JP5838881B2 - 光射出部材の実装方法及び実装装置 - Google Patents

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Description

本願の開示する技術は、光射出部材の実装方法及び実装装置に関する。
光導波路を成す光導波路部材が搭載された基板に、光射出部品を備えた光射出部材を実装する場合に、光射出部材を基板に対し高精度で位置合わせすることが望まれる。たとえば、光素子が搭載されたサブマウントをクランプで保持し、サブマウントの光素子を作動させて、基板に対し調芯を行う方法が知られている。
特開2005−285889号公報
ところで、光射出部材をリフロー等によって基板に接合する場合等では、光射出部材をクランプ等で保持できないことがある。この場合、基板に対する光射出部材の位置がすれるおそれがある。
本願の開示技術は、基板に対し位置のずれを抑制して光射出部材を実装可能な光射出部材の実装方法及び実装装置を提供することが目的である。
本願の開示する光射出基板の搭載方法は、基板と光射出部材の双方に摩擦材を接触させる。あるいは、本願の開示する光射出基板の搭載方法は、基板と光射出部材のいずれか一方に固定された係合部材を基板と光射出部材のいずれか他方に係合させる。そして、基板と光射出部材との間の接合材を溶融させて基板と光射出部材とを接合する。
本願の開示する光射出部材の搭載装置は、基板を支持する支持部材と、光射出部材を保持する保持部材とを備える。そして、基板に対し位置合わせされた光射出部材の相対移動が、相対移動抑制部材によって抑制された状態で、接合装置により、基板と光射出部材との間の接合材を溶融させて基板と光射出部材とを接合する。
本願の開示する光射出部材の実装方法及び実装装置によれば、基板に対し位置のずれを抑制して光射出部材を実装することが可能となる。
第1実施形態の光射出部材の実装方法を示す概略断面図である。 第1実施形態の光射出部材の実装方法における吸着ノズル及び光射出部材を示し(A)は断面図、(B)は平面図である。 第1実施形態の光射出部材の実装方法を示す概略断面図である。 第1実施形態の光射出部材の実装方法をリフロー装置と共に示す概略断面図である。 第2実施形態の光射出部材の実装方法を示す概略断面図である。
以下に、本願の開示する光射出部材の実装方法(以下、「実装方法」と略す)及び光射出部材の実装装置(以下、「実装装置」と略す)の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。
図1及び図3に示すように、本実施形態の実装装置12は、基板16を支持する支持面14Sを備えた支持ステージ14を有している。支持ステージ14は支持部材の一例である。
基板16は、所定の絶縁性及び剛性を有する材料(たとえばエポキシ樹脂等)によって平坦な板状に形成された基材18を有している。基材18の少なくとも一方の面には、銅箔等によって所定の回路パターンが形成されている。回路パターンは、必要に応じて、ソルダレジスト20等の被覆部材で被覆されている。
さらに基材18には、フットプリント22が設けられている。フットプリント22には、後述するように、基板16に光射出部材36を搭載する工程でハンダ42が塗布され、ハンダ42を用いて光射出部材36が基板16に接合される。
基材18には、光導波路部材24が搭載されている。光導波路部材24は全体として板状あるいはシート状に形成されており、一方の面を基材18に面接触させて接着等により固定されている。
光導波路部材24には、基材18との接触面と反対の面に、光入口部28及び光出口部30が設けられると共に、内部に2枚の反射ミラー32、34が設けられたコアを有している。すなわち、光入口部28から光出口部30までの間に、光導波路26が構成されている。光導波路26は、光入口部28からの入射光を反射ミラー32、34で順に直角に反射させ、光出口部30から出射光として出射させる。
基板16には、光射出部材36が搭載される。本実施形態では、図2にも示すように、光射出部材36は基材38を有している。基材38は、所定の絶縁性及び剛性(形状安定性)を有する材料(たとえばエポキシ樹脂等)によって平坦な板状に形成されている。
基材38には、光を射出する光射出部品40が取り付けられている。そして、図3に示すように、光射出部品40の光が光導波路部材24に光入口部28から入射するように、ハンダ42によって光射出部材36が基板16に接合される。
なお、図1〜図3では、1つの基材38に対し光射出部品40を1つのみ図示しているが、基材38の1つあたりの光射出部品40の数は限定されない。本実施形態の例では、12個の光射出部材36が1列状(ただし2列以上であってもよく、マトリックス状であってもよい)となるように基材38に取り付けられている。
実装装置12は、吸着ノズル44を有している。吸着ノズル44は、光射出部材36の基材38を、光射出部材36の取付面と反対側の面から吸着可能なノズル本体46を有している。本実施形態では、ノズル本体46は略円筒状に形成されており、図示しない吸引装置で内部を吸引することが可能な構成とされている。吸着ノズル44は、保持部材の一例である。
ノズル本体46は、図示しない駆動機構により、支持面14Sに接近または離間する方向、及び支持面14Sに沿った移動可能とされている。
また、ノズル本体46は、同じく図示しない駆動機構により、支持ステージ14の支持面14Sに沿う方向に移動可能で、支持面14S(X−Y平面)の法線を回転中心として(以下、便宜的にこの回転方向を「θ方向」とする)回転可能とされている。図1では、便宜的に、支持面14Sに沿った横方向をX方向、支持面14Sに沿うと共にX方向と直交する方向をY方向、X−Y平面の法線方向を矢印Z方向としている。したがって、吸着ノズル44で光射出部材36を吸着し、X−Y平面に沿った移動と、上記の回転とを適宜組み合わせて基板16に対し位置合わせを行いつつ、光射出部材36を基板16に接近させて、所定位置に配置できる。
吸着ノズル44のノズル本体46には、基材38との対向面に、光射出部材36との電気的導通を取るためのメッキ(たとえば金メッキ)が施されており、複数(図示の例ではプラス、マイナス及びスタンバイの3つ)の電極48が設けられている。メッキは、磨耗を抑制する観点から、十分な厚みに形成することが好ましい。
光射出部材36の基材38において光射出部品40が設けられた面の反対面にも、ノズル本体46の先端部と同様の処理(たとえば金メッキ)が施され、電極48に対応する複数の電極50が設けられている。図示しない電源からの電力を、ノズル本体46内の配線52から、電極48、50、配線54を経て、光射出部品40に供給することが可能である。配線52、電極48、50、配線54は、給電部材の一例である。
なお、配線52は、図示の例ではノズル本体46の内部に埋め込んだタイプを示している。これに代えて、たとえば、ノズル本体46の外周面あるいは内周面に銅箔等を蒸着等により貼着したタイプや、銅箔をノズル本体46の内部に埋め込んだタイプ等、各種の構造を採用できる。
また、ノズル本体46の先端に、粗面化処理(たとえばスクラブ処理)等を行うことで、ノズル本体46と光射出部材36との接触抵抗を調整してもよい。
ノズル本体46の形状は、上記した円筒状に限定されない。ただし、光射出部材36を基板16に対し均一に押し当てて、基板16に対する平行状態を維持する観点からは、より広い範囲で光射出部材36に接触することが好ましい。加えて、光射出部材36を基板16に向かって押し付けるときに不用意な傾きを抑制する観点からは、押付方向(矢印Zと反対の方向)に見て、特定の軸まわりに対称形状とされていることが好ましい。
さらに、光射出部材36との接触部分が環状になっていると、これらの条件を満たす形状となるので好ましい。上記した円筒形状は、光射出部材36との接触部分が環状であり、ノズル本体46の形状としても単純で成形が容易である。他にも、たとえば、円錐形状のノズル本体であっても、光射出部材36との接触部分は環状になる。
さらに、吸着ノズル44(特にノズル本体46)は、弾性や柔軟性を有することなく、実質的に剛体とみなせる程度の剛性を有していることが、吸着した光射出部材36の傾きを抑制でき、好ましい。
光導波路部材24には、図示しない認識マークが設けられている。同じく図示しない読取装置でこの認識マークを読み取りつつ、光射出部材36の基板16に対する概略の位置合わせ(以下、では、この位置合わせを「パッシブアライメント」という)を行うことができる。
なお、パッシブアライメントに使用する認識マークとしては、基材18上に銅エッチング等で形成された認識マークを使用することも可能である。ただし、基板16に対する光射出部材36の「位置合わせ」は、より本質的には、光導波路26(特に入口部28)に対して光射出部品40の位置を合わせる、という観点で行われる。したがって、基材18上の認識マークを用いると、基材18に対する光導波路部材24の搭載位置精度が低い場合には、光導波路26に対する光射出部品40の位置のずれも大きくなる。これに対し、光導波路部材24の基材38に設けられた認識マークを用いると、位置合わせにおいて、基材18に対する光導波路部材24の搭載位置精度の影響を受けない。しかも、光導波路部材24の基材38に対しては、レーザー加工等により、高精度で認識マークを形成可能である。このような観点から、パッシブアライメントを行うときに使用する認識マークとしては、光導波路部材24に形成された認識マークを用いることが好ましい。
実装装置12は、光量センサ56を有している。光量センサ56は受光部58を有しており、光導波路部材24の光出口部30から射出された光の強度(光量)を検知できる。そして、上記したパッシブアライメントを行った後、光射出部品40の光を入口部28から光導波路26に入射させ、光出口部30から出る光の強度を光量センサ56で検出しつつ、光射出部材36の位置を合わせる。これにより、パッシブアライメントよりも高精度の位置合わせ(以下では、この位置合わせを「アクティブアライメント」という)を行うことが可能である。
光量センサ56としては、フォトダイオード等の受光素子を用いた構造のセンサや、光強度分布を検出可能なニアフィールドパターン測定装置等を用いることが可能である。いずれにしても、光量センサ56の受光部58は、位置合わせ時に光射出部品40にズレが生じていても、光出口部30からの光を漏れなく受光できるように、十分な受光面積を有している。
本実施形態の実装装置12は、図4に示すように、リフロー装置60を有している。リフロー装置60内の所定位置に、基板16と、この基板16に位置合わせ(アクティブアライメント)された光射出部材36(吸着ノズル44による吸着及び、光量センサ56による光量検知は解除されている)を投入する。そして、所定の環境(ハンダ42を溶融させるために十分な高温の状態)とすることで、ハンダ42を溶融させることができる。その後の冷却によりハンダ42が硬化することで、光射出部品40を基板16に接合する(搭載する)ことができる。リフロー装置60は、接合装置の一例である。
本実施形態では、図3から分かるように、光射出部材36を基板16に接合する際に、基板16のソルダレジスト20及び光導波路部材24と光射出部材36との間に、摩擦シート62が配置される。摩擦シート62は、たとえば、エポキシ樹脂を半硬化させた状態でシート状に成形されている。「半硬化」とは、エポキシ樹脂が完全には硬化しておらす、外力が作用すると外力に応じて所定の流動性を示すものの、通常の温度及び湿度等の環境下では、重力等が作用しても不用意に変形しない程度の形状安定性を有する状態である。
また、基板16に対する光射出部材36のパッシブアライメントを行う前段階では、摩擦シート62は、たとえば、図1に示すように、ソルダレジスト20や光導波路部材24に貼着等により取り付けられていてもよい。さらに、単にソルダレジスト20や光導波路部材24の上に置かれているだけでもよい。あるいは、光射出部材36に貼着等により取り付けられていてもよい。なお、摩擦シート62は、相対移動抑制部材としての摩擦材の一例である。
そして、基板16に対する光射出部材36のアクティブアライメントを行う際、及び行った後では、ソルダレジスト20及び光導波路部材24と光射出部材36の双方に対し、摩擦シート62が接触している。摩擦シート62は、ソルダレジスト20及び光導波路部材24と光射出部材36の双方に対し摩擦力を発揮する。このため、光射出部材36が吸着ノズル44で吸着(保持)されていない状態であっても、光射出部材36の基板16に対する位置のずれが抑制される。ただし、この摩擦力は、基板16に対する光射出部材36の位置合わせには影響しない程度とされている。
特に、第1実施形態では、摩擦シート62はシート状に形成されているので、ソルダレジスト20及び光導波路部材24と光射出部材36の双方に面接触する。したがって、光射出部材36が基板16に対し非平行状態となるような(光射出部品40からの光の光軸が傾斜する)光射出部材36の移動(傾斜)に関しても、摩擦シート62がこの傾斜を抑制する。
次に、本実施形態の実装装置12を用いて、基板16に光射出部材36を位置合わせして接合する方法(実装方向)を説明する。
図1に示すように、基材18には、所定の回路パターンがソルダレジスト20によって被覆されると共に、フットプリント22上にハンダ42が塗布されている。また、光導波路部材24が所定位置に取り付けられている。特に本実施形態では、ソルダレジスト20及び光導波路部材24の所定位置に、摩擦シート62が接着されている。
この基板16に対し、まず、光射出部材36のパッシブアライメントを行う。具体的には、光射出部材36を吸着ノズル44で吸着し、光導波路部材24の図示しない認識マークを用いて、光射出部材36を基板16(光導波路部材24)に対し、概略の位置合わせを行う。
なお、パッシブアライメントを行う段階では、電極48、50は接触しているが、光射出部品40から光を射出する必要はなく、光量センサ56により光量を検出することもない。
次に、光射出部材36のアクティブアライメントを行う。具体的には、図3に示すように、光射出部材36を吸着ノズル44で吸着する。そして、図示しない電源から、ノズル本体46内の配線52、電極48、50、配線54を経て、光射出部品40に電力を供給する。これにより、光射出部品40から光を射出する。この光は、光入口部28から光導波路26、光出口部30を経て、光量センサ56に入射する。ここで、光導波路部材24(光入口部28)に対し光射出部品40の位置がずれていると、光量センサ56で検出される光量も、本来の光量に達しない。したがって、光量センサ56で検出される光量が最大となるように、光射出部材36の位置を、X−Y平面内におけるX方向、Y方向及びθ方向に調整する。
なお、光射出部材36と光導波路部材24とで線膨張係数が異なるため、加熱時の伸縮量も光射出部材36と光導波路部材24とで異なることが想定される。この伸縮量差による光射出部材36と光導波路部材24とのわずかな位置のすれを抑制するために、上記した位置合わせ、特にアクティブアライメントは、実装装置12の稼動温度で行うことが好ましい。
アクティブアライメントを行った後、吸着ノズル44による光射出部材36の吸着(保持)を解除する。光量センサ56による光量検知を行う必要はない。そして、図4に示すように、基板16と光射出部材36とをリフロー装置60内の所定位置に固定し、リフローを行う。リフローによりハンダ42が溶融する。
このようにハンダ42が溶融して液体になると、その表面に表面張力が作用する。表面張力は、光射出部材36を基板16に対し横方向(X−Y平面に沿った方向に加え、θ方向の回転も含む)へ相対移動させる力として作用する。本実施形態では、基板16(ソルダレジスト20及び光導波路部材24)と光射出部材36とに摩擦シート62が接触している。このため、光射出部材36がX方向、Y方向及びθ方向に相対移動しようとしても、摩擦シート62からの摩擦力により、この相対移動が抑制される。すなわち、光導波路部材24の光入口部28に対し光射出部品40が高精度に位置合わせされた状態を維持し、光射出部品40を基板16に接合(搭載)できる。
このように摩擦シート62によって、基板16に対する光射出部材36の相対移動を抑制するための条件を考える。このためには、摩擦シート62と光射出部材36との最大摩擦力(静止摩擦力)をT、ハンダ42(接合材)の表面張力によって光射出部材36を水平方向に移動させようとする力をFとして、
T>F (1)
が成立していればよい。
また、静止摩擦力Tは、摩擦シート62と光射出部材36との静止摩擦係数をμ、光射出部材36に摩擦シート62から作用する垂直効力をNとして、
T=μN (2)
となる。さらに、力Fは、ハンダ42の表面張力をS、体積をVとすれば、これらの積に比例するので、比例定数kを用いて、
F=kSV (3)
となる。式(2)及び(3)から、式(1)は、
μN>kSV (4)
となる。
ところで、光射出部材36の基板16に対する相対移動を抑制する観点からは、上記式(4)から分かるように、たとえば、表面張力の小さいハンダ42(接合材)を用いたり、ハンダ42(接合材)の量を減らしたりする方法も考えられる。ただし、これらの方法では、ハンダ42の接合力や接合寿命を所定以上に維持することが困難な場合も想定される。これに対し、摩擦シート62を用いると、ハンダ42の量を減らしたり、表面張力の弱い材料を用いたりすることなく、光射出部材36の基板16に対する相対移動を抑制できる。なお、光射出部材36に錘を載せることで、上記した相対移動を抑制する効果を高めてもよい。
さらに、本実施形態では、シート状の摩擦シート62は、ソルダレジスト20及び光導波路部材24と光射出部材36の双方に面接触するので、光射出部材36が基板16に対する平行状態を維持でき、光射出部品40からの光の光軸が傾斜することを抑制できる。
摩擦シート62が接触する基板16側の部材としては、上記した光導波路部材24やソルダレジスト20に限らず、これ以外の部材であってもよい。ただし、光導波路部材24と光射出部材36との位置のずれを効果的に抑制するためには、摩擦シート62は光導波路部材24に接触していることが好ましい。これに対し、摩擦シート62をソルダレジスト20に接触させる構成では、ソルダレジスト20が基材18の広い範囲に設けられているため、摩擦シート62の配置や形状の自由度が高くなる。
なお、実際には、1つの光射出部材36において複数の光射出部品40が取り付けられ、これに対応して光導波路26も複数設けられることが多い。これを考慮し、アクティブアライメントを行う場合には、複数の(ただし全てである必要なない)光射出部品40からの光について光量センサ56で光量を検知することが好ましい。たとえば、本実施形態のように1つの光射出部材36が1列状の12個の光射出部品40を有している構成では、列の両端の(1番目と12番目の)光射出部品40からの光について、最大光量が得られるようにしてもよい。さらに、列の中間部分の1又は複数の光射出部品40からの光を追加で用いてもよい。この場合には、検出したそれぞれの最大光量点を用い、最小二乗法等の統計的手法によって、複数の光射出部品40からの光が全体として最大光量となるように、光射出部材36の位置を決めればよい。もちろん、全ての光射出部材36からの光を用いて、光射出部品40の位置合わせを行ってもよい。
第1実施形態において、摩擦シート62は、ハンダ42の潰れを抑制する観点から、所定の硬さを有していることが好ましい。ただし、あまりに硬いと、光射出部材36の位置合わせ時に、光射出部材36の下面に衝撃が作用するおそれがある。したがって、この衝撃を緩和できる程度の柔軟性を有していることが好ましい。もちろん、摩擦シート62の硬さとの関係で、光射出部材36を基板16に対し位置合わせするときの吸着ノズル44の動きを制御し、上記した衝撃がより小さくなるように調整すればよい。
また、摩擦材としては第1実施形態の摩擦シート62に限定されない。すなわち、シート状に形成されている必要はなく、棒状あるいはブロック状であってもよい。ただし、摩擦シート62が基板16側の部材及び光射出部材36と接触する部分は、面接触となっているか、あるいは実質的に面接触とみなせる程度に接触部分が広がっていることが、好ましい。面接触していると、摩擦力を効果的に発揮できると共に、光射出部材36の基板16に対する傾き(特に、光射出部品40からの光の光軸の傾き)を抑制する効果が高くなるためである。
図5には、第2実施形態の実装装置82が部分的に示されている。第2実施形態において、第1実施形態と同一の構成要素、部材等については、同一符号を付して、詳細な説明を省略する。
第2実施形態の実装装置82では、第1実施形態に係る摩擦シート62(図1、図3等参照)は用いられておらず、これに代えて、ピン84が設けられている。ピン84は、先端部84Tが鋭角的に尖った略円錐状(あるいは角錐状)に形成されている。ピン84は、相対移動抑制部材としての係合部材の一例である。
このピン84は、光射出部材36が基板16に搭載された状態で、先端部84Tがフットプリント22を向く(図5において下を向く)ように、光射出部材36に固定されている。ピン84の位置は、ハンダ42を貫通し、さらに先端部84Tがフットプリント22に刺さる位置とされている。なお、ピン84は1本のみでもよいが、少なくとも2本とされていれば、光射出部材36の基板16に対するθ方向の回転を抑制する効果が高くなる。
ピン84は、1つの光射出部材36において1つのみ設けられていてもよいが、図示の礼では、複数設けられている。このようにピン84が複数設けられていると、光射出部材36と基板16との相対的な傾きを抑制し、光射出部品40からの光の光軸の傾きを抑制する効果が高い。
第2実施形態における実装方法では、第1実施形態と同様に、基板16に対する光射出部材36のパッシブアライメントを行う。さらに、光射出部材36から光導波路26を通った光を光量センサ56で検出し、アクティブアライメントを行う。
このようにして、基板16に対し光射出部材36の位置合わせを行った状態で、ピン84の先端部84Tはフットプリント22に刺さって係合している。これにより、基板16に対する光射出部材36の相対移動が抑制されている。したがって、リフロー装置60でリフローを行い、ハンダ42が溶融しても、光射出部材36と基板16との相対移動(X方向、Y方向及びθ方向)が抑制される。すなわち、第2実施形態においても、光導波路部材24の光入口部28に対し光射出部品40が高精度に位置合わせされた状態を維持し、光射出部品40を基板16に接合(搭載)できる。
特に、第2実施形態では、ピン84の先端部84Tがフットプリント22に刺さっているので、光射出部材36が基板16に対し非平行状態となるような光射出部材36の傾斜に対して抵抗として作用する。しかも、ピン84は複数設けられている。これらにより、光射出部材36が基板16に対する平行状態を維持でき、光射出部品40からの光の光軸が傾斜ことを抑制できる。
ピン84の先端部84Tを刺す対象は、上記のフットプリント22に限定されない。たとえば、ソルダレジスト22や光導波路部材24であってもよい。フットプリント22は、ハンダ42を塗布するために設けられており、ピン84の先端84Tが刺さっても、基板16の構造や物理的特性に及ぼす影響が小さいので、先端部84Tを刺す対象として好ましい。
第2実施形態では、ピン84の先端部84Tを鋭利な形状(尖った形状)とし、フットプリント22に容易に刺すことが可能な構造としているが、たとえば、ピン84を円柱状としてもよい。円柱状のピン84ではフットプリント22等に刺すことが難しいが、ピン84の外周面の一部を基材18上の部材の側面に接触させれば、光射出部材36の基板16に対する位置のずれを抑制できる。この場合、ピン84を複数設け、それぞれのピン84が異なる方向で基材18上の部材に接触する構造とすれば、複数の方向で光射出部材36の位置のずれを抑制できる。
第2実施形態において、ピン84を基板16側(たとえば基材18、ソルダレジスト20、フットプリント22、光導波路部材24等)に固定してもよい。この場合、先端部84が、光射出部材30に刺さるように(ただし、光射出部品40からの光の射出に影響しないように)すればよい。ピン84を円柱状とした場合は、ピン84の外周面の一部を光射出部材36の側面に接触等により係合させてもよい。
以上の説明から分かるように、いずれの実施形態においても、ハンダ42(接合材)が溶融した状態で、基板16に対し光射出部材36を、位置のずれを抑制して実装できる。
各実施形態において、光射出部材36が搭載される基板16としては、特に限定されないが、たとえば、スーパーコンピュータ、サーバシステム及びネットワーク機器等(特に中大型の機器)のプリント配線板を挙げることができる。
これらのプリント配線板では、光導波路26のコア、すなわち光の光入口部28のサイズが非常に小さい。たとえば、光入口部28の1辺の長さが30〜50μm程度である。したがって、光入口部28に対する光射出部品40の位置精度は、3〜5μmの範囲とすることが望まれる。また、光射出部品40からの光の光軸についても、光入口部28に対する傾きを抑制することが望まれる。上記各実施形態は、このように、基板16(光入口部28)に対する光射出部材36(光射出部品40)の位置精度の要求が高い場合に、上記実施形態の技術を好ましく適用できる。
特に、転送レートが概ね40Gbps以上のデータ転送では、光射出部品40からの光を光導波路26で確実に伝送可能となるように接続する技術(光インターコネクト技術)が求められることが多い。そして、伝送の高速化や長距離化に伴って伝送損失を少なくするためには、光導波路26のコアは、より小径化されることがある。このようにコアが小径化された光導波路部材24に対し、光射出部材36(光射出部品40)を位置合わせする場合に、上記実施形態の技術を好ましく適用できる。
上記各実施形態では、リフローによりハンダ42(接合材)を溶融させて光射出部材36を基板16に接合(搭載)する例を挙げている(リフロー方式)。このようにリフローで接合すると、光射出部材36を保持することなく(あるいは保持を解消した状態で)接合材を溶融させるので、複数の光射出部材36を1つの基板16上に載置し、1度のリフローによりこれら複数の光射出部材36を基板16に接合できる。
もちろん、実装方法としては、このようなリフロー方式に限定されない。たとえば、光射出部材36を基板16に対し位置合わせした後も保持し、加熱装置で加熱することによりハンダ42を溶融させる方法(ボンダー方式)に適用することも可能である。
また、光射出部材36の基板16(あるいは光導波路部材24)との対向面に形成されたバンプを用いて電気的に導通される実装(フリップチップ実装)の構造にも、上記実施形態の技術を適用可能である。フリップチップ実装では、光射出部材36を基板16の反対側から基板16に押し付けて接合するため、光射出部品40を1個ずつ基板16に接合するため、基板16に対する光射出部材36の傾斜を抑制する効果は高い。
上記では、吸着ノズル44を介して光射出部材36に電力を供給する構成を挙げているが、光射出部材36が電源を備えた構成では、この電源からの電極供給により光射出部品40から光を射出可能である。この場合は、吸着ノズル44によって光射出部材36に電力を供給する必要はない。換言すれば、上記各実施形態では、吸着ノズル44が光射出部材36に電力供給可能な構成とされているため、電源を有さない光射出部材36であっても、アクティブアライメントを行い、基板16に対する位置のずれを抑制して搭載可能である。
光射出部材36を保持する保持部材としては、吸着ノズル44に限定されず、たとえば光射出部材36を把持する構造の保持部材でもよい。ただし、吸着ノズル44を用いると、光者射出部品40が設けられていない面で光射出部材36を保持できる。これにより、アクティブアライメント時の光の射出に影響することなく、光射出部材36を保持できる。
接合材としては、上記各実施形態ではハンダ42を用いた例を挙げている。もちろん、ハンダ42の他に、接着剤等を接合材として用いてもよい。ただし、ハンダ42は、基板16に対し光射出部材36を接合する作用と、電気的な導通を得る作用の双方を有している。このため、ハンダ42とは別に接合材を用いた構成と比較して、部品点数が少なくなる。
摩擦材としては、上記ではエポキシ樹脂を半硬化させた状態で使用しているが、たとえば、樹脂繊維を用いた織布や不織布等を用いることも可能である。材料としては、エポキシ樹脂を用いると、基板16に光射出部材36を搭載した後の耐久性、電気絶縁性、形状安定性が高いので、好ましい。さらに、エポキシ樹脂は、硬化後には、接着作用も奏するので、基板16に対し光射出部材36を強固に接合できる。
以上、本願の開示する技術の実施形態について説明したが、本願の開示する技術は、上記に限定されるものでなく、上記以外にも、その主旨を逸脱しない範囲内において種々変形して実施可能であることは勿論である。
本明細書は、以上の各実施形態に関し、さらに以下の付記を開示する。
(付記1)
基材上に少なくとも光導波路部材が搭載された基板と、光射出部品を備え前記基板上に搭載される光射出部材と、に対し摩擦力により前記基板と前記光射出部材との相対移動を抑制する摩擦材を接触させると共に、前記光射出部品から射出される光を用いて前記光射出部材を前記基板に位置合わせし、
前記基板と前記光射出部材との間の接合材を溶融させて前記基板と前記光射出部材とを接合する光射出部材の実装方法。
(付記2)
前記位置合わせ時に、前記摩擦材として前記基板と前記光射出部材の双方に面接触する摩擦シートを用いる付記1に記載の光射出部材の実装方法。
(付記3)
前記摩擦材として、前記位置合わせ時には半硬化状態とされた樹脂材料を用いる付記1又は付記2に記載に光射出部材の実装方法。
(付記4)
前記摩擦材を前記光導波路部材に接触させる付記1〜付記3のいずれか1つに記載の光射出部材の実装方法。
(付記5)
前記基板がソルダレジストを備え、
前記摩擦材を前記ソルダレジストに接触させる付記1〜付記4のいずれか1つに記載の光射出部材の実装方法。
(付記6)
基板上に少なくとも光導波路部材が搭載された基板と、光射出部品を備え前記基板上に搭載される光射出部材のいずれか一方に固定された係合部材を前記基板と前記光射出部材のいずれか他方に係合させ前記基板と前記光射出部材との相対移動を抑制すると共に、前記光射出部品から射出される光を用いて前記光射出部材を前記基板に位置合わせし、
前記基板と前記光射出部材との間の接合材を溶融させて前記基板と前記光射出部材とを接合する光射出部材の実装方法。
(付記7)
前記位置合わせ時に、前記係合部材として前記基板と前記光射出部材のいずれか一方に固定されたピンを前記基板と前記光射出部材のいずれか他方に刺す付記3に記載の光射出部材の実装方法。
(付記8)
前記位置合わせ時に、前記光射出部材に固定された前記ピンを前記基板のフットプリントに刺す付記7に記載の光射出部材の実装方法。
(付記9)
前記ピンの先端部が鋭角的に尖っている付記7又は付記8に記載の光射出部材の実装方法。
(付記10)
前記位置合わせ時に、前記光射出部材を保持装置により保持して前記基板に位置合わせし、
前記接合時には前記保持装置による前記光射出部材の前記保持を解除する付記1〜付記9のいずれか1項に記載の光射出部材の実装方法。
(付記11)
前記接合材として半田を用いる付記1〜付記10のいずれか1項に記載の光射出部材の実装方法。
(付記12)
基材上に少なくとも光導波路部材が搭載された基板を支持する支持部材と、
光射出部品を備え前記基板上に搭載される光射出部材を保持して基板に対し位置合わせする保持部材と、
前記基板に対し位置合わせされた前記光射出部材の基板に対する相対移動を抑制する相対移動抑制部材と、
前記光射出部材の前記基板に対する相対移動が前記相対移動抑制部材によって抑制された状態で基板と光射出部材との間の接合材を溶融させて基板と光射出部材とを接合する接合装置と、
を有する光射出部材の実装装置。
(付記13)
前記保持部材が、
前記光射出部材における前記光射出部材が設けられていない面を吸着して保持する吸着ノズルを備えている付記12に記載の光射出部材の実装装置。
(付記14)
前記吸着ノズルに設けられ前記光射出部材に給電する給電部材を有する付記13に記載の光射出部材の実装装置。
(付記15)
前記吸着ノズルの前記光射出部材との接触部分が環状とされている付記13又は付記14に記載の光射出部材の実装装置
12 実装装置
14 支持ステージ(支持部材の一例)
16 基板
20 ソルダレジスト
22 フットプリント
24 光導波路部材
26 光導波路
36 光射出部材
40 光射出部品
42 ハンダ(接合材の一例)
44 吸着ノズル(保持部材の一例)
46 ノズル本体
48 電極(給電部材の一例)
50 電極(給電部材の一例)
52 配線(給電部材の一例)
54 配線(給電部材の一例)
60 リフロー装置(接合装置の一例)
62 摩擦シート(相対移動抑制部材、摩擦材の一例)
82 実装装置
84 ピン(相対移動抑制部材、係合部材の一例)

Claims (7)

  1. 基材上に少なくとも光導波路部材が搭載された基板と、光射出部品を備え前記光導波路部材を間にして前記基材の反対側に搭載される光射出部材と、に対し摩擦力により前記基板と前記光射出部材との相対移動を抑制する摩擦材を接触させると共に、前記光射出部品から射出される光を用いて前記光射出部材を前記基板に位置合わせし、
    前記基板と前記光射出部材との間の接合材を溶融させて基板と光射出部材とを接合する光射出部材の実装方法。
  2. 前記位置合わせ時に、前記摩擦材として前記基板と前記光射出部材の双方に面接触する摩擦シートを用いる請求項1に記載の光射出部材の実装方法。
  3. 前記摩擦材として、前記位置合わせ時には半硬化状態とされた樹脂材料を用いる請求項1又は請求項2に記載の光射出部材の実装方法。
  4. 基材上に少なくとも光導波路部材が搭載された基板と、光射出部品を備え前記光導波路部材を間にして前記基材の反対側に搭載される光射出部材のいずれか一方に固定された係合部材を前記基板と前記光射出部材のいずれか他方に係合させ前記基板と前記光射出部材との相対移動を抑制すると共に、前記光射出部品から射出される光を用いて前記光射出部材を前記基板に位置合わせし、
    前記基板と前記光射出部材との間の接合材を溶融させて基板と光射出部材とを接合する光射出部材の実装方法。
  5. 前記位置合わせ時に、前記係合部材として前記基板と前記光射出部材のいずれか一方に固定されたピンを前記基板と前記光射出部材のいずれか他方に刺す請求項4に記載の光射出部材の実装方法。
  6. 前記位置合わせ時に、前記光射出部材に固定された前記ピンを前記基板のフットプリントに刺す請求項5に記載の光射出部材の実装方法。
  7. 前記位置合わせ時に、前記光射出部材を保持装置により保持して前記基板に位置合わせし、
    前記接合時には前記保持装置による前記光射出部材の前記保持を解除する請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の光射出部材の実装方法。
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