JP5829378B2 - 平面材料層の一部を除去する方法および多層構造体 - Google Patents

Description

本発明は、実質的平坦または平面材料層のサブポーションまたは一部を除去する方法に関し、実質的平坦または平面材料層は、接着手順において、少なくとも１つのさらなる実質的平坦または平面材料層と接着され、サブポーションの後の除去の領域または区域において、接着される材料層の接着を防止する材料を塗布することによって材料層間の直接接着がない状態に保たれる領域が設けられ、接着される実質的平坦材料層は、多層プリント回路基板の層によって形成され、本発明は、また、互いに接着される少なくとも２つの実質的平坦または平面材料層によって形成された重層構造体または多層構造体に関し、材料層間の接着を実現した後に除去されるサブポーションまたは一部の領域において、接着される材料層間の直接接着がない状態に保たれる領域が、接着される材料層の接着を防止する材料を塗布することによって設けられ、接着される実質的平坦材料層は、多層プリント回路基板の層によって形成される。本発明は、さらに、特に、多層プリント回路基板の製造の状況における、そのような方法の使用およびそのような多層構造体の使用に関する。

そのような方法は、多層プリント回路基板のような多層構造体と同様に、例えば、リジッドフレキシブルプリント回路基板の製造のための簡単な方法を提供することを目的とする独国特許第４００３３４４（Ｃ）号明細書から知られている。

さらに、保護膜の製造のための方法が、例えば、米国特許第６，２４５，３８２（Ｂ）号明細書から知られており、保護膜は、ポリマー基板上にしっかりかつ確実に接着する。

後の説明は、多層プリント回路基板の製造に言及するが、注目すべきは、本発明による方法は、本発明による多層構造体と同様に、非常に多様な用途で使用されてもよく、少なくとも１つのさらなる実質的平坦材料層と接着した後、実質的平面材料層からサブポーションを除去することを目的としている。本発明は、一般的に多層構造体と関連して塗布可能であり、ここで、多層構造体の製造後、サブポーションが剥ぎ取られ、または、層のうちの１つが除去されることになる。この状況では、複雑な方法および構造体が例えば知られており、それらは、特に、接着される材料層を接着するために使用される少なくとも１つの接着層の予備調製、および必要とされる高い接着費用、同様に従って高くなる、接着される材料層の後の適切な方向性または位置あわせに必要な費用のために、接着後にそのような材料層からサブポーションを剥ぎ取るまたは除去することを目標とする。実質的平坦材料層は、例えば、接着される紙状またはボール紙状の層または素子、例えば、箔、シートまたは金属板等の実質的板状またはシート状素子からなってもよい。実質的平坦または板状材料を接着する状況では、例えば、特に、少なくとも１つのそのサブポーションの任意の後の必要な除去の目的で、接着手順の間に、接着される材料層の接着を確保する箔のサブポーションが凹部を備えるように、従って、予備調製箔が接着特性を有することが知られている。実質的連続接着箔に加えて、予備調製された分離箔が、その後除去されるサブポーションに応じて代わりに使用されてもよい。そのような接着箔または粘着性箔および／または分離箔の予備調製は、従って高い費用を必要とし、さらに、従って、そのような特に予備調製された箔の介在によって接着される材料層の位置あわせおよび方向性に高い要求があることはすぐに明らかとなる。

そのような電子部品の設計は、多層電子部品、特に、多層プリント回路基板の製造の状況では、過去数年間で複雑性が増大しており、能動部品とプリント回路基板の部品との間の接着ポイント数の増大に概して結びつき、サイズ低減の進行は、同時に、そのような接着ポイント間の距離の低減を伴った。プリント回路基板の製造の状況では、いわゆる高密度相互接続（ＨＤＩ）におけるいくつかの回路基板層を通るマイクロビアによってそのような部品接着ポイントの複雑さを解消することが提案されている。

プリント回路基板の設計および構成の複雑性の増大および必要とされる小型化に加えて、回路基板において折りたたみ可能または曲げ可能な接着をもたらす目的でさらなる要求が注目され、それらは、ハイブリッド技術の開発、およびいわゆるリジッドフレキシブルプリント回路基板の使用をもたらした。プリント回路基板のリジッド部またはサブポーションを含むそのようなリジッドフレキシブルプリント回路基板は、そのようなリジッド部を接着するフレキシブル部と同様に、信頼性が向上し、設計と構成の点から他のまたはさらなる選択の自由を提示し、さらなる小型化を可能にした。

そのようなリジッドフレキシブルプリント回路基板の製造のために、回路基板のリジッド部およびフレキシブル部に対応し、誘電体からなる接着層が、上記部分間に設けられ、それによって、適切なシート状の層またはフィルムの配置が、例えば、熱処理によって、接着される回路基板のリジッド部およびフレキシブル部の接着を引き起こし、通常、比較的厚い層という結果になる。そのような厚い層は、多層回路基板の製作において所望の小型化を相殺するだけでなく、マイクロビアの形成のための後のレーザーボアホール形状および従って狭い間隙を介した接続または接着部位に必要な位置あわせ精度の損失を伴う。非導電性材料すなわち誘電体層のそのような厚い公知の層は、特に、適切な予備調製または構成が、プリント回路基板のリジッド部の後の分割に応じて行なわれるので、回路基板のリジッド部とフレキシブル部との間で要求される接続の製造のためのさらなる処理または工程段階および／またはより複雑な設計をさらに伴う。

本発明は、特に、接着素子または箔すなわち分離箔の予備調製または構成に関する上記従来技術の問題を回避しながら、方法および最初に規定された種類の多層構造体を、そのような多層構造体が単純化された方法によって製造されることができるように、さらに発展させることを目的とし、それによって、特に、複雑な準備ステップを、放棄、または従って低減することができる。

これらの目的を解決するために、最初に規定された種類の方法は、サブポーションの後の除去の領域において、ワックスペーストが、接着される材料層間に塗布され、接着防止材料のワックスが、少なくとも１００℃、特に１２０℃の軟化点または融点を有することを実質的に特徴とする。

特に、設けられるさらなる材料層に対する、その後除去されるサブポーションの接着を防止するために、サブポーションの後の分割または除去の領域において、本発明によって未接着領域を設けることによって、除去されるサブポーションまたは一部を含む材料層の後の分割は、例えば、上記サブポーションの後の除去のための分割深さに対して、分割段階の実現に対する極めて正確な許容範囲に注意を払うことなく確実に行なうことができる。未接着領域または非粘着性領域を設けることによって、配置および接着される材料層および接着に用いる層の製造または調製のための調製段階が容易とされるように、特に、サブポーションの後の分割および除去の領域における接着可能層の任意の予備調製および／または構成を放棄することがさらに可能となった。サブポーションの後の分割または除去の領域において、接着性層または接着層、すなわち設けられる層の予備調製が放棄され得るということにより、接着される金属層間の接着防止材料の薄いまたはより薄いそのような中間層または接着層で済ませることがさらに実現可能である。このように、実質的連続材料層を使用することが本発明によって実現可能であり、未接着領域を形成するための接着防止部分は、簡単な方法で塗布または設けることができる。

プリント回路基板の製造の状況では、そのようなプリント回路基板、特に、リジッドフレキシブルプリント回路基板の小型化が、特に、製造される全体のプリント回路基板を最小限にすることにより実現可能になり、それによって、中間層の必要な予備調製または構成を必要とする時に厚い層を設ける場合、位置あわせ精度に関する公知の従来技術の状況においての上記されるような問題さえ確実に回避されることとなる。

その後除去されるサブポーションの領域に設けられる接着される材料層間の接着がない状態に保たれる部分を形成するために、サブポーションの後の除去の領域では、ワックスペーストが、接着される材料層間に塗布されることが本発明によって提案される。その後除去されるサブポーションの領域において、従って未接着領域または材料層間で粘着性の接着がない部分が、ワックスペーストの形態で接着防止材料を塗布することによって設けられるので、そのようなワックスペーストを、簡単で信頼できる方法で、従って正確に、サブポーションの後の分離または除去に応じて、接着される材料層の接着後に、従って単純化されたプロセス制御で、上記サブポーションの簡単な除去を可能にするように、接着される材料層の１つに確実で正確に塗布することができる。

接着防止材料の塗布によって、非接着による所望の分離効果を得るために、接着防止材料のワックスが、少なくとも１００℃、特に１２０℃の軟化点または融点を有することがさらに本発明により提案される。接着防止材料の層のワックスのそのような高い軟化点または融点は、プリント回路基板の製造において、さらに塗布された接着層を、積層手順の間に、接着または加圧成形サイクルの間のさらなる温度上昇で硬化させ、本発明による材料すなわち接着防止材料を液化させ、従って、接着防止材料によって設けられるとともにサブポーションの後の除去を可能にすることが要求される未接着領域が確実に維持されることを保証する。接着手順の間に、その後除去されるサブポーション内に液体層を形成することによって、接着防止材料は、接着される材料層の連続的な接着、例えば、同時接着を防止することとなる。

材料層の１つのサブポーションの後の除去の目的で、接着がない状態に保たれる部分の特に簡単で位置が正確な塗布については、接着防止材料が、印刷法、特に、スクリーン印刷、ステンシル印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、タンポン印刷、インクジェット印刷等によって塗布可能であり、後の乾燥工程および／または硬化工程を任意に受けることがさらに好ましい実施形態によって提案される。

簡単な処理については、そのようなワックスペーストを、例えば、極性有機溶媒または無極性有機溶媒中でミクロ分散の形態で塗布することができる。

接着防止材料の特に簡単で信頼できる処理のために、接着防止材料は、分離成分、バインダーおよび溶媒を含むことが好ましい実施形態によってもたらされる。分離成分は、接着される材料層間で、その後除去されるサブポーションの領域における接着が確実に防止されることを確保する。バインダーは、特に、支持体すなわち接着手順の間に接着される材料層の１つに接着防止材料を固定する役目をし、完全で問題がない塗布を可能にするレオロジーを調節する。エチルセルロースが、例えば、好ましいバインダーとして使用されてもよい。さらに、そのようなバインダーは、例えば、分離効果すなわち接着防止作用をさらに向上するように隣接する平面材料層の材料中に移動する。溶媒は、例えば、接着防止材料の簡単で信頼できる処理を可能にする役目をする。

接着される材料層の接着を防止する、結果的に簡単で、信頼でき、使用可能で、処理可能な材料を設けるために、接着防止材料が隣接する実質的平坦材料層に対して極性の相違を有することは、さらなる好ましい実施形態によって提供される。接着の防止、すなわち分離効果は、隣接する実質的平坦材料層の材料と接着防止材料との間の不適合および極性の相違に実質的に基づく。この点で、無極性化合物が、接着防止材料におそらく用いられるはずであり、例えば、天然または合成系のワックスが、これに適する。

この状況では、接着防止材料が、炭化水素系ワックスおよび油、ポリエチレン化合物系またはポリプロピレン化合物系ワックスおよび油、有機ポリフルオロ化合物系ワックスおよび油、脂肪酸類とアルコール類またはポリアミド類とのエステル類、有機シリコン化合物、および／またはそれらの混合物を含むことがさらなる好ましい実施形態によって提案される。そのようなワックスおよび油は、使用目的に応じて、接着される材料層に応じて選択可能なように、異なる構成で、異なる化学特性および物理特性で数多く利用可能である。炭化水素系ワックスおよび油は、例えばパラフィン類などの合成または天然系であってもよい。特に、ポリエチレンまたはポリプロピレン化合物系合成ワックスおよび油に加えて、この製品グループの変形例も使用されてもよい。ポリフルオロ有機化合物または有機ポリフルオロ化合物系合成ワックスおよび油に関する限り、ＰＴＦＥが例として挙げられてもよい。脂肪酸エステル系ワックスおよび油、および一価アルコールまたは多価アルコールが、例えば、パルミチン酸またはステアリン酸誘導体、カルナバワックス等の合成または天然系であってもよい。有機シリコン化合物の例としては、例えば、シリコーン、およびシリコーン油が挙げられる。

特に、接着される材料層の、塗布および取り扱いを容易にするために、接着防止材料は、さらに好ましい実施形態として、無機フィラーおよび／または有機フィラーならびに無機添加剤および／または有機添加剤を備えることがさらに提案される。

接着防止材料に比較的高い軟化点をもたらし、例えば、約２００℃未満の沸点を有する溶媒をもたらすことによって、例えば、早期の乾燥の点から、接着防止材料の塗布の間に問題が生じないことが確実にされる。そのような沸点は、さらに、溶媒が、実質的に完全に除去される、またはさらなる温度上昇で蒸発されることを確実にする。

本発明によって提供されるように、除去されるサブポーションの未接着領域を維持する、またはその接着を防止しながら、薄い層厚を望ましく得るために、接着防止材料が、特有のペーストで、２５μｍ未満、特に、１５μｍ未満の層厚で塗布されることがさらに好ましい実施形態によって提案される。さらに、５０μｍ以下の層厚、または、任意でより大きい層厚が、予想されてもよい。

この状況では、接着される材料層が、積層工程によって接着されることがさらに好ましく提案され、それによって、例えば、上記材料に含まれた溶媒の沸点と同様に、接着防止材料の軟化点の点から、本発明による接着防止材料の上述の材料特性により、特に、多層プリント回路基板の製造およびそのような多層プリント回路基板の製造で使用される材料に関する特別の要求が考慮されることができる。

接着される平面材料層を接着した後に除去されるサブポーションの特に信頼でき簡単な除去または分離については、除去されるサブポーションの端領域が、本発明による方法のさらに好ましい実施形態によって、ミリング、スクラッチング、切断、特にレーザー切断によって画定および／または除去されることがさらに提案される。そのようなミリング、スクラッチング、切断等の手順は、このようにして、接着される平坦材料と適合して正確かつ確実に行われることができ、わずかな厚みを有する材料を使用しても、例えば、多層プリント回路基板の製造の状況では、分割手順の結果的に正確で信頼できる実行が実現可能になる。既に上記で指摘されたように、注意を払う許容範囲に関する要求は、さらに、結果的に接着防止材料層によって低減される。

上記目的を解決するために、最初に規定された種類の多層構造体は、さらに、接着防止材料が、ワックスペーストからなり、接着防止材料のワックスが、少なくとも１００℃、特に１２０℃の軟化点または融点を有することを実質的に特徴とする。

このように、除去されるサブポーションの後の除去が、接着防止材料すなわち接着防止材料の設置および簡単な塗布によって可能にされた状態で、多層プリント回路基板の少なくとも２つの実質的平坦または平面材料層間の接着をもたらすことは、容易に実現可能である。さらに、接着される実質的平坦材料層の向上した方向性または位置あわせが確保されることとなる。

接着される実質的平坦材料層の、その後除去されるサブポーションの領域における未接着領域の簡単な形成については、接着防止材料がワックスペーストからなることが好ましい実施形態によって提案される。

サブポーションがその後除去される本発明による多層構造体を製造するために、接着防止材料が、炭化水素系ワックスおよび油、ポリエチレン化合物系またはポリプロピレン化合物系ワックスおよび油、有機ポリフルオロ化合物系ワックスおよび油、脂肪酸類とアルコール類またはポリアミド類とのエステル類、有機シリコン化合物、および／またはそれらの混合物を含むことが、さらに提案されることが好ましい。特に好ましい実施形態によれば、接着防止材料は、無機フィラーおよび／または有機フィラーならびに無機添加剤および／または有機添加剤を備えることがさらに提案される。

本発明による多層構造体の結果的に薄い全体厚みを達成するために、本発明による多層構造体の更に好ましい実施形態によって、２５μｍ未満、特に、１５μｍ未満の層厚で接着防止材料が塗布されることがさらに提案される。

特に信頼できる接着は、接着される材料層が積層工程によって接着されるという点でもたらされることとなる。

接着される実質的平坦材料層の接着後に除去されるサブポーションの信頼できる除去は、さらに、除去されるサブポーションの端領域が、本発明による多層構造体のさらなる好ましい実施形態によって、ミリング、スクラッチング、切断、特に、レーザー切断によって画定可能および／または除去可能であるという点で達成されることとなる。

既に数回指摘されたように、本発明またはその好ましい実施形態による方法、および／または本発明またはその好ましい実施形態による多層構造体が、多層プリント回路基板の製造に使用されることが本発明によってさらに提案される。

特に、本発明によるそのような使用の状況では、本発明による方法、またはプリント回路基板における空洞、特に、三次元空洞の製造のために本発明による多層構造体を使用することが好ましい方法でさらに提案される。

本発明による方法および／または本発明による多層構造体のさらに好ましい用途としては、プリント回路基板の少なくとも１つのチャンネル、プリント回路基板の空洞、特に、三次元空洞の製造のための未接着領域の製造、プリント回路基板のオフセットおよび／または階段状のサブポーションの製造、多層プリント回路基板の内部または内部層内の少なくとも１つの素子、特に、レジスタ素子の非接着、および／またはリジッドフレキシブルプリント回路基板の製造が挙げられる。

以下では、本発明は、本発明による多層構造体を製造するための本発明による方法の、添付図面で概略的に説明された例示の実施形態によってさらに詳細に説明される。

本発明による多層構造体としてのリジッドフレキシブルプリント回路基板のリジッド部の形態で、本発明によって製造される多層構造体の平坦材料層の第１の実施形態の概略断面図である。 図１の断面図に類似する説明図において、リジッドフレキシブルプリント回路基板のリジッド部の断面図であり、ミリング端が、除去されるリジッド部のサブポーションの後の分割の領域に設けられている図である。 図１および図２の断面図に類似する説明図において、リジッドフレキシブルプリント回路基板のリジッド部の断面図であり、未接着領域を形成して、プリント回路基板のリジッド部およびフレキシブル部によって形成される実質的平坦材料層間の直接接着を防ぐために、ミリング端と同様に、後の分割の領域に、接着防止材料が設けられるまたは塗布されている図である。 図１から図３の断面図に類似するさらに他の断面図であり、第２の実質的平坦材料層としての非導電性材料すなわち誘電体の層およびリジッドフレキシブルプリント回路基板のフレキシブル部が、第１の材料層のリジッド部に配置または固定されている図である。 さらなる同様の断面図において、本発明による多層構造体を、リジッド部の分割後のリジッドフレキシブルプリント回路基板の形態で表す図である。 本発明の方法によって製造される本発明による多層構造体としてのプリント回路基板の実質的平坦材料層の改変された実施形態の概略断面図である。 接着防止材料の層が塗布された状態の、図６で説明された平坦材料層の概略断面図である。 図６および図７で説明された平坦材料層の概略断面図であり、平坦材料層が、少なくとも１つのさらなる平坦材料層と接着されて、本発明による多層構造体としての多層プリント回路基板を製造する図である。 図８の断面図に類似する説明図において、切断によって領域を定められ、または画定され、その後除去される多層構造体のサブポーションの概略断面図である。 切断されたまたは領域が定められたサブポーションが除去された状態の、図９の断面図に類似する説明図である。

本発明による多層構造体の第１の実施形態は、本発明による方法を使用してリジッドフレキシブルプリント回路基板として製造され、図１から図５を参照して説明される。

図１は、多層構造体としてその後製造されるリジッドフレキシブルプリント回路基板の第１の実質的平坦または平面材料層としてのリジッド多層部１の概略説明図である。個々の金属層すなわち銅層３が、例えば、プリプレグ層２およびコア４によって分離されている。個々の銅層３間の接続は、通路６を介してそれぞれ示されている。

リジッドフレキシブルプリント回路基板の製造については、図２に示すように、製造されるリジッドフレキシブルプリント回路基板のリジッド多層部１の後の分割の領域に、ミリング端７が形成されている。

未接着領域を設ける、またはその後分割されるプリント回路基板のリジッド部１と、フレキシブル部に接着するためのプリント回路基板の第２の実質的平坦材料層として設けられるとともに配置される非導電性材料または誘電体の層との間の直接接着を防ぐために、そのような接着または貼り付きを防ぐ材料８が、図１から図５に表された実施形態において、後の分割の領域内およびミリング端７によって形成されたチャンネルまたは溝内にミリング端７の形成後に設けられる。接着防止材料は、例えば、ワックスペースト８からなってもよく、そのようなワックスペースト８は、簡単な方法段階、例えば、印刷法、特に、スクリーン印刷またはステンシル印刷によって、ミリング端７内へと同様に、後の分割の領域内に塗布または導入される。用いる材料８すなわちワックスペーストに応じて、乾燥工程および／または硬化工程が、材料すなわちペースト８の塗布後に設けられてもよい。

材料すなわちペースト８は、極性または無極性有機溶媒中で、ミクロ分散の形態で塗布されることができる。簡単な加工性、および簡単な取り扱いのために、ペースト８が、例えば、ポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックス、テフロン（登録商標）系ワックスおよび／またはそれらの混合物からなることがさらにもたらされる。

加工性をさらに向上するために、ペースト８は、無機フィラーおよび／または有機フィラーならびに無機添加剤および／または有機添加剤を備えていることがさらに意図されてもよい。

従って、製造されるリジッドフレキシブルプリント回路基板の薄い層厚または全体厚みを達成するために、ペーストすなわち接着防止材料８が、後の分割の領域内において、２５μｍ未満、特に、２０μｍ未満の層厚で塗布されることがさらにもたらされる。

一方、図１から図５で表される実施形態において、ミリング端７の形成は、接着防止材料すなわちペースト８の塗布に先立ってもたらされ、ペースト８は、プリント回路基板のリジッド、特に、多層部分の後の分割の領域に代わりに塗布されてもよく、その後、ミリング端７は、塗布された材料８を通す。

図４に示すように、ミリング端７と同様に、後の分割の領域における接着防止材料すなわちワックスペースト８の塗布後、非導電性材料または誘電体の接着層９の塗布または配置を行い、上記接着層９は、それ自体公知の薄片、例えば、プリプレグまたはＲＣＣ薄片、または液体誘電体でさえからなる。非導電性材料すなわち誘電体の層９に次いで、製造されるリジッドフレキシブルプリント回路基板のフレキシブル部１０が示されており、製造されるリジッドフレキシブルプリント回路基板のフレキシブル部１０は、リジッド部１のように、いくつかの層からなっていてもよい。

非導電性すなわち誘電体層９が設けられる準備段階が、単純化または低減されるように、特に、ミリング端７の領域における後の分割の領域で、接着防止材料８すなわちワックスペーストの配置によって、非導電性すなわち誘電体層９が設けられるための予備調製および／または構成が放棄されることができる。

製造されるリジッドフレキシブルプリント回路基板のリジッド部１上の、材料８の塗布の領域または区域に、未接着領域を設けることによって、層９のより薄い層厚が、さらに可能であり、上記厚みは、例えば、５０μｍ未満、特に、４０μｍ以下であるように選択される。製造されるリジッドフレキシブルプリント基板のリジッド部１とフレキシブル部１０との間に配置される非導電性材料の層のそのような薄い層厚を設けることは、製造されるリジッドフレキシブルプリント回路基板の全体厚みの低減を容易にするだけでなく、接着される部分および後の通路またはマイクロビアの位置決めおよび位置あわせ精度も向上する。

図５は、多層構造体としての、リジッド部１およびフレキシブル部１０によって形成されたリジッドフレキシブルプリント回路基板の断面図を表し、ミリング端７の領域において、次いで分離されるリジッドサブポーション１２および１３間に分割１１が作製される。上記分割１１は、平坦材料層の接着後に、その後除去されるサブポーションを構成する。プリント回路基板のフレキシブル部１０と次いで分離されるリジッドサブポーション１２および１３との接続が、さらなるマイクロビア１４によって達成可能であることがさらに示されている。

図５による説明からさらに明らかなように、除去される分割またはサブポーション１１の切断深さの点から非常に正確な許容範囲を検討または許容範囲に注意を払う必要なく、接着防止材料８の塗布によって、非接着表面を設けるすなわち接着を防ぐことによって、分割の製造、従って、後の方法段階も容易にすることが可能である。

接着防止材料すなわちワックスペースト８、およびリジッド部１すなわちその後分離されるそれぞれリジッド部１２および１３とプリント回路基板のフレキシブル部１０との間に配置される非導電性または誘電体の層９の適切な選択によって、電気および電子機器において、特定の危険物を使用する場合に必要な法的制限を考慮に入れることが容易に実現可能である。

特に、分割を実現するためのその後の方法段階と同様に、フレキシブル部１０とリジッド部１との間に配置される層９の調製または製造において、接着防止材料すなわちワックスペースト８を塗布して、未接着領域を設けることによって、簡単な方法段階が可能となる。

リジッド部１と同様にフレキシブル部１０およびそれぞれ相互に分離されたリジッド部１２および１３を接着するための薄い層厚、および位置あわせ精度の従って生じる改良と同様にこのように達成可能な薄い層厚を使用することによって、大きな構成においてでさえ、例えば、１８×２４インチより大きいＨＤＩ回路基板の製造構成において、プリント回路基板に非常に複雑な部品のためのフレキシブル層１０を備えることがさらに可能となった。

多層リジッドプリント回路基板、すなわちプリント回路基板のリジッド部１の実施形態は、図１から図５に表され、例示の目的のために多層構造体としてのそのような多層プリント回路基板の単純化された例を単に表し、多数または複数の、特に、導電層３およびマイクロビア５または通路６および１４を介してのフィードスルーも、それぞれ、製造される部品の所望の複雑性に応じて使用されてもよい。

図６から図１０で説明される改変された多層構造体の例示の実施形態において、さらに、製造される多層プリント回路基板の形態で、そのようなプリント回路基板の構造化されたコアは、概して２０で表され、コア２０は、特に、図６に図示される上部層が結果的に構造化された状態でいくつかの層を含む。

コア２０は、１つまたはいくつかの層からなるとともに実質的平坦材料層を構成し、サブポーション内に、さらなる実質的平坦材料層としてのさらなる層と接着するための接着防止材料すなわち接着防止材料２１をその後備え、図７で説明されるように、上記接着防止材料は、例えば、スクリーン印刷によって塗布される。

図７に説明されるようにコア２０によって形成された実質的平坦材料層上への接着防止材料２１の塗布後に、複数のさらに実質的平坦材料層２２および２３と平坦コア２０の、それ自体が公知の方法、例えば、積層工程による接着が達成され、サブポーションは、図８において２１でさらに表される接着防止材料を備えている。図８に説明される平面材料層２３は、さらに、その上面上に、それに応じて構造化されていてもよい。

複数の実質的平坦材料層２０、２２および２３間の、図８に説明された接着手順後に、図９から明らかなように、切断ラインすなわち圧痕２４を形成しながら、実質的平坦材料層２３のサブポーション２５の限界または画定が、例えば、切断、特に、レーザー切断によって達成される。除去されるサブポーション２５の下に設けられる接着防止材料２１は、切断ラインすなわち限界圧痕２４の形成後に簡単な方法で実現可能な状態であり、図１０に説明または示されるように、サブポーション２５の除去は、簡単で信頼できる。

図６から図１０に図示される実施形態において、さらなる層が、個々の実質的平面材料層間に示されており、さらなる層は、多層プリント回路基板の製作の状況などで公知であり、従って、詳細に検討しない。

また、図６から図１０による実施形態から、例えば、ワックスペーストからなる接着防止材料２１を塗布することによって、実質的平坦材料、すなわち材料層２０、２２および２３を接着する状況で設けられる未接着領域が、接着される少なくとも１つの実質的平坦層２３のサブポーション２５の簡単で信頼できる除去をその後可能にすることがはっきりと明らかである。

図９で説明され検討された切断、例えばレーザー切断操作は、例えば、図１から図５による実施形態に記載されるようなミリング操作、またはスクラッチングまたは少なくとも１つの材料層２３の同様の分割操作によって置換されてもよい。

図６から図１０による実施形態から、サブポーション２５を除去することによって、多層プリント回路基板のサブポーションまたは個々の層内に空洞２６、特に、三次元空洞が例えば作り出されることができることは明らかである。

さらに、多層プリント回路基板の内部領域または内部層内に分離された素子をその後に配置するために、サブポーションまたは素子２５を除去することによって形成されたそのような空洞２６を使用することができる。

さらに、サブポーションを除去することによって、特別の用途用のオフセットおよび／または階段状のサブポーションを備えたプリント回路基板の製作が可能となる。

接着防止材料８および２１は、それぞれ、上記実施形態で言及された材料に加えて、例えば、炭化水素系ワックスおよび油、ポリエチレン化合物系またはポリプロピレン化合物系ワックスおよび油、有機ポリフルオロ化合物系ワックスおよび油、脂肪酸類とアルコール類またはポリアミド類とのエステル類、有機シリコン化合物、および／またはそれらの混合物も含んでもよい。

そのような多層構造体は、また、多層プリント回路基板の多層構造体を形成する代わりに、上記例示の実施形態に開示されるように、プリント回路基板の製造に使用される材料と異なる材料、例えば、箔またはシート状材料または板状材料によって形成されてもよい。例えば、接着剤または接着箔の予備調製または構成が接着層のために放棄される、実質的平坦材料層の簡単で信頼できる接着後、またはその接着の間に、実質的連続材料層のそのような単純化された接着後に、接着防止材料８または２１をそれぞれ設けるまたは塗布することによって、簡単で確実にサブポーションを除去することができる。

接着防止材料８または２１の塗布のための上記例示の実施形態において言及された印刷法、例えば、スクリーン印刷に加えて、オフセット印刷、フレキソ印刷、タンポン印刷、インクジェット印刷等が、それぞれ、特に、接着防止材料の種類に応じて設けられるまたは使用されてもよい。

この接着防止材料は、それぞれその後除去される部分１１または２５の信頼できる分離または除去のために、特に、ワックスペーストの形態で、特に、接着防止材料８または２１を使用する場合、隣接する実質的平坦材料層との不適合と同様に極性の適切な相違を示すことが注意される。

プリント回路基板の製造の状況において、多層プリント回路基板の頻繁に使用される層としての例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂および銅との極性の相違および不適合が考慮される。

接着防止材料８または２１の構造化された塗布の、本発明によってもたらされる選択によって、後の方法段階は、特に、多層構造体のその後除去可能なサブポーション１１または２５の除去に関連して、簡単な方法で容易にされる。

例えば、簡単な印刷技術によって塗布可能である接着防止材料層８または２１を使用することによって、従来技術において、例えば、分離箔のために設けられる構成および調製技術が取り除かれることができる。

ワックスペーストを接着防止材料８または２１に使用する場合、例えば、サブポーション１１または２５の除去後に任意に残る接着防止材料８または２１の残留物が、さらに、簡単で、信頼でき、特に、完全な方法で除去されることができることがさらに有利である。

特に、プリント回路基板の製造または処理の状況において、非接着、すなわち接着防止材料８または２１を設けると、既に言及されたように、例えば、局部的な厚みの低減によって、さらなる部品のためのスペース２６の形成が可能となる。特に、そのような多層プリント回路基板の内部に実質的にそのようにスペース２６を設けると、プリント回路基板の小型化の要求を考慮するように、そのような部品の埋め込みによってそのような多層プリント回路基板の全体厚みの低減がさらに可能となる。

局部的な厚みの低減によって、例えば、そのような凹部すなわち空洞２６の底に直接、図１０に示されるように、特に、任意に残る接着防止材料２１の除去後に、除去されたサブポーション２５の領域に配置される部品が接触することが可能となった。そうする場合、図１０に説明されるように、その後製造される空洞２６の領域に、図６に設けられた材料層２０の場合には、例えば、それぞれの接触素子または導電構造体を配置することが簡単な方法で可能である。

既に上に指摘されるように、空洞２６を形成しながらのサブポーション２５の後の除去も、従って三次元の開口または任意に閉じた空洞が設けられることを実現可能にし、例えば、図１０で表した状態から逸脱する場合、多層プリント回路基板のさらなる層を設けることが実現可能である。

接着防止材料８または２１の適切な選択または配置によって、さらに、例えば、第１の実施形態を参照して図５に示すように、そのような多層導電構造体のいくつかの層にわたって空洞２６の形成を可能にする。

プリント回路基板の製造の状況では、このように、例えば、サブポーション２５を除去することにより、レジスタ素子の結果として単純化された非接着をもたらすこともできる。

階段状のまたはオフセットのサブポーションの形成は、例えば、多層プリント回路基板のはさまれた部分またはオーバーラップする部分の生成を可能にする。

接着防止材料８または２１の塗布によるサブポーションまたは一部の除去によって、例えば、接着防止材料が、部品の完全な代用を要求するのではなく、そのような部品がない場合にはサブポーションの除去によってプリント回路基板の修理を可能にするように、高い不良または損傷率を任意に受ける部品の領域に予防策として結果として設けられるなら、さらに、例えば、既存または実装プリント回路基板の修理オプションに埋め込み部品を提供することが実現可能であり、従って、部品の簡単な交換および接着される少なくとも２つの実質的平坦材料層からなる多層構造体の簡単な提供を可能にする。

Claims (7)

1. リジッド部（１）と、前記リジッド部（１）に積層されるフレキシブル部（１０）とを含んで構成されるリジッドフレキシブルプリント回路基板の製造において、前記リジッド部（１）の複数のサブポーション（１２、１３）への分割のために当該リジッド部（１）を形成する平坦または平面の材料層（３）の一部を除去する方法であって、
   前記材料層（３）が、銅からなる金属層であり、当該材料層（３）と前記フレキシブル部（１０）を形成する層とを接合する、平坦または平面の少なくとも１つのさらなる材料層（９）と接着され、
   前記一部（１１）が除去される材料層（３）の領域または区域において、前記さらなる材料層（９）に対する当該材料層（３）の直接接着がない状態が維持され、当該直接接着のない状態が、材料層（３、９）同士の接着を妨げる接着防止材料（８）を塗布することにより、これらの材料層（３、９）の間に接着層を介在させることなく接着防止材料（８）を介在させることで実現され、
   接着防止材料（８）が、さらなる材料層（９）の硬化を生じさせる、フレキシブル部（１０）の積層に関する接続または加圧工程における温度上昇に対し、当該材料（８）の融解を生じるほどに高い軟化点または融点を有し、
   接着防止材料（８）が、ワックス成分を溶媒中に分散させたワックスペーストの状態で塗布され、さらに、接着防止材料（８）が、分離成分およびバインダーを含む、方法。
2. 接着防止材料（８）が、印刷によって塗布されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
3. 接着防止材料（８）が、隣接する材料層に対して極性の相違を有することを特徴とする、請求項１または２に記載の方法。
4. 接着防止材料（８）が、炭化水素系ワックスおよび油、ポリエチレン化合物系またはポリプロピレン化合物系ワックスおよび油、有機ポリフルオロ化合物系ワックスおよび油、脂肪酸類とアルコール類またはポリアミド類とのエステル類、有機シリコン化合物、および／またはそれらの混合物を含むことを特徴とする、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
5. 接着防止材料（８）が、無機フィラーおよび／または有機フィラー、ならびに無機添加剤および／または有機添加剤を含むことを特徴とする、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
6. 接着防止材料（８）が、２５μｍ未満の層厚で塗布されることを特徴とする、請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
7. 前記材料層の除去される一部（１１）の端領域が、ミリング、スクラッチングまたは切断によって画定および／または除去されることを特徴とする、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。

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