ぶ場合に、前記対象ウェハが前記判断手段(12)にて前記使用期限が有効と判断されることを条件として前記対象ウェハを前記キャリアから前記貼り合わせ装置(60)内へ搬送することを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の半導体装置の製造システム(1)。 - 複数のウェハを貼り合わせるための貼り合わせ装置(60)とネットワークを介して接続されるホストコンピュータ(10)により、前記貼り合わせ装置(60)を制御する制御手段と、
複数のウェハの貼り合わせを行うための組み合わせ情報を記憶する記憶手段(14)と、を用い、
前記ホストコンピュータ(10)からの搬送指示に基づき、所定の保管場所に保管されている1又は複数種類のウェハを収容した複数のキャリアの中から、少なくとも対象ウェハを収容した必要キャリアを選び出して前記貼り合わせ装置(60)側の所定の設置場所へ搬送する工程と、
前記ホストコンピュータ(10)からの搬送指示に基づき、前記所定の設置場所へ搬送された前記必要キャリアに収容される複数のウェハの中から前記対象ウェハを選び出して前記貼り合わせ装置(60)内へ搬送する工程と、
前記貼り合わせ装置(60)内へ搬送された前記対象ウェハを貼り合わせる工程と、を有していることを特徴とする半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012220620A JP5850412B2 (ja) | 2012-10-02 | 2012-10-02 | 半導体装置の製造システム及び半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012220620A JP5850412B2 (ja) | 2012-10-02 | 2012-10-02 | 半導体装置の製造システム及び半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014075389A JP2014075389A (ja) | 2014-04-24 |
JP5850412B2 true JP5850412B2 (ja) | 2016-02-03 |
Family
ID=50749361
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012220620A Active JP5850412B2 (ja) | 2012-10-02 | 2012-10-02 | 半導体装置の製造システム及び半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5850412B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020170821A (ja) * | 2019-04-05 | 2020-10-15 | 株式会社デンソー | 製造システム |
JP7334064B2 (ja) * | 2019-05-27 | 2023-08-28 | 株式会社ディスコ | 紫外線照射装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11288990A (ja) * | 1998-04-01 | 1999-10-19 | Hitachi Ltd | プロセス処理方法およびその装置並びに半導体製造ラインおよびそれにおける被処理基板の搬送方法 |
JP5505118B2 (ja) * | 2010-06-16 | 2014-05-28 | 株式会社ニコン | 半導体デバイスを製造する方法 |
JP5617418B2 (ja) * | 2010-08-05 | 2014-11-05 | 株式会社ニコン | 半導体基板の積層方法、半導体基板の積層装置およびデバイスの製造方法 |
-
2012
- 2012-10-02 JP JP2012220620A patent/JP5850412B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014075389A (ja) | 2014-04-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8204617B2 (en) | Methods and apparatus for enhanced operation of substrate carrier handlers | |
US6351686B1 (en) | Semiconductor device manufacturing apparatus and control method thereof | |
US7778721B2 (en) | Small lot size lithography bays | |
JP5065167B2 (ja) | 基板の処理方法及び基板の処理システム | |
US8160736B2 (en) | Methods and apparatus for white space reduction in a production facility | |
TWI334192B (en) | Wafer foundry and carrier transportation management system and method thereof | |
US20070244594A1 (en) | Automated manufacturing systems and methods | |
US9606532B2 (en) | Method and manufacturing system | |
JP5850412B2 (ja) | 半導体装置の製造システム及び半導体装置の製造方法 | |
KR101079487B1 (ko) | 기판 캐리어 핸들러의 향상된 동작을 위한 방법 및 장치 | |
JP5183861B2 (ja) | 小ロットサイズ基板キャリアを使用する方法および半導体デバイス製造施設 | |
US8275478B2 (en) | Method and apparatus for routing wafer pods to allow parallel processing | |
TW201519352A (zh) | 基板處理裝置、基板處理方法及記憶媒體 | |
WO2018159085A1 (ja) | 基板処理システム、基板処理装置、および基板処理方法 | |
TWI448861B (zh) | Shorten the handling time of handling time | |
JP2009076495A (ja) | 真空処理装置 | |
JP2001102427A (ja) | プロセス処理方法およびその装置並びに半導体製造ラインおよび半導体製造ラインにおける被処理基板の搬送方法 | |
Sonar et al. | Automation: Key to cycle time improvement in semiconductor manufacturing | |
JP4613604B2 (ja) | 自動搬送システム | |
JP6003859B2 (ja) | 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 | |
JP2012104683A (ja) | 半導体装置の製造ライン、及び、半導体装置の製造方法 | |
JP2010128907A (ja) | 搬送管理システムおよび搬送管理方法 | |
JP2002229619A (ja) | 生産ライン管理システムおよび生産ライン管理方法 | |
TWI284793B (en) | Methods for improvement of material handling efficiency and manufacturing systems using the same | |
JP2009093281A (ja) | 搬送制御方法及び搬送制御システム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20141204 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150917 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150924 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151005 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20151109 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5850412 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20151122 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |