JP2012104683A - 半導体装置の製造ライン、及び、半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】搬送手段によりウエハを搬送する製造ラインであって、制御がより簡単な製造ラインを提供する。
【解決手段】循環する経路に沿ってウエハを搬送する搬送手段と、複数の加工装置と、各ウエハの周回数をカウントする周回数カウント手段と、加工を行う周回数を記憶している記憶手段と、制御手段を備えている。前記経路上には、加工装置毎に判定領域が設けられている。制御装置は、各加工装置と搬送手段を、(1)判定領域内に位置するウエハの周回数がその判定領域に対応する加工装置で加工を行う周回数と一致しているときに、その加工装置によって加工を行ってからそのウエハを下流側に送り出し、(2)判定領域内に位置するウエハの周回数がその判定領域に対応する加工装置で加工を行う周回数と一致していないときに、その加工装置によって加工を行わないでそのウエハを下流側に送り出すように制御する。
【選択図】図1
【解決手段】循環する経路に沿ってウエハを搬送する搬送手段と、複数の加工装置と、各ウエハの周回数をカウントする周回数カウント手段と、加工を行う周回数を記憶している記憶手段と、制御手段を備えている。前記経路上には、加工装置毎に判定領域が設けられている。制御装置は、各加工装置と搬送手段を、(1)判定領域内に位置するウエハの周回数がその判定領域に対応する加工装置で加工を行う周回数と一致しているときに、その加工装置によって加工を行ってからそのウエハを下流側に送り出し、(2)判定領域内に位置するウエハの周回数がその判定領域に対応する加工装置で加工を行う周回数と一致していないときに、その加工装置によって加工を行わないでそのウエハを下流側に送り出すように制御する。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体装置の製造ラインに関する。
半導体装置の製造時には、ウエハに対して多くの加工が施される。ウエハに対して行われる基本的な加工は、洗浄、成膜、エッチング、イオン注入等である。これらの加工が繰り返し行われることによって、ウエハ内に半導体装置の構造が作り込まれる。従来の一般的な半導体装置の製造ラインでは、ジョブショップ方式と呼ばれる方式が採用されている。ジョブショップ方式では、加工の種類毎にまとめて加工装置が配置される。例えば、複数の洗浄装置が所定の範囲内にまとめて配置され、複数の成膜装置が別の範囲にまとめて配置される。ジョブショップ方式では、作業者がウエハを搬送する場合と、コンベア等の搬送手段によってウエハを搬送する場合がある。
また、特許文献1には、複数の種類の加工装置によって1つのモジュールを構成し、モジュール単位で加工装置を配置した半導体装置の製造ラインが開示されている。この製造ラインでは、搬送手段によりウエハが搬送される。
ジョブショップ方式では、ウエハの搬送ルートを考慮することなく各加工装置が配置されている。したがって、半導体装置が完成するまでにウエハが搬送される動線が極めて複雑になる。このように動線が複雑となるので、ジョブショップ方式において搬送手段によりウエハを搬送する場合には、その搬送経路に多数の分岐点を設け、ウエハが指定された加工装置まで搬送されるように分岐点を制御する必要がある。このため、分岐点の制御が複雑化するという問題があった。例えば、あるウエハを搬送する場合には、そのウエハに対してどの段階まで加工が完了しているかを特定し、搬送先(次工程の加工装置)を特定し、その搬送先までの経路を特定し、その経路に沿ってウエハが移動するように各分岐点を制御しなければならない。また、1つの製造ラインには多数のウエハが流れるので、各ウエハの搬送経路同士が干渉しないように制御する必要がある。このように、ジョブショップ方式で搬送手段を使用する場合には、制御が極めて複雑となる。
また、特許文献1の製造ラインでは、モジュール毎に加工装置が配置されているので、モジュール内におけるウエハの搬送経路は単純化されている。しかしながら、モジュール間では、多数の分岐点を有する搬送手段によりウエハを搬送している。したがって、この技術でも、制御が複雑となる。
したがって、本明細書では、搬送手段によりウエハを搬送する製造ラインであって、制御がより簡単な製造ラインを提供する。
本明細書が開示する半導体装置の製造ラインは、循環する経路に沿って一定の方向にウエハを搬送する搬送手段と、複数の加工装置と、前記経路における各ウエハの周回数をカウントする周回数カウント手段と、加工装置毎に加工を行う周回数を記憶している記憶手段と、制御手段を備えている。前記経路上には、加工装置毎に判定領域が設けられている。制御装置は、判定領域毎に、(1)判定領域内に位置するウエハの周回数がその判定領域に対応する加工装置で加工を行う周回数と一致しているときに、その加工装置によって加工を行ってからそのウエハを下流側に送り出し、(2)判定領域内に位置するウエハの周回数がその判定領域に対応する加工装置で加工を行う周回数と一致していないときに、その加工装置によって加工を行わないでそのウエハを下流側に送り出すように各加工装置と搬送装置を制御する。
なお、上記の「加工装置によって加工を行ってからそのウエハを下流側に送り出す」には、前記経路上でウエハに対して加工を行い、そのまま搬送手段によってウエハを下流側に送り出す態様と、前記経路上から加工装置内にウエハを取り込み、加工装置内でウエハに対して加工を行い、加工後のウエハを前記経路上に戻して、搬送手段によってウエハを下流側に送り出す態様とが含まれる。
この製造ラインでは、ウエハが、循環する経路に沿って一定の方向に搬送される。搬送手段の経路上には、加工装置毎に判定領域が設けられている。制御装置は、判定領域内にウエハが進入したときに、その判定領域に対応する加工装置によってそのウエハに加工をするか否かを判定する。すなわち、そのウエハの周回数(周回数カウント手段によりカウントされる周回数)が、その加工装置で加工を行う周回数(予め決められており、記憶手段に記憶されている周回数)と一致しているか否かを判断する。これらが一致するときは、制御装置は、その加工装置によってそのウエハに加工を行う。この場合には、そのウエハは加工装置によって加工された後に、前記経路の下流側に送り出される。ウエハの周回数と加工装置で加工を行う周回数が一致しない場合には、その加工装置によって加工されることなくそのウエハが前記経路の下流側に送り出される。したがって、前記経路を循環するウエハの周回数に応じて、各加工装置でそのウエハに加工が行われる。例えば、第1〜第5の加工装置がある場合において、ウエハは周回数に関らず第1〜第5の加工装置に順番に搬送されるが、1周目のウエハには第1、第3、第5の加工装置により加工が行われ、2周目のウエハには第2、第4、第5の加工装置により加工が行われるといった具合に、周回数に応じてウエハに対する加工を異ならせることができる。したがって、前記経路を複数回循環している間に、ウエハに必要な加工が施すことができる。この製造ラインでは、各ウエハの周回数を管理し、その周回数に応じて各加工装置で加工を行うか否かを選択するだけで、半導体装置を製造することができる。複数のウエハを取り扱う場合でも、各ウエハの周回数に応じて各加工装置で加工を行うか否かを選択するだけで、半導体装置を製造することができる。従来の技術のように、各ウエハの加工の段階(どの工程まで加工が進んでいるか)に基づいて搬送先を特定し、その搬送先までのウエハの搬送経路を算出する必要がない。このように、この製造ラインでは、複雑な制御を行うことなく、半導体装置を製造することができる。
上述した製造ラインにおいては、搬送手段は、前記経路に沿って移動する複数のパレットを有していることが好ましい。各パレット上には、ウエハを載置することができる。また、少なくとも1つの加工装置が、加工後ウエハ載置部とウエハ受渡手段を備えていることが好ましい。加工後ウエハ載置部上には、前記少なくとも1つの加工装置による加工後のウエハが載置されることが好ましい。ウエハ受渡手段は、前記少なくとも1つの加工装置に対応する判定領域内に位置するウエハの周回数が前記少なくとも1つの加工装置で加工を行う周回数と一致しているときに、そのウエハをパレット上から前記少なくとも1つの加工装置内に搬送するとともに、加工後ウエハ載置部上のウエハをそのパレット上に搬送することが好ましい。
このような構成によれば、パレット上から加工装置内にウエハが搬送されることによってパレットが空いたときに、直ぐに加工後ウエハ載置部上からパレット上に加工後のウエハが搬送される。したがって、加工装置での加工の完了を待つことなくパレットを下流側に送り出すことができ、前記経路上でパレットが停滞したり、空のパレットが経路上を流れることが防止される。
上述した製造ラインにおいては、記憶手段が、前記少なくとも1つの加工装置で加工を行う周回数を複数個記憶していることが好ましい。また、加工後ウエハ載置部が、周回数が異なる複数のウエハを載置可能に構成されていることが好ましい。また、ウエハ受渡手段が、パレット上から前記少なくとも1つの加工装置にウエハを搬送したときに、前記少なくとも1つの加工装置内に搬送したウエハと同じ周回数のウエハを加工後ウエハ載置部上から当該パレット上に搬送することが好ましい。
このような構成によれば、加工装置内にウエハを搬送することで空いたパレット上に、加工装置内に搬送されたウエハと同じ周回数のウエハが搬送される。パレット上のウエハの周回数が変化しないので、各ウエハの進捗管理が容易となる。
上述した製造ラインは、前記少なくとも1つの加工装置が、加工前ウエハ載置部と加工用ウエハ載置部を備えていることが好ましい。判定領域内に位置するウエハは、ウエハ受渡手段によってパレット上から加工前ウエハ載置部上に搬送され、次に、ウエハ受渡手段によって加工前ウエハ載置部上から加工用ウエハ載置部上に搬送され、次に、加工用ウエハ載置部上で加工装置によって加工され、次に、ウエハ受渡手段によって加工用ウエハ載置部上から加工後ウエハ載置部上に搬送されることが好ましい。
また、上述した製造ラインは、以下のように構成されていてもよい。すなわち、搬送手段は、前記経路に沿って移動する複数のパレットを有していてもよい。各パレット上に、ウエハを載置可能である。少なくとも1つの加工装置が、加工前ウエハ載置部とウエハ受渡手段を備えていてもよい。ウエハ受渡手段は、前記少なくとも1つの加工装置に対応する判定領域内に位置するウエハの周回数が前記少なくとも1つの加工装置で加工を行う周回数と一致しているときに、そのウエハをパレット上から加工前ウエハ載置部上に搬送するとともに、前記少なくとも1つの加工装置による加工後のウエハをそのパレット上に搬送してもよい。
このような構成によっても、パレット上から加工前載置部上にウエハが搬送されることによってパレットが空いたときに、直ぐに加工後のウエハをパレット上に搬送することができる。
また、上述した何れかの製造ラインは、全ての加工が完了した半導体ウエハが完成した場合に、その完成した半導体ウエハと同じ数の半導体ウエハが前記経路に新たに投入されるように構成されていることが好ましい。
このような構成によれば、製造ライン中に存在する半導体ウエハ(すなわち、仕掛品数)が変動しなくなるため、仕掛品数の管理が極めて容易となる。
また、本明細書は、半導体装置の製造方法を提供する。この製造方法は、循環する経路に沿ってウエハを搬送する搬送手段と、複数の加工装置とを備えており、前記経路上に、加工装置毎に判定領域が設けられている製造ラインによって半導体装置を製造する方法である。この方法では、加工装置毎に、加工を行う周回数を予め決めておく。また、前記経路における各ウエハの周回数をカウントする。そして、各加工装置と搬送手段を、(1)判定領域内に位置するウエハの周回数がその判定領域に対応する加工装置で加工を行う周回数と一致しているときに、その加工装置によって加工を行ってからそのウエハを下流側に送り出し、(2)判定領域内に位置するウエハの周回数がその判定領域に対応する加工装置で加工を行う周回数と一致していないときに、その加工装置によって加工を行わないでそのウエハを下流側に送り出すように制御する。
この製造方法によれば、複雑な管理をすることなく、半導体装置を製造することができる。
図1は、実施形態の製造ライン10を模式的に示している。図1に示すように、製造ライン10は、搬送装置12と、複数の加工装置70〜96と、読取装置70a〜96aと、制御装置60と、記憶装置62と、書換装置64を備えている。
搬送装置12は、多数のパレット14を備えている。また、搬送装置12は、投入レール16と、循環レール18と、搬出レール20を備えている。投入レール16と搬出レール20は、循環レール18に接続されている。搬送装置12は、これらのレールに沿ってパレット14を移動させる。具体的には、搬送装置12は、矢印100に示すように投入レール16から循環レール18にパレット14を移動させ、次に、矢印102、104に示すようにパレット14を循環レール18において所定の周回数(本実施形態では13周)だけ循環させ、その後、矢印106に示すようにパレット14を循環レール18から搬出レール20に移動させる。パレット14上には、1枚の半導体ウエハを載置することができる。各パレット14によって、半導体ウエハを1枚ずつ搬送することができる。
各パレット14には、RFIDタグが内蔵されている。各RFIDタグは、自己が埋め込まれているパレット14の周回数を記憶する。RFIDタグは、読取装置70a〜96a及び書換装置64と通信する。
加工装置70〜96は、循環レール18に沿って配置されている。加工装置70〜96は、循環レール18上を移動する半導体ウエハに対して加工を行うことができる。加工装置70〜96が行う加工は、加工装置によって異なる。各加工装置は、例えば、洗浄、成膜、エッチング、イオン注入等の加工を行う。後に詳述するが、この製造ライン10では、半導体ウエハを循環レール18に沿って循環させ、半導体ウエハの周回数に応じた加工を各加工装置70〜96によって行う。周回数毎に半導体ウエハに対して行われる加工は異なる。図2は、本実施形態の製造ライン10において、1つの半導体ウエハに対して行う加工工程の一覧を示している。図2に示すように、1周目においては、半導体ウエハに対して、加工装置70、72、74、82、84、92、94及び96で加工を行う。2周目においては、半導体ウエハに対して、加工装置70、72、76、78、82、84、88及び96で加工を行う。同様に、3周目以降においても、周回数に応じて使用される加工装置が定められている。図2の表は、半導体ウエハが循環レール18上を1周する毎に、1つのレイヤーが形成されるように定められている。半導体ウエハが循環レール18を複数回循環することで、半導体ウエハに多数のレイヤーが形成される。これによって、半導体ウエハ中に半導体装置の構造が形成される。
書換装置64は、循環レール18のうち、矢印104に示すように加工装置96側から加工装置70側にパレット14を搬送する部分18aの隣に設置されている。循環レール18の部分18aは、最後の加工装置96を通過したパレット14を次の周に送り出す部分である。書換装置64は、循環レール18の部分18aに沿って移動しているパレット14のRFIDタグと通信し、RFIDタグが記憶している周回数を書き換える。具体的には、RFIDタグが記憶している周回数に「1」を加算する。例えば、RFIDタグに記憶されている周回数が「1」である場合には、その周回数を「2」に書き換える。このように、パレット14が循環レール18を一周する毎に、そのパレット14のRFIDタグが記憶している周回数に「1」が加算される。投入レール16から循環レール18に投入されるパレット14のRFIDタグは、周回数として「1」を記憶している。したがって、上記のようにパレット14が循環レール18を一周する毎にRFIDタグが記憶している周回数に1が加算されることで、RFIDタグが記憶している周回数が現実の半導体ウエハの周回数と一致する。
記憶装置62は、加工装置70〜96によって半導体ウエハに加工を行う周回数を記憶している。例えば、図2に示すように、加工装置70は、1周目と2周目において、半導体ウエハに対して加工を行う。したがって、記憶装置62は、加工装置70で加工を行う周回数として1周目と2周目を記憶している。同様に、記憶装置62は、加工装置72で加工を行う周回数として1周目と2周目を記憶している。また、記憶装置62は、加工装置74で加工を行う周回数として1周目と3周目を記憶している。このように、記憶装置62は、加工装置毎に、加工を行う周回数を記憶している。
読取装置70a〜96aは、対応する加工装置70〜96の前方の循環レール18の隣に設置されている。読取装置70a〜96aは、各パレット14のRFIDタグと通信することによって、RFIDタグが記憶している周回数を読み出す。読取装置70a〜96aは、対応する加工装置70〜96の前方に位置しているパレット14のRFIDタグと通信する。例えば、加工装置70に対応する読取装置70aは、加工装置70の前方の範囲70b内にパレット14が存在している時に、そのパレット14のRFIDタグと通信する。読取装置70a〜96aにより読み取られた周回数は、制御装置60に入力される。後に詳述するが、制御装置60は、読取装置70a〜96aから入力される周回数に応じて、対応する加工装置70〜96を制御する。
加工装置70〜96は、パレット14上の半導体ウエハを自己の内部に搬送し、その半導体ウエハに対して加工を行う。加工装置70〜96の内部に半導体ウエハを搬送する機構について説明する。なお、各加工装置の搬送機構の構成は略同様であるので、以下では、加工装置70の搬送機構を例として説明する。図3は、加工装置70の内部に半導体ウエハを搬送する機構を示している。なお、図3では、読取装置70aの図示を省略している。図3に示すように、加工装置70は、半導体ウエハを搬送するロボットアーム70cを備えている。また、加工装置70の内部には、加工前載置部70d、加工用載置部70e、加工後載置部70fが形成されている。加工装置70は、加工用載置部70eに載置された半導体ウエハに対して加工を行う。加工前載置部70dには、加工前の半導体ウエハが載置される。加工後載置部70fには、加工後の半導体ウエハが載置される。加工前載置部70dと加工後載置部70fは、周回数毎に区別して半導体ウエハを載置可能に構成されている。より詳細に説明すると、図2に示すように、加工装置70は、1周目の半導体ウエハと2周目の半導体ウエハに対して加工を行う。すなわち、加工装置70には、1周目の半導体ウエハと2周目の半導体ウエハが搬入される。加工前載置部70dは、1周目の半導体ウエハを載置するための部分70d−1と、2周目の半導体ウエハを載置するための部分70d−2を備えている。また、加工後載置部70fは、1周目の半導体ウエハを載置するための部分70f−1と、2周目の半導体ウエハを載置するための部分70f−2を備えている。
ロボットアーム70cは、パレット14、加工前載置部70d、加工用載置部70e、及び、加工後載置部70fの間で半導体ウエハを移動させる。後に詳述するが、ロボットアーム70cは、加工装置70の前方の範囲70b内に存在しているパレット14上の半導体ウエハの周回数が加工装置70で加工を行う周回数と一致している場合に、パレット14上の半導体ウエハを加工装置70内に搬送する。加工用載置部70eが空いている場合には、矢印112に示すように、ロボットアーム70cは、パレット14上から加工用載置部70e上に半導体ウエハを搬送する。加工用載置部70eが空いていない場合には、矢印110に示すように、ロボットアーム70cは、パレット14上から加工前載置部70d上に半導体ウエハを搬送する。このとき、ロボットアーム70cは、半導体ウエハの周回数に応じて、部分70d−1と部分70d−2の何れかに半導体ウエハを載置する。パレット14上の半導体ウエハを加工装置70内に搬送すると、ロボットアーム70cは、加工後載置部70f上から空いたパレット14上に半導体ウエハを搬送する(但し、加工後載置部70f上に半導体ウエハが無い場合を除く)。また、上述したように、加工装置70は、加工用載置部70e上の半導体ウエハに対して加工を行う。加工用載置部70e上の半導体ウエハに対する加工が終了すると、ロボットアーム70cは、加工後の半導体ウエハを加工用載置部70e上から加工後載置部70f上に搬送する。このとき、ロボットアーム70cは、半導体ウエハの周回数に応じて、部分70f−1と部分70f−2の何れかに半導体ウエハを載置する。加工後の半導体ウエハを加工用載置部70e上から加工後載置部70f上に搬送すると、ロボットアーム70cは、加工前載置部70d上の半導体ウエハを加工用載置部70e上に搬送する。
以上に加工装置70の搬送機構を例として説明したが、加工装置72〜96も加工装置70と同様に、ロボットアーム、加工前載置部、加工用載置部、加工後載置部を備えている。これらの加工装置72〜96の加工前載置部と加工後載置部も、周回数毎に区別して半導体ウエハを載置可能に構成されている。加工装置72〜96のロボットアームは、加工装置70のロボットアームと同様にして半導体ウエハを搬送する。
次に、制御装置60が製造ライン10を制御する方法について説明する。上述したように、各パレット14は、半導体ウエハを載せた状態で循環レール18上を循環する。1つの加工装置の前方の範囲に1つのパレット14が進入すると、そのパレット14は停止する。そして、その加工装置に対応する読取装置によって、パレット14のRFIDタグから周回数が読み取られる。読み取られた周回数は、制御装置60に入力される。周回数の入力を受けると、制御装置60は、図4のフローチャートを実行する。なお、以下の説明では、周回数を読み取られたパレット14を対象のパレット14といい、周回数を読み取った読取装置を対象の読取装置といい、対象の読取装置に対応する加工装置を対象の加工装置という。
ステップS2では、制御装置60は、対象の加工装置で加工を行う周回数を、記憶装置62から読み出す。
ステップS4では、制御装置60は、対象の読取装置によって読み取られた周回数(すなわち、対象のパレット14上の半導体ウエハの現実の周回数)が、記憶装置62から読み出した周回数(すなわち、対象の加工装置で加工を行う周回数)の何れかと一致するか否かを判定する。
ステップS4でNOと判定した場合には、制御装置60は、図4の処理を終了する。この場合には、対象のパレット14は、そのまま循環レール18を下流側へ移動する。すなわち、対象のパレット14はそのまま対象の加工装置の前方を通過し、対象の加工装置ではその半導体ウエハに対して加工は行われない。
ステップS4でYESと判定した場合には、ステップS8で、制御装置60は、対象の加工装置のロボットアームによって、対象のパレット14上の半導体ウエハを対象の加工装置内に搬送する。上述したように、加工用載置部が空いている場合(例えば、製造ライン10の稼動開始直後等)には、制御装置60は、対象のパレット14上の半導体ウエハを加工用載置部上に搬送する。加工用載置部が空いていない場合には、制御装置60は、対象のパレット14上の半導体ウエハを加工前載置部上に搬送する。なお、上述したように、加工前載置部は、周回数毎に区別して半導体ウエハを載置可能に構成されている。制御装置60は、対象の読取装置で読み取られた半導体ウエハの周回数に対応する位置に、半導体ウエハを載置する。
ステップS8で対象のパレット14上から対象の加工装置内に半導体ウエハを搬送すると、対象のパレット14が空となる。ステップS10では、制御装置60は、ロボットアームによって、加工後載置部上の半導体ウエハを対象のパレット14(空のパレット14)上に搬送する。なお、上述したように、加工後載置部は、周回数毎に区別して半導体ウエハを載置可能に構成されている。制御装置60は、対象の読取装置で読み取られた周回数と同じ周回数を有する半導体ウエハを、加工後載置部上から対象のパレット14上に搬送する。したがって、ステップS8の実行前とステップS10の実行後とで、対象のパレット14上の半導体ウエハの周回数は変わらない。このため、対象のパレット14のRFIDタグが記憶している周回数は、対象のパレット14上の半導体ウエハ(乗せ換えた後の半導体ウエハ)の現実の周回数と一致する。なお、加工後載置部上に加工後の半導体ウエハが存在していない場合(例えば、製造ライン10の稼動開始直後等)には、ステップS10はスキップされる。
ステップS12では、制御装置60は、対象のパレット14を循環レール18の下流側へ移動させる。これによって、半導体ウエハが、次の加工装置へ搬送される。
図4のフローチャートに従って、加工装置70の動作について説明する。図3に示すように、半導体ウエハ200aを載せたパレット14aが加工装置70の前方の範囲70b内に進入した場合を考える。すると、パレット14aが停止し、読取装置70a(図1参照)によってパレット14aのRFIDタグから周回数が読み出される。次に、ステップS2で、制御装置60は、加工装置70で加工を行う周回数を記憶装置62から読み出す。図2に示すように、加工装置70で加工を行う周回数は1周目と2周目であるので、1周目及び2周目という周回数が記憶装置62から読み出される。次に、ステップS4で、制御装置60は、読取装置70aによって読み取られた周回数が、記憶装置62から読み出された周回数(すなわち、1周目と2周目)の何れかと一致するか否かを判定する。半導体ウエハ200aの周回数が1周目であるとすると、ステップS4でYESと判定される。この場合には、制御装置60は、ステップS8に進む。ステップS8では、製造ライン10の稼動開始直後等の理由により加工用載置部70eが空いてない場合に、制御装置60は、パレット14a上から加工前載置部70d上に半導体ウエハ200aを移動させる。なお、半導体ウエハ200aの周回数が1周目であるので、制御装置60は半導体ウエハ200aを加工前載置部70dの部分70d−1上に載置する。ステップS10では、制御装置60は、加工後載置部70f上の半導体ウエハをパレット14a上に搬送する。なお、半導体ウエハ200aの周回数が1周目であるので、制御装置60は、加工後載置部70fの部分70f−1上の半導体ウエハ200b(1周目の半導体ウエハ)をパレット14a上に搬送する。このように、パレット14a上の半導体ウエハは、半導体ウエハ200aから半導体ウエハ200bに変わるが、これらの半導体ウエハの周回数が同一であるので、パレット14aのRFIDタグが記憶している周回数と半導体ウエハ200bの周回数は一致する。ステップS12では、制御装置60は、パレット14aを循環レール18の下流側に移動させる。これにより、半導体ウエハ200bが次の加工装置へ送られる。一方、加工装置70内に搬送された半導体ウエハ200aは、その後、加工用載置部70e上に搬送され、そこで加工される。半導体ウエハ200aに対する加工が完了すると、半導体ウエハ200aは、加工後載置部70fの部分70f−1上に搬送される。その後、図3に示すパレット14b(1周目の半導体ウエハ200cが載置されているパレット)が範囲70b内に進入すると、パレット14bが停止し、再度、加工装置70で図4のフローチャートが実行される。半導体ウエハ200cの周回数が1周目であるので、ステップS4でYESと判定される。したがって、ステップS8でパレット14b上の半導体ウエハ200cが加工前載置部70dの部分70d−1上に搬送され、ステップS10で加工後載置部70fの部分70f−1上の半導体ウエハ200aがパレット14b上に搬送される。ステップS12では、パレット14bによって半導体ウエハ200aが次の加工装置に運ばれる。このように、半導体ウエハ200aは、パレット14a上から、加工前載置部70dの部分70d−1、加工用載置部70e、加工後載置部70fの部分70f−1の順に移動した後に、パレット14b(元のパレット14aとは別のパレット)上に載置される。また、半導体ウエハ200aの周回数が2周目である場合には、半導体ウエハ200aは、パレット14a上から、加工前載置部70dの部分70d−2、加工用載置部70e、加工後載置部70fの部分70f−2の順に移動した後に、パレット14b(元のパレット14aとは別のパレット)上に載置される。一方、半導体ウエハ200aの周回数が3周目以降である場合には、制御装置60は、ステップS4でNOと判定する。したがって、パレット14aは範囲70bから下流側に送り出される。この場合、加工装置70では、パレット14a上の半導体ウエハ200aに対して加工は行われない。他の加工装置72〜96でも、加工装置70と同様にして、半導体ウエハの周回数に応じて、半導体ウエハに対して加工を行うか否かが判定される。
以上に説明したように、製造ライン10では、各加工装置の前方にパレット14が進入したときに、そのパレット14のRFIDタグから周回数が読み取られる。そして、読み取られた周回数が加工装置で加工を行う周回数と一致したときに、パレット14上の半導体ウエハが加工装置に取り込まれ、その半導体ウエハに対して加工が行われる。すなわち、各加工装置の前方の範囲(例えば、図1の範囲70b)は、その範囲内に位置する半導体ウエハの周回数を読み取り、その周回数に基づいて半導体ウエハに対して加工を行うか否かを判定するための判定領域である。各判定領域において、半導体ウエハの周回数に基づいて加工を行うか否かが判定される。したがって、半導体ウエハが循環レール18を1周する間に半導体ウエハに対して行われる加工が、周回数に応じて異なる。本実施形態では、半導体ウエハが循環レール18を1周する毎に、1レイヤーの半導体層が形成される。制御装置60は、パレット14を予め決められた周回数(本実施形態では、13周)だけ循環させる。これによって、半導体ウエハに半導体装置の構造が形成される。パレット14が循環レール18を13周循環すると、制御装置60は、そのパレット14を循環レール18から搬出レール20に移動させる。すなわち、最後の読取装置96aで読み取られた周回数が13周目であった場合には、制御装置60は、循環レール18と搬出レール20との接続部を、パレット14が搬出レール20に移動するように切り換える。したがって、全ての加工が完了した半導体ウエハが、搬出レール20に搬出される。搬出された半導体ウエハをダイシング等することで、半導体装置が製造される。このように、この製造ライン10では、周回数に基づいて各加工装置で加工を行うか否かを判定するだけで、半導体装置を製造することができる。半導体ウエハの搬送先や搬送ルートを算出する必要がなく、制御が簡単である。したがって、高価な制御装置や複雑なプログラムを用いることなく、容易に半導体装置を製造することができる。
また、上述したように、この製造ライン10では、パレット14上から加工装置内に半導体ウエハが搬送されたときに、加工後載置部上からパレット14上に半導体ウエハが搬送され、その半導体ウエハを載置した状態でパレット14が下流側へ移動する。これにより、加工装置による加工が完了するまでパレット14を停止させておく必要がなく、パレット14が循環レール18上で停滞することが防止される。また、パレット14が空のまま循環レール18上を移動することが防止される。したがって、半導体ウエハを効率よく製造ライン10に流すことができる。また、パレット14上の半導体ウエハの周回数が変化しないので、RFIDタグが記憶している周回数を書き換える必要がない。
また、製造ライン10では、各パレット14が略一定のタクトで移動する。すなわち、各加工装置の前方の領域に進入して停止した各パレット14は、ステップ4における判定に係らず、一定時間その領域内で停止している。ステップS4でYESと判定された加工装置では、その間にステップS8〜S10が実行され、その後、ステップS12で下流側に移動する。ステップS4でNOと判定されたパレット14は、半導体ウエハが載置されたまま停止しており、他のパレット14がステップS12で移動を開始するのと略同時に下流側に移動する。そして、各パレット14は、略同時に、次の加工装置の前方の領域に進入して再度停止する。このように、この製造ラインでは、各パレット14が一定のタクトで半導体ウエハを搬送するので、工程の管理が容易である。このように略一定のタクトでパレット14を移動させることができるのは、各加工装置が、加工前載置部及び加工後載置部を有しており、循環経路上でのパレット14の停滞を防止することができるためである。
また、この製造ライン10では、循環レール18上において半導体ウエハの周回数が1つずつ増加するよう半導体ウエハが配列される。すなわち、循環レール18を移動する半導体ウエハの周回数を定点で観測したときに、パレット毎に周回数が1ずつ増加し、周回数が最大(13周目)となった次の半導体ウエハでは、再度、周回数が1周目となるように各半導体ウエハが投入されている。すなわち、読取装置70aで読み取られる周回数を順に並べた数列は、1、2、3、・・・11、12、13、1、2、3、・・・11、12、13といった具合に、1〜13までを繰り返す数列になる。したがって、この製造ライン10では、13枚の半導体ウエハ分の加工が行われる度に、全ての加工が完了した半導体ウエハが1つ完成する。完成した半導体ウエハに対応する位置に、新たな半導体ウエハを投入することで、上述した順序を維持することができる。このように半導体ウエハを投入することで、一定の時間間隔で完成した半導体ウエハを得ることができる。このため、生産計画を極めて容易に作成することができる。また、製造ライン10中の仕掛品である半導体ウエハの数量が一定となるため、仕掛品の数量管理がほとんど不要となる。なお、上述したように、ロボットアームによりパレット上の半導体ウエハが交換される場合があるが、交換の前後で半導体ウエハと周回数が変化しない。したがって、ロボットアームによる半導体ウエハの交換があっても、上述した数列が乱れることはない。
なお、図示していないが、この製造ラインでは、レール16、18、20上と、各加工装置のロボットアームによって半導体ウエハが搬送される空間が、周囲の空間から仕切られている。そして、その仕切られた空間内だけがクラス1の清浄度にクリーン化されている。それ以外の空間(作業者等が存在する空間)は、クリーン化されていないか、若しくは、クリーン化されているとしてもその清浄度は低い。すなわち、この製造ライン10では、半導体ウエハの移動経路に該当する空間だけが高度にクリーン化されている。このように、半導体ウエハが移動する空間だけを局所的にクリーン化することで、クリーン化に要するコストや管理負担を軽減することができる。
なお、上述した製造ライン10では、1つのパレット上に一枚の半導体ウエハが載置されていたが、1つのパレット上に複数の半導体ウエハを載置するように構成されていてもよい。この場合には、各加工装置において、1つのパレット上の複数の半導体ウエハをバッジ処理することができる。
また、上述した製造ライン10では、パレット上の半導体ウエハを加工装置内に移動させてから半導体ウエハに対して加工を行った。しかしながら、1つ又は複数の加工装置が、パレット上の半導体ウエハに対して加工を行う(すなわち、循環レール18上に半導体ウエハを置いたまま加工を行う)ように構成されていてもよい。このような構成によっても、加工すべきでない半導体ウエハを通過させ、加工すべき半導体ウエハに対して加工を行うことができる。
また、上述した製造ライン10では、RFIDタグにより半導体ウエハの周回数を管理したが、他の技術により管理してもよい。例えば、半導体ウエハまたはパレットに、光学的に読取可能なコード(例えば、バーコード等)を付しておき、読取装置でそのコードを読み取るようにしてもよい。この場合には、コードの内容を書き換えることができない。したがって、コードには識別番号等を記述しておき、識別番号毎に周回数をカウントするカウント装置を設ける。これにより、読取装置で識別番号を読み取ったときに、その識別番号に対応する半導体ウエハの周回数を特定することができる。
また、上述した製造ライン10では、加工装置が加工前載置部を有していたが、加工前載置部を有していなくてもよい。このような構成でも、パレット14上から加工用載置部上に半導体ウエハを搬送し、次に、加工後載置部上からパレット14上に半導体ウエハを搬送し、その後、パレット14を下流側に移動させることで、パレット14が循環レール18上で停滞することを防止することができる。
また、上述した製造ライン10では、加工装置が加工後載置部を有していたが、加工後載置部を有していなくてもよい。このような構成でも、加工装置による加工が既に完了している段階でパレット14から加工装置にウエハを搬送することで、循環レール18上におけるパレット14の停滞を防止することができる。すなわち、パレット14上から加工前載置部上に半導体ウエハを搬送し、次に、加工用載置部上からパレット14上に加工後の半導体ウエハを搬送し、その後、パレット14を下流側に移動させることで、パレット14が循環レール18上で停滞することを防止することができる。
以上、本発明の具体例を詳細に説明したが、これらは例示にすぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例をさまざまに変形、変更したものが含まれる。
本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組み合わせによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組み合わせに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成するものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。
本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組み合わせによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組み合わせに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成するものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。
10:製造ライン
12:搬送装置
14:パレット
16:投入レール
18:循環レール
20:搬出レール
60:制御装置
62:記憶装置
64:書換装置
70〜96:加工装置
70a〜96a:読取装置
12:搬送装置
14:パレット
16:投入レール
18:循環レール
20:搬出レール
60:制御装置
62:記憶装置
64:書換装置
70〜96:加工装置
70a〜96a:読取装置
Claims (7)
- 循環する経路に沿って一定の方向にウエハを搬送する搬送手段と、
複数の加工装置と、
前記経路における各ウエハの周回数をカウントする周回数カウント手段と、
加工装置毎に、加工を行う周回数を記憶している記憶手段と、
制御手段、
を備えており、
前記経路上には、加工装置毎に判定領域が設けられており、
制御装置は、判定領域毎に、
(1)判定領域内に位置するウエハの周回数がその判定領域に対応する加工装置で加工を行う周回数と一致しているときに、その加工装置によって加工を行ってからそのウエハを下流側に送り出し、
(2)判定領域内に位置するウエハの周回数がその判定領域に対応する加工装置で加工を行う周回数と一致していないときに、その加工装置によって加工を行わないでそのウエハを下流側に送り出す、
ように各加工装置と搬送手段を制御することを特徴とする半導体装置の製造ライン。 - 搬送手段は、前記経路に沿って移動する複数のパレットを有しており、
各パレット上に、ウエハを載置可能であり、
少なくとも1つの加工装置が、加工後ウエハ載置部とウエハ受渡手段を備えており、
加工後ウエハ載置部上には、前記少なくとも1つの加工装置による加工後のウエハが載置され、
ウエハ受渡手段は、前記少なくとも1つの加工装置に対応する判定領域内に位置するウエハの周回数が前記少なくとも1つの加工装置で加工を行う周回数と一致しているときに、そのウエハをパレット上から前記少なくとも1つの加工装置内に搬送するとともに、加工後ウエハ載置部上のウエハをそのパレット上に搬送する、
ことを特徴とする請求項1に記載の製造ライン。 - 記憶手段は、前記少なくとも1つの加工装置で加工を行う周回数を複数個記憶しており、
加工後ウエハ載置部が、周回数が異なる複数のウエハを載置可能に構成されており、
ウエハ受渡手段が、パレット上から前記少なくとも1つの加工装置にウエハを搬送したときに、前記少なくとも1つの加工装置内に搬送したウエハと同じ周回数のウエハを加工後ウエハ載置部上から当該パレット上に搬送する、
ことを特徴とする請求項2に記載の製造ライン。 - 前記少なくとも1つの加工装置が、加工前ウエハ載置部と加工用ウエハ載置部を備えており、
判定領域内に位置するウエハは、ウエハ受渡手段によってパレット上から加工前載置部上に搬送され、次に、ウエハ受渡手段によって加工前ウエハ載置部上から加工用ウエハ載置部上に搬送され、次に、加工用載置部上で加工装置によって加工され、次に、ウエハ受渡手段によって加工用ウエハ載置部上から加工後ウエハ載置部上に搬送されることを特徴とする請求項2または3に記載の製造ライン。 - 搬送手段は、前記経路に沿って移動する複数のパレットを有しており、
各パレット上に、ウエハを載置可能であり、
少なくとも1つの加工装置が、加工前ウエハ載置部とウエハ受渡手段を備えており、
ウエハ受渡手段は、前記少なくとも1つの加工装置に対応する判定領域内に位置するウエハの周回数が前記少なくとも1つの加工装置で加工を行う周回数と一致しているときに、そのウエハをパレット上から加工前ウエハ載置部上に搬送するとともに、前記少なくとも1つの加工装置による加工後のウエハをそのパレット上に搬送する、
ことを特徴とする請求項1に記載の製造ライン。 - 全ての加工が完了した半導体ウエハが完成した場合に、その完成した半導体ウエハと同じ数の半導体ウエハが前記経路に新たに投入されることを特徴とする請求項1〜5の何れか一項に記載の製造ライン。
- 循環する経路に沿って一定の方向にウエハを搬送する搬送手段と、
複数の加工装置と、
を備えており、
前記経路上に、加工装置毎に判定領域が設けられている製造ラインによって、半導体装置を製造する方法であって、
加工装置毎に、加工を行う周回数が予め決められており、
前記経路における各ウエハの周回数をカウントし、
判定領域毎に、
(1)判定領域内に位置するウエハの周回数がその判定領域に対応する加工装置で加工を行う周回数と一致しているときに、その加工装置によって加工を行ってからそのウエハを下流側に送り出し、
(2)判定領域内に位置するウエハの周回数がその判定領域に対応する加工装置で加工を行う周回数と一致していないときに、その加工装置によって加工を行わないでそのウエハを下流側に送り出す、
ように各加工装置と搬送手段を制御することを特徴とする方法。
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JP2010252571A JP2012104683A (ja) | 2010-11-11 | 2010-11-11 | 半導体装置の製造ライン、及び、半導体装置の製造方法 |
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EP2958137A1 (en) | 2014-06-17 | 2015-12-23 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Manufacturing line for semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device |
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-
2010
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