JP4090039B2 - 蒸着装置における蒸発源 - Google Patents
蒸着装置における蒸発源 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4090039B2 JP4090039B2 JP2003111991A JP2003111991A JP4090039B2 JP 4090039 B2 JP4090039 B2 JP 4090039B2 JP 2003111991 A JP2003111991 A JP 2003111991A JP 2003111991 A JP2003111991 A JP 2003111991A JP 4090039 B2 JP4090039 B2 JP 4090039B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- crucible body
- heating
- heated
- vapor deposition
- auxiliary
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 title claims description 47
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 title claims description 46
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims description 30
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 103
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 32
- 238000002791 soaking Methods 0.000 claims description 28
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/26—Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ルツボに収納した蒸着材料を加熱し昇華もしくは溶融蒸発させて、基板に蒸着材料を膜付けする蒸着装置における蒸発源に関するものである。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
例えば、有機ＥＬの作製において粉体状の有機材料をガラス基板に蒸着する際、蒸発源としては、図４に示すような抵抗加熱方式(電源により、ヒーター２に電流を流し加熱させてその輻射熱で金属、窒化ボロン、カーボン、石英ガラスなどで作られたルツボ体１を加熱し、ルツボ体１の熱で有機材料を加熱し、昇華あるいは溶融蒸発させる方式）が一般に採用されている。
【０００３】
蒸発源は従来、この図４のように、円筒状のルツボ体１の外周面部にヒーター（電熱線）２を配設した煙突構造により構成している。
【０００４】
しかし、このような蒸発源は、加熱時に直接ヒーターの熱が加わらないルツボ上部の蒸発口３において、温度分布がルツボ体１下部より低くなり、昇華あるいは蒸発した有機材料が、蒸発口の周囲に付着する場合がある。
【０００５】
その結果、基板への蒸着速度が次第に低下していき、蒸着時間が長くなり、スループットの低下が問題となる。また、ルツボの洗浄等、メンテナンスの面でも問題となる。
【０００６】
そこで、蒸発口の温度低下を防止するために、ルツボ体の外周面部だけでなく、ルツボ体上部にもヒーターを設けることも考えられるが、ルツボ上部は有機材料の出し入れの際に開閉させる必要があり、この着脱させる開閉蓋にヒーターを配設すると、開閉操作が不便となったり、配線のために構造が複雑になる等、様々な困難が生じる。
【０００７】
また、ヒーターを上下二段に分け、上側のヒーター温度を下側に比して高く制御するゾーンコントロール方式も考えられているが、一般にルツボ体が小さく、構造が複雑になってしまい、温度コントロールが非常に難しいため、小型化、簡素化、ひいては低価格化が難しい現状にある。
【０００８】
本発明は、このような現状に鑑み、これを解決するもので、簡単な改良によって、ヒーター等で直接加熱されないルツボ上面部（ルツボ体上部の蒸発口の周囲）の温度を常にルツボ体外周面部と同等の温度に上昇させることができ、そのため、蒸発口が詰まりにくく、蒸着の際の均一性が良く、小型で温度制御が非常に簡単となる等多くの利点を有する画期的な蒸発源を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
添付図面を参照して本発明の要旨を説明する。
【００１０】
蒸着材料を収納するルツボ体１に加熱部２を設け、この加熱部２により蒸着材料を加熱し昇華若しくは溶融蒸発させて前記ルツボ体１上部の蒸発口３より蒸発させて、上方の基板４に前記蒸着材料を膜付けする蒸着装置における蒸発源において、前記加熱部２の上部外側に垂下配設される前記ルツボ体１の外周面部とは別の被加熱補助部５と、この被加熱補助部５に一体連設し伝導加熱され少なくとも前記ルツボ体１の上部であって前記蒸発口３の周囲に配設される伝導加熱部６とにより構成された均熱蓋部７を設け、この均熱蓋部７は前記ルツボ体１の上部に付設するか若しくは前記均熱蓋部７を前記ルツボ体１の上部部分として形成し、前記ルツボ体１の上面部に重合配設される前記均熱蓋部７の伝導加熱部６若しくは前記ルツボ体１の上面部を形成する均熱蓋部７の伝導加熱部６は、前記加熱部２により輻射加熱されるルツボ体１の外周面部および均熱蓋部７の被加熱補助部５からの熱伝導により加熱上昇するように構成して、前記ルツボ体１の上部の蒸発口３の周囲の加熱時の温度を上昇させたことを特徴とする蒸着装置に係るものである。
【００１１】
また、前記均熱蓋部７若しくは少なくとも均熱蓋部７の伝導加熱部６を、前記ルツボ体１に対して着脱自在に設けたことを特徴とする請求項１記載の蒸着装置における蒸発源に係るものである。
【００１２】
また、前記加熱部２は、前記ルツボ体１の外周面部に配設した構成とし、前記均熱蓋部７の前記被加熱補助部５は、前記加熱部２と対向状態に近接若しくは当接して、前記ルツボ体１外周面部と同等に加熱されないルツボ体１の上面部に、前記被加熱補助部５からの熱伝導により加熱される前記伝導加熱部６を配設若しくはこの伝導加熱部６で前記ルツボ体１の上面部を形成したことを特徴とする請求項１，２のいずれか１項に記載の蒸着装置における蒸発源に係るものである。
【００１３】
また、前記ルツボ体１の外周面部に配設した加熱部２の上部の内側及び外側に前記均熱蓋部７の被加熱補助部５を垂下配設、若しくは内側に前記ルツボの外周面が配設される前記加熱部２の上部外側に前記均熱蓋部７の被加熱補助部５を垂下配設したことを特徴とする請求項３記載の蒸着装置における蒸発源に係るものである。
【００１４】
【発明の実施の形態】
好適と考える本発明の実施の形態（発明をどのように実施するか）を、図面に基づいてその作用効果を示して簡単に説明する。
【００１５】
加熱部２によりルツボ体１の外周面部が加熱されてルツボ体１内の蒸着材料が加熱され、昇華若しくは溶融蒸発し、ルツボ体１上面部の蒸発口３から蒸発するが、この加熱部２によりルツボ体１の上面部は直接加熱されず、このルツボ体１の上面部は加熱部２により加熱される外周面部からの熱伝導により加熱されるため、外周面部程、温度が上昇しない場合がある。
【００１６】
しかし、本発明は、外周面部からの熱伝導だけでなく、加熱部２により均熱蓋部７の被加熱補助部５が輻射加熱され、この被加熱補助部５からの熱伝導により加熱される伝導加熱部６がルツボ体１の上面部に配設（上面部に重合配設もしくは上面部として形成）されるため、ルツボ体１の上面部の温度は、従来と比して上昇することとなる。
【００１７】
即ち、均熱蓋部７の熱伝導性を極めて秀れた材質とすることで、加熱部２から被加熱補助部５で受ける熱を上面部の伝導加熱部６に伝えて上面部を外周面部とほぼ同等に加熱することができ、また、均熱蓋部７の熱伝導性が極めて秀れたものでなくても、被加熱補助部５とルツボ体１の外周面部との双方で受けた熱が上面部に伝わるため、従来に比して上面部の温度が上昇することとなる。
【００１８】
しかも、この均熱蓋部７の被加熱補助部５は、加熱部２と近接若しくは加熱部２に当接するように垂設、さらには外周面部とこの被加熱補助部５との間に加熱部２が近接若しくは当設するように配設すれば、一層効率良く加熱部２の熱を被加熱補助部５や外周面部で受け、伝導加熱部６により上面部へと伝えることができ、一層確実にルツボ体１の上面部の加熱時の温度を上昇させることとなる。
【００１９】
【実施例】
本発明の具体的な実施例について図面に基づいて説明する。
【００２０】
図１，２は本発明の第一実施例を図示している。
【００２１】
本実施例では、有機ＥＬなどの蒸着材料を収納するルツボ体１の外周面部に電熱線を配して加熱部２を設け、この加熱部２により有機ＥＬなどの蒸着材料を加熱し昇華若しくは溶融蒸発させて前記ルツボ体１上部の蒸発口３より蒸発させて、上方の基板４に有機ＥＬなどの蒸着材料を膜付けする蒸着装置における蒸発源であり、ルツボ体１及び加熱部２の上部に付設する形で均熱蓋部７を設けた構成となっている。
【００２２】
即ち、本実施例は、既存のルツボ体１の上部に被嵌するキャップ体として均熱蓋部７を構成し、既存のルツボ体１でも簡単に付設でき、しかも容易に着脱できる構成としている。
【００２３】
また、このルツボ体１及び加熱部２の上部に付設した均熱蓋部７は、加熱部２の上部の内側および外側に垂下配設して加熱部２により輻射加熱される（ルツボ体１の外周部とは別の）被加熱補助部５と、この被加熱補助部５に一体連設して加熱部２からの熱が伝導加熱する伝導加熱部６とで成り、被加熱補助部５および伝導加熱部６は一体化した着脱自在なキャップ構造として均熱蓋部７を構成している。
【００２４】
また、この、均熱蓋部７を構成する伝導加熱部６及び被加熱補助部５は、熱伝導性の高い金属板材により形成し、伝導加熱部６は円盤状としてルツボ体１の上面部（前記蒸発口３の周囲）を覆っており、被加熱補助部５は円筒板状として加熱部２を囲むように垂設され、特に本実施例ではこの垂下した被加熱補助部５が二重にあり、加熱部２の上部の内側および外側に配され加熱部２を挟んでいる。
【００２５】
また、本実施例では、均熱蓋部７を設けたことで、伝導加熱部６（蒸発口３）には被加熱補助部５とルツボ体１の外周面部の双方から熱が伝わり、従来に比して上面部の温度が上昇することとなり、しかも均熱蓋部７の被加熱補助部５は、加熱部２と近接若しくは加熱部２に当接するように垂設され、さらには二つの被加熱補助部５の間に加熱部２が近接若しくは当設するように配設されているため、効率良く加熱部２の熱を被加熱補助部５やルツボ体１の外周面部で受け、伝導加熱部６により上面部へと伝えることができ、一層確実にルツボ体１の上面部の加熱時の温度を上昇させることとなる。なお、この効果は、均熱蓋部７の熱伝導性を極めて秀れた材質とすることで、さらに向上する。
【００２６】
尚、本実施例では、加熱部２外側のルツボ体ケース８を覆うように被せる均熱蓋部７とし、被加熱補助部と加熱部２との間にはこのケース８が介在する構成としている。
【００２７】
本実施例の効果は、本発明の実施前後における蒸発源加熱時の各部位の温度を測定し比較することで確認されている。即ち、図５，図６に示す各部位の温度の上昇曲線に示すように、本発明の実施前においては、ルツボ体１の蒸発口３の温度がルツボ体１の温度と比較して著しく低下してしまっていたが、本実施例においては、ルツボ体１の温度とルツボ体１の蒸発口３の温度がほぼ同等となっており、本実施例において発明の有効性が確認できた。
【００２８】
よって、本実施例によれば、ルツボ体１の上部に均熱蓋部７を設けるという簡単な改良によって、たとえルツボ体１自体を熱伝導性に極めて秀れた材質としなくとも、また、新たな加熱部２をルツボ体１の上面部に設ける必要もなく、従来加熱部２で加熱されないルツボ体１上面部（ルツボ体１の上面部の蒸発口３の周囲）の温度を常にルツボ体１の外周面部と同等の温度に上昇させることができ、ルツボ全体の温度ムラができず、ルツボ体１の下部で昇華あるいは溶融蒸発した蒸着材料が蒸発口３に詰まりにくくなり、蒸着の際の均一性が良く、小型で温度制御が非常に簡単となる等多くの利点を有する蒸発源となる。
【００２９】
また、本実施例では均熱蓋部７は、前記ルツボ体１に対して着脱自在に構成されているため、蒸着材料の出し入れがスムーズに行え、洗浄などのメンテナンスも簡単に行うことができる。
【００３０】
また、図３は本発明の第二実施例を図示したもので、均熱蓋部７をルツボ体１の着脱する上部部分として形成した構成としている。
【００３１】
ここで、ルツボ体１の上部部分である均熱蓋部７は、加熱部２の上部の外側に垂設して加熱する被加熱補助部５と、この被加熱補助部５に一体連設して加熱部２からの熱が伝導加熱する伝導加熱部６とにより成っており、この伝導加熱部６自体が、ルツボ体１の上面部となり、この均熱蓋部７自体がルツボ体１の上部取り外し自在な開閉蓋にもなっている。
【００３２】
本実施例では、加熱部２の内側でルツボ体１の外周面が加熱され、加熱部２の外側で被加熱補助部５が加熱され、これらの熱が伝導加熱部６に伝わることとなる。
【００３３】
本実施例は上述のように構成したから、加熱部２の熱が直接加わらないルツボ体１の上面部における温度を常にルツボ体１の外周部と同程度に上昇させることができるようになり、第一実施例と同等の効果を奏する。
【００３４】
尚、本発明は、本実施例に限られるものではなく、各構成要件の具体的構成は適宜設計し得るものである。
【００３５】
【発明の効果】
本発明は上述のように構成したから、簡単な改良によって、従来加熱部２で加熱されないルツボ体１上面部（ルツボ上面の蒸発口の周囲）の温度を常にルツボ体１の外周部と同等の温度に上昇させることができるため、ルツボ体１の下部で昇華あるいは溶融蒸発した蒸着材料が蒸発口に詰まりにくくなり、蒸着の際の均一性が良い、画期的な蒸着装置における蒸発源となる。
【００３６】
また、請求項２記載の発明において、従来どおり、蒸着材料の出し入れがスムーズで、洗浄などのメンテナンスも簡単な一層秀れた蒸着装置における蒸発源となる。
【００３７】
また、請求項３，４記載の発明においては、一層良好にルツボ体上面部の温度を外周面部と同等に加熱保持できる極めて秀れた蒸着装置における蒸発源となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 第一実施例の蒸着装置の概略構成説明図である。
【図２】 第一実施例の概略構成説明断面図である。
【図３】 第二実施例の概略構成説明断面図である。
【図４】 従来例の概略構成説明断面図である。
【図５】 従来例での温度上昇曲線を示す測定グラフである。
【図６】 本実施例での温度上昇曲線を示す測定グラフである。
【符号の説明】
１ ルツボ体
２ 加熱部
３ 蒸発口
４ 基板
５ 被加熱補助部
６ 伝導加熱部
７ 均熱蓋部
【発明の属する技術分野】
本発明は、ルツボに収納した蒸着材料を加熱し昇華もしくは溶融蒸発させて、基板に蒸着材料を膜付けする蒸着装置における蒸発源に関するものである。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
例えば、有機ＥＬの作製において粉体状の有機材料をガラス基板に蒸着する際、蒸発源としては、図４に示すような抵抗加熱方式(電源により、ヒーター２に電流を流し加熱させてその輻射熱で金属、窒化ボロン、カーボン、石英ガラスなどで作られたルツボ体１を加熱し、ルツボ体１の熱で有機材料を加熱し、昇華あるいは溶融蒸発させる方式）が一般に採用されている。
【０００３】
蒸発源は従来、この図４のように、円筒状のルツボ体１の外周面部にヒーター（電熱線）２を配設した煙突構造により構成している。
【０００４】
しかし、このような蒸発源は、加熱時に直接ヒーターの熱が加わらないルツボ上部の蒸発口３において、温度分布がルツボ体１下部より低くなり、昇華あるいは蒸発した有機材料が、蒸発口の周囲に付着する場合がある。
【０００５】
その結果、基板への蒸着速度が次第に低下していき、蒸着時間が長くなり、スループットの低下が問題となる。また、ルツボの洗浄等、メンテナンスの面でも問題となる。
【０００６】
そこで、蒸発口の温度低下を防止するために、ルツボ体の外周面部だけでなく、ルツボ体上部にもヒーターを設けることも考えられるが、ルツボ上部は有機材料の出し入れの際に開閉させる必要があり、この着脱させる開閉蓋にヒーターを配設すると、開閉操作が不便となったり、配線のために構造が複雑になる等、様々な困難が生じる。
【０００７】
また、ヒーターを上下二段に分け、上側のヒーター温度を下側に比して高く制御するゾーンコントロール方式も考えられているが、一般にルツボ体が小さく、構造が複雑になってしまい、温度コントロールが非常に難しいため、小型化、簡素化、ひいては低価格化が難しい現状にある。
【０００８】
本発明は、このような現状に鑑み、これを解決するもので、簡単な改良によって、ヒーター等で直接加熱されないルツボ上面部（ルツボ体上部の蒸発口の周囲）の温度を常にルツボ体外周面部と同等の温度に上昇させることができ、そのため、蒸発口が詰まりにくく、蒸着の際の均一性が良く、小型で温度制御が非常に簡単となる等多くの利点を有する画期的な蒸発源を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
添付図面を参照して本発明の要旨を説明する。
【００１０】
蒸着材料を収納するルツボ体１に加熱部２を設け、この加熱部２により蒸着材料を加熱し昇華若しくは溶融蒸発させて前記ルツボ体１上部の蒸発口３より蒸発させて、上方の基板４に前記蒸着材料を膜付けする蒸着装置における蒸発源において、前記加熱部２の上部外側に垂下配設される前記ルツボ体１の外周面部とは別の被加熱補助部５と、この被加熱補助部５に一体連設し伝導加熱され少なくとも前記ルツボ体１の上部であって前記蒸発口３の周囲に配設される伝導加熱部６とにより構成された均熱蓋部７を設け、この均熱蓋部７は前記ルツボ体１の上部に付設するか若しくは前記均熱蓋部７を前記ルツボ体１の上部部分として形成し、前記ルツボ体１の上面部に重合配設される前記均熱蓋部７の伝導加熱部６若しくは前記ルツボ体１の上面部を形成する均熱蓋部７の伝導加熱部６は、前記加熱部２により輻射加熱されるルツボ体１の外周面部および均熱蓋部７の被加熱補助部５からの熱伝導により加熱上昇するように構成して、前記ルツボ体１の上部の蒸発口３の周囲の加熱時の温度を上昇させたことを特徴とする蒸着装置に係るものである。
【００１１】
また、前記均熱蓋部７若しくは少なくとも均熱蓋部７の伝導加熱部６を、前記ルツボ体１に対して着脱自在に設けたことを特徴とする請求項１記載の蒸着装置における蒸発源に係るものである。
【００１２】
また、前記加熱部２は、前記ルツボ体１の外周面部に配設した構成とし、前記均熱蓋部７の前記被加熱補助部５は、前記加熱部２と対向状態に近接若しくは当接して、前記ルツボ体１外周面部と同等に加熱されないルツボ体１の上面部に、前記被加熱補助部５からの熱伝導により加熱される前記伝導加熱部６を配設若しくはこの伝導加熱部６で前記ルツボ体１の上面部を形成したことを特徴とする請求項１，２のいずれか１項に記載の蒸着装置における蒸発源に係るものである。
【００１３】
また、前記ルツボ体１の外周面部に配設した加熱部２の上部の内側及び外側に前記均熱蓋部７の被加熱補助部５を垂下配設、若しくは内側に前記ルツボの外周面が配設される前記加熱部２の上部外側に前記均熱蓋部７の被加熱補助部５を垂下配設したことを特徴とする請求項３記載の蒸着装置における蒸発源に係るものである。
【００１４】
【発明の実施の形態】
好適と考える本発明の実施の形態（発明をどのように実施するか）を、図面に基づいてその作用効果を示して簡単に説明する。
【００１５】
加熱部２によりルツボ体１の外周面部が加熱されてルツボ体１内の蒸着材料が加熱され、昇華若しくは溶融蒸発し、ルツボ体１上面部の蒸発口３から蒸発するが、この加熱部２によりルツボ体１の上面部は直接加熱されず、このルツボ体１の上面部は加熱部２により加熱される外周面部からの熱伝導により加熱されるため、外周面部程、温度が上昇しない場合がある。
【００１６】
しかし、本発明は、外周面部からの熱伝導だけでなく、加熱部２により均熱蓋部７の被加熱補助部５が輻射加熱され、この被加熱補助部５からの熱伝導により加熱される伝導加熱部６がルツボ体１の上面部に配設（上面部に重合配設もしくは上面部として形成）されるため、ルツボ体１の上面部の温度は、従来と比して上昇することとなる。
【００１７】
即ち、均熱蓋部７の熱伝導性を極めて秀れた材質とすることで、加熱部２から被加熱補助部５で受ける熱を上面部の伝導加熱部６に伝えて上面部を外周面部とほぼ同等に加熱することができ、また、均熱蓋部７の熱伝導性が極めて秀れたものでなくても、被加熱補助部５とルツボ体１の外周面部との双方で受けた熱が上面部に伝わるため、従来に比して上面部の温度が上昇することとなる。
【００１８】
しかも、この均熱蓋部７の被加熱補助部５は、加熱部２と近接若しくは加熱部２に当接するように垂設、さらには外周面部とこの被加熱補助部５との間に加熱部２が近接若しくは当設するように配設すれば、一層効率良く加熱部２の熱を被加熱補助部５や外周面部で受け、伝導加熱部６により上面部へと伝えることができ、一層確実にルツボ体１の上面部の加熱時の温度を上昇させることとなる。
【００１９】
【実施例】
本発明の具体的な実施例について図面に基づいて説明する。
【００２０】
図１，２は本発明の第一実施例を図示している。
【００２１】
本実施例では、有機ＥＬなどの蒸着材料を収納するルツボ体１の外周面部に電熱線を配して加熱部２を設け、この加熱部２により有機ＥＬなどの蒸着材料を加熱し昇華若しくは溶融蒸発させて前記ルツボ体１上部の蒸発口３より蒸発させて、上方の基板４に有機ＥＬなどの蒸着材料を膜付けする蒸着装置における蒸発源であり、ルツボ体１及び加熱部２の上部に付設する形で均熱蓋部７を設けた構成となっている。
【００２２】
即ち、本実施例は、既存のルツボ体１の上部に被嵌するキャップ体として均熱蓋部７を構成し、既存のルツボ体１でも簡単に付設でき、しかも容易に着脱できる構成としている。
【００２３】
また、このルツボ体１及び加熱部２の上部に付設した均熱蓋部７は、加熱部２の上部の内側および外側に垂下配設して加熱部２により輻射加熱される（ルツボ体１の外周部とは別の）被加熱補助部５と、この被加熱補助部５に一体連設して加熱部２からの熱が伝導加熱する伝導加熱部６とで成り、被加熱補助部５および伝導加熱部６は一体化した着脱自在なキャップ構造として均熱蓋部７を構成している。
【００２４】
また、この、均熱蓋部７を構成する伝導加熱部６及び被加熱補助部５は、熱伝導性の高い金属板材により形成し、伝導加熱部６は円盤状としてルツボ体１の上面部（前記蒸発口３の周囲）を覆っており、被加熱補助部５は円筒板状として加熱部２を囲むように垂設され、特に本実施例ではこの垂下した被加熱補助部５が二重にあり、加熱部２の上部の内側および外側に配され加熱部２を挟んでいる。
【００２５】
また、本実施例では、均熱蓋部７を設けたことで、伝導加熱部６（蒸発口３）には被加熱補助部５とルツボ体１の外周面部の双方から熱が伝わり、従来に比して上面部の温度が上昇することとなり、しかも均熱蓋部７の被加熱補助部５は、加熱部２と近接若しくは加熱部２に当接するように垂設され、さらには二つの被加熱補助部５の間に加熱部２が近接若しくは当設するように配設されているため、効率良く加熱部２の熱を被加熱補助部５やルツボ体１の外周面部で受け、伝導加熱部６により上面部へと伝えることができ、一層確実にルツボ体１の上面部の加熱時の温度を上昇させることとなる。なお、この効果は、均熱蓋部７の熱伝導性を極めて秀れた材質とすることで、さらに向上する。
【００２６】
尚、本実施例では、加熱部２外側のルツボ体ケース８を覆うように被せる均熱蓋部７とし、被加熱補助部と加熱部２との間にはこのケース８が介在する構成としている。
【００２７】
本実施例の効果は、本発明の実施前後における蒸発源加熱時の各部位の温度を測定し比較することで確認されている。即ち、図５，図６に示す各部位の温度の上昇曲線に示すように、本発明の実施前においては、ルツボ体１の蒸発口３の温度がルツボ体１の温度と比較して著しく低下してしまっていたが、本実施例においては、ルツボ体１の温度とルツボ体１の蒸発口３の温度がほぼ同等となっており、本実施例において発明の有効性が確認できた。
【００２８】
よって、本実施例によれば、ルツボ体１の上部に均熱蓋部７を設けるという簡単な改良によって、たとえルツボ体１自体を熱伝導性に極めて秀れた材質としなくとも、また、新たな加熱部２をルツボ体１の上面部に設ける必要もなく、従来加熱部２で加熱されないルツボ体１上面部（ルツボ体１の上面部の蒸発口３の周囲）の温度を常にルツボ体１の外周面部と同等の温度に上昇させることができ、ルツボ全体の温度ムラができず、ルツボ体１の下部で昇華あるいは溶融蒸発した蒸着材料が蒸発口３に詰まりにくくなり、蒸着の際の均一性が良く、小型で温度制御が非常に簡単となる等多くの利点を有する蒸発源となる。
【００２９】
また、本実施例では均熱蓋部７は、前記ルツボ体１に対して着脱自在に構成されているため、蒸着材料の出し入れがスムーズに行え、洗浄などのメンテナンスも簡単に行うことができる。
【００３０】
また、図３は本発明の第二実施例を図示したもので、均熱蓋部７をルツボ体１の着脱する上部部分として形成した構成としている。
【００３１】
ここで、ルツボ体１の上部部分である均熱蓋部７は、加熱部２の上部の外側に垂設して加熱する被加熱補助部５と、この被加熱補助部５に一体連設して加熱部２からの熱が伝導加熱する伝導加熱部６とにより成っており、この伝導加熱部６自体が、ルツボ体１の上面部となり、この均熱蓋部７自体がルツボ体１の上部取り外し自在な開閉蓋にもなっている。
【００３２】
本実施例では、加熱部２の内側でルツボ体１の外周面が加熱され、加熱部２の外側で被加熱補助部５が加熱され、これらの熱が伝導加熱部６に伝わることとなる。
【００３３】
本実施例は上述のように構成したから、加熱部２の熱が直接加わらないルツボ体１の上面部における温度を常にルツボ体１の外周部と同程度に上昇させることができるようになり、第一実施例と同等の効果を奏する。
【００３４】
尚、本発明は、本実施例に限られるものではなく、各構成要件の具体的構成は適宜設計し得るものである。
【００３５】
【発明の効果】
本発明は上述のように構成したから、簡単な改良によって、従来加熱部２で加熱されないルツボ体１上面部（ルツボ上面の蒸発口の周囲）の温度を常にルツボ体１の外周部と同等の温度に上昇させることができるため、ルツボ体１の下部で昇華あるいは溶融蒸発した蒸着材料が蒸発口に詰まりにくくなり、蒸着の際の均一性が良い、画期的な蒸着装置における蒸発源となる。
【００３６】
また、請求項２記載の発明において、従来どおり、蒸着材料の出し入れがスムーズで、洗浄などのメンテナンスも簡単な一層秀れた蒸着装置における蒸発源となる。
【００３７】
また、請求項３，４記載の発明においては、一層良好にルツボ体上面部の温度を外周面部と同等に加熱保持できる極めて秀れた蒸着装置における蒸発源となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 第一実施例の蒸着装置の概略構成説明図である。
【図２】 第一実施例の概略構成説明断面図である。
【図３】 第二実施例の概略構成説明断面図である。
【図４】 従来例の概略構成説明断面図である。
【図５】 従来例での温度上昇曲線を示す測定グラフである。
【図６】 本実施例での温度上昇曲線を示す測定グラフである。
【符号の説明】
１ ルツボ体
２ 加熱部
３ 蒸発口
４ 基板
５ 被加熱補助部
６ 伝導加熱部
７ 均熱蓋部
Claims (4)
- 蒸着材料を収納するルツボ体に加熱部を設け、この加熱部により蒸着材料を加熱し昇華若しくは溶融蒸発させて前記ルツボ体上部の蒸発口より蒸発させて、上方の基板に前記蒸着材料を膜付けする蒸着装置における蒸発源において、前記加熱部の上部外側に垂下配設される前記ルツボ体の外周面部とは別の被加熱補助部と、この被加熱補助部に一体連設し伝導加熱され少なくとも前記ルツボ体の上部であって前記蒸発口の周囲に配設される伝導加熱部とにより構成された均熱蓋部を設け、この均熱蓋部は前記ルツボ体の上部に付設するか若しくは前記均熱蓋部を前記ルツボ体の上部部分として形成し、前記ルツボ体の上面部に重合配設される前記均熱蓋部の伝導加熱部若しくは前記ルツボ体の上面部を形成する均熱蓋部の伝導加熱部は、前記加熱部により輻射加熱されるルツボ体の外周面部および均熱蓋部の被加熱補助部からの熱伝導により加熱上昇するように構成して、前記ルツボ体の上部の蒸発口の周囲の加熱時の温度を上昇させたことを特徴とする蒸着装置。
- 前記均熱蓋部若しくは少なくとも均熱蓋部の伝導加熱部を、前記ルツボ体に対して着脱自在に設けたことを特徴とする請求項１記載の蒸着装置における蒸発源。
- 前記加熱部は、前記ルツボ体の外周面部に配設した構成とし、前記均熱蓋部の前記被加熱補助部は、前記加熱部と対向状態に近接若しくは当接して、前記ルツボ体外周面部と同等に加熱されないルツボ体の上面部に、前記被加熱補助部からの熱伝導により加熱される前記伝導加熱部を配設若しくはこの伝導加熱部で前記ルツボ体の上面部を形成したことを特徴とする請求項１，２のいずれか１項に記載の蒸着装置における蒸発源。
- 前記ルツボ体の外周面部に配設した加熱部の上部の内側及び外側に前記均熱蓋部の被加熱補助部を垂下配設、若しくは内側に前記ルツボの外周面が配設される前記加熱部の上部外側に前記均熱蓋部の被加熱補助部を垂下配設したことを特徴とする請求項３記載の蒸着装置における蒸発源。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003111991A JP4090039B2 (ja) | 2003-04-16 | 2003-04-16 | 蒸着装置における蒸発源 |
| KR1020040025664A KR100959733B1 (ko) | 2003-04-16 | 2004-04-14 | 증착장치에 있어서의 증발원 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003111991A JP4090039B2 (ja) | 2003-04-16 | 2003-04-16 | 蒸着装置における蒸発源 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004315898A JP2004315898A (ja) | 2004-11-11 |
| JP4090039B2 true JP4090039B2 (ja) | 2008-05-28 |
Family
ID=33472390
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003111991A Expired - Lifetime JP4090039B2 (ja) | 2003-04-16 | 2003-04-16 | 蒸着装置における蒸発源 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4090039B2 (ja) |
| KR (1) | KR100959733B1 (ja) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4493926B2 (ja) | 2003-04-25 | 2010-06-30 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 製造装置 |
| JP4578872B2 (ja) * | 2003-07-31 | 2010-11-10 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 容器および蒸着装置 |
| KR100656535B1 (ko) * | 2003-09-03 | 2006-12-13 | 엘지전자 주식회사 | 열 차단층을 포함하는 유기 전계 발광층 증착용 증착원 |
| EP2381011B1 (en) * | 2003-08-04 | 2012-12-05 | LG Display Co., Ltd. | Evaporation source for evaporating an organic electroluminescent layer |
| KR100712117B1 (ko) * | 2005-02-22 | 2007-04-27 | 삼성에스디아이 주식회사 | 증발원 및 그를 포함하는 증착장치 |
| JP4557170B2 (ja) * | 2004-11-26 | 2010-10-06 | 三星モバイルディスプレイ株式會社 | 蒸発源 |
| KR101097303B1 (ko) * | 2005-04-23 | 2011-12-21 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 증착 소스 유닛, 이를 구비한 증착 장치 및 이를 이용한유기 발광 소자의 제조방법 |
| JP4974504B2 (ja) * | 2005-10-13 | 2012-07-11 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 成膜装置、発光装置の作製方法 |
| KR100770458B1 (ko) | 2006-02-02 | 2007-11-07 | 두산메카텍 주식회사 | 유기박막 증착용 도가니 장치 |
| KR100700497B1 (ko) * | 2005-12-21 | 2007-03-28 | 삼성에스디아이 주식회사 | 증착장치 |
| KR20070066232A (ko) * | 2005-12-21 | 2007-06-27 | 삼성에스디아이 주식회사 | 증착장치 |
| KR101238001B1 (ko) * | 2005-12-26 | 2013-03-04 | 엘지디스플레이 주식회사 | 증착원 및 그를 장착한 증착 장치 |
| JP5226773B2 (ja) | 2008-04-11 | 2013-07-03 | 東芝三菱電機産業システム株式会社 | 均熱装置 |
| US8691017B2 (en) | 2008-04-11 | 2014-04-08 | National University Corporation Tohoku University | Heat equalizer and organic film forming apparatus |
| DE102011121148A1 (de) * | 2011-12-15 | 2013-06-20 | Dr. Eberl Mbe-Komponenten Gmbh | Vorrichtung zum Verdampfen eines Verdampfungsguts |
| CN112680698B (zh) * | 2021-03-15 | 2021-06-29 | 苏州盟萤电子科技有限公司 | 真空蒸镀用加热坩埚及真空蒸镀装置 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61186471A (ja) * | 1985-02-12 | 1986-08-20 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 真空蒸着装置及び蒸着原料用坩堝 |
| JPH0830265B2 (ja) * | 1987-11-02 | 1996-03-27 | 三菱電機株式会社 | 薄膜形成装置 |
| JPH02247374A (ja) * | 1989-03-20 | 1990-10-03 | Hitachi Ltd | 蒸発源用るつぼ及びそれを用いた薄膜成膜方法 |
| JPH0748669Y2 (ja) * | 1989-08-28 | 1995-11-08 | 日新電機株式会社 | 分子線セル |
-
2003
- 2003-04-16 JP JP2003111991A patent/JP4090039B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-04-14 KR KR1020040025664A patent/KR100959733B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2004315898A (ja) | 2004-11-11 |
| KR100959733B1 (ko) | 2010-05-25 |
| KR20040090472A (ko) | 2004-10-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4090039B2 (ja) | 蒸着装置における蒸発源 | |
| TWI312813B (en) | Linear type deposition source | |
| JP4897190B2 (ja) | 有機薄膜形成装置の加熱容器 | |
| TWI409350B (zh) | 蒸鍍源、有機電激發光元件之製造裝置 | |
| KR101084333B1 (ko) | 유기전계발광 디스플레이 패널 제조용 증발원 및 이를 포함하는 증착장치 | |
| WO2017128471A1 (zh) | 真空蒸镀加热装置 | |
| TW200904999A (en) | Evaporation crucible and evaporation apparatus with adapted evaporation characteristic | |
| WO2010073438A1 (ja) | 真空蒸着装置及び温度調整方法 | |
| EP1354979A1 (en) | Method and device for producing organic el elements | |
| JP4679291B2 (ja) | 真空蒸着用蒸発方法および装置 | |
| KR20070066232A (ko) | 증착장치 | |
| KR101846692B1 (ko) | 스피팅 방지 구조체를 구비한 증착장치용 증발원 | |
| JP4435523B2 (ja) | 蒸着方法 | |
| JP2013067845A (ja) | 蒸着材料加熱装置、蒸着装置、蒸着方法、基板 | |
| JP6982695B2 (ja) | 蒸着源及び真空処理装置 | |
| JP2014181387A (ja) | 蒸発源及びその蒸発源を用いた真空蒸着装置 | |
| JP4741430B2 (ja) | 成膜装置および成膜方法 | |
| WO2012086230A1 (ja) | 真空蒸着装置及び真空蒸着方法 | |
| JP2010229444A (ja) | 坩堝 | |
| JP6300990B1 (ja) | 窒化アルミニウム単結晶製造装置 | |
| KR20070113044A (ko) | 유기 박막 증착을 위한 선형증발원 | |
| KR101710063B1 (ko) | 열 기상 증착장치 | |
| JP2008156726A (ja) | 真空蒸着装置 | |
| KR20200059022A (ko) | 실리콘카바이드 단결정의 제조 장치 및 제조 방법 | |
| JP4902123B2 (ja) | 有機材料用蒸発源及び有機蒸着装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20061208 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070524 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070723 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070820 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071018 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080128 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080225 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4090039 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110307 Year of fee payment: 3 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110307 Year of fee payment: 3 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130307 Year of fee payment: 5 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130307 Year of fee payment: 5 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140307 Year of fee payment: 6 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |