JP5809180B2 - 蒸発源、蒸発源アセンブリー及び蒸着装置 - Google Patents
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- 238000001704 evaporation Methods 0.000 title claims description 204
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 title claims description 203
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims description 59
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 125
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 112
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 58
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 claims description 49
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 34
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims description 30
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims description 11
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 9
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 9
- 150000004767 nitrides Chemical group 0.000 claims description 7
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 claims description 7
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 5
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 5
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 5
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 claims 1
- RTAQQCXQSZGOHL-OIOBTWANSA-N titanium-45 Chemical compound [45Ti] RTAQQCXQSZGOHL-OIOBTWANSA-N 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 52
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 52
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 48
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 34
- 239000010408 film Substances 0.000 description 15
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 description 12
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 11
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 8
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 6
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910001026 inconel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000005997 Calcium carbide Substances 0.000 description 1
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000000191 radiation effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- CLZWAWBPWVRRGI-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-[2-[2-[2-[bis[2-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-2-oxoethyl]amino]-5-bromophenoxy]ethoxy]-4-methyl-n-[2-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-2-oxoethyl]anilino]acetate Chemical compound CC1=CC=C(N(CC(=O)OC(C)(C)C)CC(=O)OC(C)(C)C)C(OCCOC=2C(=CC=C(Br)C=2)N(CC(=O)OC(C)(C)C)CC(=O)OC(C)(C)C)=C1 CLZWAWBPWVRRGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Description
20 蒸着物質貯蔵部、
30 ノズル部、
40 加熱部、
50 反射板、
60 ハウジング、
100 蒸発源、
250 マスク、
200 基板、
300 チャンバー。
Claims (50)
- 一面が開口されたハウジングと、
前記ハウジングの内部に位置し、内部に有機物が貯蔵され、一面が開口された貯蔵部と、
前記貯蔵部の開口された部分に連結され、蒸着物を噴射するノズル部と、
前記貯蔵部と前記ハウジングとの間に介在される加熱部と、を含み、
前記貯蔵部には、漏洩防止部材がコートされ、
前記漏洩防止部材は、前記貯蔵部の外面にコートされたものであることを特徴とする蒸発源。 - 前記貯蔵部は、黒鉛よりなることを特徴とする請求項1に記載の蒸発源。
- 前記漏洩防止部材は、ニッケルであることを特徴とする請求項1または2に記載の蒸発源。
- 前記漏洩防止部材は、タングステン、レニウム、タンタル、モリブデン、ニオブ、バナジウム、ハフニウム、ジルコニウム、チタンのような高融点金属のうちいずれか1つよりなることを特徴とする請求項1または2に記載の蒸発源。
- 前記漏洩防止部材は、酸化物であることを特徴とする請求項1または2に記載の蒸発源。
- 前記漏洩防止部材は、炭化物であることを特徴とする請求項1または2に記載の蒸発源。
- 前記漏洩防止部材は、窒化物であることを特徴とする請求項1または2に記載の蒸発源。
- 前記ノズル部は、黒鉛よりなることを特徴とする請求項1から7のいずれかに記載の蒸発源。
- 前記ノズル部には、前記漏洩防止部材がコートされることを特徴とする請求項1から8のいずれかに記載の蒸発源。
- 前記漏洩防止部材は、前記ノズル部の内部にコートされたものであることを特徴とする請求項9に記載の蒸発源。
- 前記漏洩防止部材は、前記ノズル部の外面にコートされたものであることを特徴とする請求項9に記載の蒸発源。
- 前記漏洩防止部材は、ニッケルであることを特徴とする請求項9から11のいずれかに記載の蒸発源。
- 前記漏洩防止部材は、タングステン、レニウム、タンタル、モリブデン、ニオブ、バナジウム、ハフニウム、ジルコニウム、チタンのような高融点金属のうちいずれか1つよりなることを特徴とする請求項9から11のいずれかに記載の蒸発源。
- 前記漏洩防止部材は、酸化物であることを特徴とする請求項9から11のいずれかに記載の蒸発源。
- 前記漏洩防止部材は、炭化物であることを特徴とする請求項9から11のいずれかに記載の蒸発源。
- 前記漏洩防止部材は、窒化物であることを特徴とする請求項9から11のいずれかに記載の蒸発源。
- 前記ノズル部は、
蒸着物粒子を前記基板上に噴射する蒸着物噴射ノズルと、
前記貯蔵部の蒸着物の飛散を防止する飛散防止膜と、
を含むことを特徴とする請求項1から16のいずれかに記載の蒸発源。 - 請求項1から17のいずれかに記載の蒸発源は、前記ハウジングの内壁に取り付けられる内部熱反射板をさらに含むことを特徴とする。
- 請求項1から18のいずれかに記載の蒸発源は、前記ノズル部の基板方向の外部面に取り付けられる熱遮断板をさらに含むことを特徴とする。
- 請求項1から19のいずれかに記載の蒸発源は、前記加熱部の一側に位置し、前記貯蔵部と前記ハウジングとの間に位置する多数の第1支持手段をさらに含み、前記多数の第1支持手段は、前記貯蔵部及び前記ハウジングの各々の所定部分に接触することを特徴とする。
- 前記多数の第1支持手段は、線状形態、点状形態またはこれらの結合形態よりなることを特徴とする請求項20に記載の蒸発源。
- 前記多数の第1支持手段のうち少なくとも1つの第1支持手段は、前記貯蔵部の一側面の中央部に固定される固定−第1支持手段であることを特徴とする請求項20または21に記載の蒸発源。
- 前記貯蔵部の一側面の中央部に対応する前記貯蔵部の長手方向に対する中央部に凹凸部が設けられることを特徴とする請求項22に記載の蒸発源。
- 前記固定−第1支持手段は、前記ハウジングとの間で拘束されて固定されることを特徴とする請求項22または23に記載の蒸発源。
- 前記ハウジングは、前記多数の第1支持手段に各々連結される第2支持手段をさらに含むことを特徴とする請求項20から24のいずれかに記載の蒸発源。
- 前記多数の第1支持手段のうち中央に配置される第1支持手段は、前記第2支持手段と連結して固定されることを特徴とする請求項25に記載の蒸発源。
- 前記第2支持手段は、両側面部にトレンチが形成され、前記トレンチを介して挿入されて組み立てられる内部熱反射板をさらに含むことを特徴とする請求項25または26に記載の蒸発源。
- 前記多数の第1支持手段は、前記ノズル部を支持する支持手段をさらに含むことを特徴とする請求項20から27のいずれかに記載の蒸発源。
- 請求項20に記載の蒸発源と、
該蒸発源を少なくとも1つまたは2つ以上を収納する外部ハウジングと、を含むことを特徴とする蒸発源アセンブリー。 - 請求項29に記載の蒸発源アセンブリーは、前記蒸発源と前記外部ハウジングとの間に位置する、前記外部ハウジングに前記蒸発源を連結して支持する多数の第3支持手段を含むことを特徴とする。
- 前記多数の第3支持手段は、前記蒸発源の所定部分に接触することを特徴とする請求項30に記載の蒸発源アセンブリー。
- 前記多数の第3支持手段は、前記蒸発源の長手方向に対する中央部に固定される固定−第3支持手段を含むことを特徴とする請求項30または31に記載の蒸発源アセンブリー。
- 一面が開口されたハウジングと、
前記ハウジングの内部に位置し、内部に蒸着物が貯蔵され、一面が開口された貯蔵部と、
前記貯蔵部の開口された部分に連結され、蒸着物粒子を基板上に噴射する噴射ノズルと、
前記貯蔵部の蒸着物の飛散を防止する飛散防止膜と、を含むノズル部と、
前記貯蔵部と前記ハウジングとの間に介在される加熱部と、
前記ハウジングの内壁に設けられ、前記加熱部からの熱を前記貯蔵部に反射する熱反射板と、
前記ノズル部の基板方向の外部面に取り付けられる熱遮断板と、を含み、
前記貯蔵部には、漏洩防止部材がコートされ、
前記漏洩防止部材は、前記貯蔵部の外面にコートされたものであることを特徴とする蒸着装置。 - 前記ハウジングは、1〜5mmの厚みを有することを特徴とする請求項33に記載の蒸着装置。
- 前記貯蔵部は、1〜5mmの厚みを有することを特徴とする請求項33または34に記載の蒸着装置。
- 前記貯蔵部は、黒鉛よりなることを特徴とする請求項33から35のいずれかに記載の蒸着装置。
- 前記漏洩防止部材は、ニッケルであることを特徴とする請求項33から36のいずれかに記載の蒸着装置。
- 前記漏洩防止部材は、タングステン、レニウム、タンタル、モリブデン、ニオブ、バナジウム、ハフニウム、ジルコニウム、チタンのような高融点金属のうちいずれか1つよりなることを特徴とする請求項33から36のいずれかに記載の蒸着装置。
- 前記漏洩防止部材は、酸化物であることを特徴とする請求項33から36のいずれかに記載の蒸着装置。
- 前記漏洩防止部材は、炭化物であることを特徴とする請求項33から36のいずれかに記載の蒸着装置。
- 前記漏洩防止部材は、窒化物であることを特徴とする請求項33から36のいずれかに記載の蒸着装置。
- 前記ノズル部は、黒鉛よりなることを特徴とする請求項33から41のいずれかに記載の蒸着装置。
- 前記ノズル部には、前記漏洩防止部材がコートされることを特徴とする請求項42に記載の蒸着装置。
- 前記漏洩防止部材は、前記ノズル部の内部にコートされたものであることを特徴とする請求項43に記載の蒸着装置。
- 前記漏洩防止部材は、前記ノズル部の外面にコートされたものであることを特徴とする請求項43に記載の蒸着装置。
- 前記漏洩防止部材は、ニッケルであることを特徴とする請求項43から45のいずれかに記載の蒸着装置。
- 前記漏洩防止部材はタングステン、レニウム、タンタル、モリブデン、ニオブ、バナジウム、ハフニウム、ジルコニウム、チタンのような高融点金属のうちいずれか1つよりなることを特徴とする請求項43から45のいずれかに記載の蒸着装置。
- 前記漏洩防止部材は、酸化物であることを特徴とする請求項43から45のいずれかに記載の蒸着装置。
- 前記漏洩防止部材は、炭化物であることを特徴とする請求項43から45のいずれかに記載の蒸着装置。
- 前記漏洩防止部材は、窒化物であることを特徴とする請求項43から45のいずれかに記載の蒸着装置。
Applications Claiming Priority (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020040098270A KR100685431B1 (ko) | 2004-11-26 | 2004-11-26 | 유기물 증착원 |
KR10-2004-0098270 | 2004-11-26 | ||
KR1020050013298A KR100796589B1 (ko) | 2005-02-17 | 2005-02-17 | 증발원 및 그를 포함하는 증착장치 |
KR10-2005-0013298 | 2005-02-17 | ||
KR10-2005-0014713 | 2005-02-22 | ||
KR1020050014713A KR100712117B1 (ko) | 2005-02-22 | 2005-02-22 | 증발원 및 그를 포함하는 증착장치 |
KR1020050018833A KR100623729B1 (ko) | 2005-03-07 | 2005-03-07 | 증발원과 이를 구비한 증발원 어셈블리 |
KR10-2005-0018833 | 2005-03-07 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010003358A Division JP5261404B2 (ja) | 2004-11-26 | 2010-01-08 | 蒸発源及びこれを備えた蒸着装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013144850A JP2013144850A (ja) | 2013-07-25 |
JP5809180B2 true JP5809180B2 (ja) | 2015-11-10 |
Family
ID=36631068
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005339520A Active JP4557170B2 (ja) | 2004-11-26 | 2005-11-24 | 蒸発源 |
JP2010003358A Active JP5261404B2 (ja) | 2004-11-26 | 2010-01-08 | 蒸発源及びこれを備えた蒸着装置 |
JP2013041011A Active JP5809180B2 (ja) | 2004-11-26 | 2013-03-01 | 蒸発源、蒸発源アセンブリー及び蒸着装置 |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005339520A Active JP4557170B2 (ja) | 2004-11-26 | 2005-11-24 | 蒸発源 |
JP2010003358A Active JP5261404B2 (ja) | 2004-11-26 | 2010-01-08 | 蒸発源及びこれを備えた蒸着装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (3) | JP4557170B2 (ja) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100729097B1 (ko) * | 2005-12-28 | 2007-06-14 | 삼성에스디아이 주식회사 | 증발원 및 이를 이용한 박막 증착방법 |
WO2008016247A1 (en) * | 2006-08-04 | 2008-02-07 | Soonchunhyang University Industry Academy Cooperation Foundation | Linear deposition sources for deposition processes |
EP2168644B1 (en) * | 2008-09-29 | 2014-11-05 | Applied Materials, Inc. | Evaporator for organic materials and method for evaporating organic materials |
JP5311985B2 (ja) * | 2008-11-26 | 2013-10-09 | キヤノン株式会社 | 蒸着装置および有機発光装置の製造方法 |
KR101094299B1 (ko) | 2009-12-17 | 2011-12-19 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 선형 증발원 및 이를 포함하는 증착 장치 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
2005
- 2005-11-24 JP JP2005339520A patent/JP4557170B2/ja active Active
-
2010
- 2010-01-08 JP JP2010003358A patent/JP5261404B2/ja active Active
-
2013
- 2013-03-01 JP JP2013041011A patent/JP5809180B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010121214A (ja) | 2010-06-03 |
JP5261404B2 (ja) | 2013-08-14 |
JP2006152440A (ja) | 2006-06-15 |
JP4557170B2 (ja) | 2010-10-06 |
JP2013144850A (ja) | 2013-07-25 |
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Legal Events
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A02 | Decision of refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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