JP4679291B2 - 真空蒸着用蒸発方法および装置 - Google Patents

真空蒸着用蒸発方法および装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4679291B2
JP4679291B2 JP2005227321A JP2005227321A JP4679291B2 JP 4679291 B2 JP4679291 B2 JP 4679291B2 JP 2005227321 A JP2005227321 A JP 2005227321A JP 2005227321 A JP2005227321 A JP 2005227321A JP 4679291 B2 JP4679291 B2 JP 4679291B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
evaporation
heating
vapor deposition
container
deposition material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2005227321A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007039768A (ja
Inventor
鉄也 井上
博之 大工
博明 森内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Zosen Corp
Original Assignee
Hitachi Zosen Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Zosen Corp filed Critical Hitachi Zosen Corp
Priority to JP2005227321A priority Critical patent/JP4679291B2/ja
Publication of JP2007039768A publication Critical patent/JP2007039768A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4679291B2 publication Critical patent/JP4679291B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

本発明は、真空蒸着設備において、有機ELなどの蒸着材料を加熱蒸発させる真空蒸着用蒸発方法および装置に関する。
従来の真空蒸着設備に設けられる蒸発装置は、たとえば特許文献1に開示されるように、蒸発容器(坩堝)を下方から支持する容器載置台に加熱ヒータを具備し、蒸発容器を外側から加熱して蒸着材料を加熱・蒸発させるものである。
特開2005−179764(図1,図3)
しかしながら、蒸着材料全体が蒸発容器を介して外側(下部)から加熱され蒸発されることから、蒸着材料全体を均一に加熱することがむずかしい。また蒸着材料が部分的に高温に晒されて劣化しやすい。さらに蒸発量を増加するためには蒸着材料全体をさらに加熱する必要があり、分解しやすい蒸着材料や、融点と蒸発温度が接近するような蒸着材料では、蒸着材料の温度制御がむずかしく、蒸発量の制御も難しいという問題があった。
本発明は上記問題点を解決して、蒸着材料の劣化を防止し、また蒸着材料を安定して蒸発させることができ、かつ蒸発量の制御も容易な真空蒸着用蒸発方法および装置を提供することを目的とする。
請求項1記載の発明は、蒸着材料を加熱蒸発させて被蒸着部材に蒸着させるに際し、第1加熱源により蒸発容器内の蒸着材料を溶融温度以上で蒸発温度未満の範囲で加熱溶融させ、第2加熱源を溶融蒸着材料の表面に接触させて蒸発するものである。
請求項2記載の発明は、蒸発容器に収容された蒸着材料を加熱して溶融気化させる真空蒸着用蒸発装置であって、蒸着材料を加熱する加熱手段を、蒸発容器内の蒸発材料を溶融温度から蒸発温度未満の範囲で加熱溶融させる第1加熱源と、溶融蒸着材料に接触させて加熱し蒸発させる第2加熱源と、前記蒸発容器と第2加熱源の少なくとも一方を昇降させて第2加熱源を溶融蒸着材料の表面に接触させる蒸発制御手段とを具備したものである。
請求項3記載の発明は、第2加熱源は、蒸発容器の開口部を介して挿入可能な筒形の熱伝導体と、前記熱伝導体の上部に設けられた加熱ヒータと、前記熱伝導体の底部に設けられた加熱部材とを具備し、前記加熱部材は、蒸発容器内の溶融蒸着材料の表面の略全面を覆うメッシュ板または多孔板により形成されたものである。
請求項4記載の発明は、加熱部材は、昇降移動により溶融蒸着材料との接触面積を増減させ蒸発量を調整可能な下方に突出する凸状が形成されたものである。
請求項1または2記載の発明によれば、第1加熱源で蒸着材料を溶融温度以上で蒸発温度未満に加熱し、蒸着材料の表面近傍にのみ第2加熱源を接触または浸漬させて蒸発温度以上に加熱し蒸発させるので、表面近傍を除く蒸着材料全体が必要以上に加熱されることがなく、蒸着材料の劣化を防止できる。また第2加熱源により蒸着材料の表面部位のみを加熱蒸発させるので、安定した蒸発が可能となり、さらに第2加熱源と蒸着材料との接触・離間動作により、蒸発量の制御を容易に行うことができる。また第2加熱源の接近離間動作で、蒸発の起動・停止を制御できるため、蒸発材料の遮断・開放を行うシャッターやバルブ等の装置を省略することができる。
請求項3記載の発明によれば、加熱ヒータにより熱伝導体を介して加熱されるメッシュ板または多孔板からなる加熱部材を、第1加熱源により溶融された蒸着材料の表面の略全面に接触させ、熱伝導体内から移送するので、均一な蒸発が可能となり、また蒸発された蒸着材料が熱伝導体の内面に付着することもない。
請求項4記載の発明によれば、蒸発制御手段により、溶融した蒸着材料と凸状部との接触面積または浸漬面積を増減して、蒸発量を容易かつ精度よく調整することができる。
以下、本発明に係る蒸発装置を具備した真空蒸着設備の実施の形態を図面に基づいて説明する。
[実施の形態1]
図1,図2に示すように、この真空蒸着設備は、真空保持される蒸着室2を形成する蒸着用容器1と、この蒸着用容器1の下部に設けられた蒸発装置3とが具備されている。前記蒸着用容器1には、被蒸着部材である基板Bを保持する基板保持具4と、側壁1aに設けられて基板Bを出し入れするための真空遮蔽用の開閉弁5a付きの基板挿脱口5と、導入された蒸着材料Mを分散させるための多数の放出孔を有するマニホールド6とが設けられている。このマニホールド6は、たとえば基板Bと平行な面板を有する分散空間を有し、前記面板に多数の分散孔を形成した箱形のものや、基板Bと平行な複数の分散管に、それぞれ複数の分散孔を形成した管形のものが採用される。またマニホールド6と基板保持具4の間には、蒸着材料遮蔽用のシャッター7が設けられている。8Aは蒸着室2内で基板Bの蒸着膜厚を検出するための蒸着量検出用の第1膜厚検出器である。
この蒸着用容器1には、前記マニホールド6に接続された加熱ヒータ9d付きの移送ダクト9が蒸着用容器1の底壁1bを貫通して設けられており、この移送ダクト9の下端フランジ部9aに蒸発装置3が着脱自在に装着されている。またこの移送ダクト9には、材料交換時に移送ダクト9を遮断するための開閉弁9bが介在され、さらに移送ダクト9には、たとえば蒸着用容器1内にモニター用の分岐ダクト9cが設けられている。この分岐ダクト9cに設けられた第2膜厚検出器8Bにより、蒸着材料Mの消費量を検出している。なお、分岐ダクト9cを蒸着容器1の外側近傍に接続して、その出口を蒸着用容器1に接続してもよい。
前記蒸発装置3は、上端部が前記フランジ部9aに装着される密閉容器11と、この密閉容器11内の空間12に昇降自在に配置され第1加熱源13を有する加熱昇降台14と、密閉容器11の下部に設けられて加熱昇降台14を昇降させる蒸発制御用の容器昇降装置(蒸発制御手段)15と、密閉容器11の上部から空間12内に垂下されるとともに加熱昇降台14に載置された蒸発容器10に挿脱自在な第2加熱源16とを具備している。そして、第1加熱源13により蒸発容器10内の蒸着材料Mを溶融温度以上で蒸発温度未満に加熱し、さらに容器昇降装置15により加熱昇降台14を上昇させて、第2加熱源16を溶融蒸着材料Mに接触または浸漬させて加熱・蒸発させるように構成されている。
前記加熱昇降台14に設けられた第1加熱源13は、加熱ヒータ13aとシース型の熱電対(温度検出器)13bとからなる。
蒸着材料Mを収容する蒸発容器10は、胴部10aと底板10bからなる上面開口のたとえば円筒容器で、所定量の蒸着材料Mを収容する。
前記第2加熱源16は、蒸発容器10に上面開口部から内部に所定隙間をあけて挿入可能な円筒形の熱伝導用胴部(熱伝導体)16aと、熱伝導用胴部16aの上端部に設けられて前記フランジ9aに取付けられる環状部材16bと、この環状部材16bに装着された加熱ヒータ16cおよびシース型の熱電対(温度検出器)16dと、前記熱伝導用胴部16aの底部を覆い蒸発容器10の蒸着材料Mの略全表面Msに接触される加熱用多孔板16e(加熱部材)とで構成される。なお、加熱用多孔板16eに替えて、網状の加熱用メッシュ板であってもよい。
前記密閉容器11は、フランジ部9aに装着された前記環状部材16bを介して着脱自在に連結される鍔部11cと、この鍔部11cから垂下され蒸発容器10の外周部に所定の断熱用隙間をあけて外嵌される胴部11aと、胴部11aの下端部に取付けられた底板11bとを具備した円筒形の密閉構造で、胴部11aと鍔部11cの外周部には、それぞれ保温部材である加熱ヒータ11dが設けられている。前記フランジ部7aと環状部材16bと鍔部11cの間には、必要に応じて密閉保持可能な断熱部材が介在される。
前記容器昇降装置15は、密閉容器11の底板11bに形成された開口部周囲から下方に筒状で密閉構造の昇降支持容器21が垂設されており、前記昇降支持容器21内には、その底部に取付けられた昇降用モータ22により回転駆動される昇降用ねじ軸23が立設されている。また前記加熱昇降台14から下方に垂下された垂設部材24に雌ねじ部材25が設けられており、前記昇降用ねじ軸23に雌ねじ部材25が螺合されて構成されてる。26は、昇降用ねじ軸23や垂設部材24の外周部を覆う気密用じゃばらである。
図2において、31は蒸着制御装置(蒸発制御手段)で、この蒸着制御装置31により、第2膜厚検出器8Bの検出信号に基き、蒸発容器10内の蒸着材料Mの蒸発量を求め、容器昇降装置15の昇降用モータ22を駆動して蒸発容器10を昇降させることで、第2加熱源16の加熱用多孔板16eを蒸着材料Mの表面Msに接触または表面Ms近傍で浸漬させ、また離間させることで蒸発量を安定的に制御する。また蒸着制御装置31により基台Bや蒸発容器10の交換時に加熱ヒータ11d,16cの電源をオン・オフしたり、開閉弁5a,9bなどを操作し、さらに熱電対13b,16dにより蒸着材料Mの加熱温度を検出し制御する。22aは昇降用モータ22の回転数を検出するエンコーダで、蒸着制御装置31により加熱昇降台14、すなわち蒸発容器10の高さ位置を演算する。
上記構成において、第1加熱源13により、蒸発容器10内の蒸着材料Mが溶融温度以上で蒸発温度未満に加熱され溶融される。そして、容器昇降装置15を駆動して加熱昇降台14を介して蒸発容器10を上昇させ、第2加熱源16の加熱用多孔板16eを蒸発容器10内の蒸着材料Mの表面Msに接触またはその近傍に浸漬させて蒸発させる。これにより、表面近傍を除く蒸着材料Mの全体が蒸発温度に晒されることがなく、材料劣化が防止される。また表面Msまたは表面Ms近傍の蒸着材料Mのみを蒸発温度以上に加熱蒸発させ、かつ表面Msのほぼ全面にわたって加熱することで均等に蒸発させることができる。蒸着材料Mは加熱用多孔板16の孔部または表面Msから熱伝導用胴部16aを介して移送ダクト9に導入され、マニホールド6を介して蒸着室2の基板Bに蒸着される。
蒸発容器10内の蒸着材料Mは、第2膜厚検出器8Bにより蒸着材料Mの蒸発量が検出されており、蒸着制御装置31により蒸着材料Mの蒸発速度(流速)に基いて容器昇降装置15を制御し、加熱昇降台14をゆっくりと上昇させることで、加熱用多孔板16eを常に蒸着材料Mの表面Msの接触位置または表面Ms近傍の浸漬位置に保持し、均一な蒸発量を連続して得ることができる。この時、熱伝導用胴部16aや移送ダクト9がそれぞれ加熱されているので、蒸発した蒸着材料Mが内面に付着することもない。
ここで基板Bや蒸発容器10を交換する場合など、蒸発を停止させる場合には、蒸着制御装置31により容器昇降装置15を制御し、加熱昇降台14を下降させることで、加熱用多孔板16eを蒸着材料Mの表面Msから離間させて蒸発を停止させる。蒸発量を減少させる場合には、接触と離間の動作を交互に行うことで蒸発量を制御することもできる。
蒸着材料Mが減少または無くなって、蒸着容器10を交換する場合には、移送ダクト9の開閉弁9bを閉じ、蒸発装置3全体を取外すか、または第2蒸発源16を残して、密閉容器11を蒸着容器10と共に取外し、使用後の蒸発容器10を新たな蒸着材料M入りの蒸発容器10と交換する。
上記実施の形態によれば、第1加熱源13により蒸発容器10内で蒸着材料Mを加熱溶融し、蒸着制御装置31により駆動される容器昇降装置15を操作し加熱昇降台14を上昇させて第2加熱源16の加熱用多孔板16eを蒸着材料Mの表面Msに接触または浸漬させて表面Ms近傍の蒸着材料Mのみを更に加熱して蒸発させるので、蒸着材料Mの大部分を蒸発温度以下に保持して蒸着材料Mの劣化を防止できる。また第2加熱源16の加熱用多孔板16eにより蒸着材料Mの表面Msの略全面に接触させて蒸発させるので、均一な蒸発が可能となる。さらに容器昇降装置15により、第2加熱源16の加熱用多孔板16eと蒸着材料Mとを接触・離間させることで、蒸発の起動・停止を容易かつ短時間を行うことができ、蒸発量の制御を容易に行うことができる。
[第2加熱源の第2実施例]
図4に示すように、この第2加熱源41は、先の実施例では水平な平面に形成された加熱用多孔板16eの形状を変化させたもので、熱伝導用胴部16aおよび環状部材16bと、加熱ヒータ16cならびに熱電対16dは同一構造であり、環状部材16b、加熱ヒータ16cおよび熱電対16dは図示されていない。
この加熱用多孔板41eは逆円錐面の凸状に形成されている。上記構成において、容器昇降装置15が駆動されて加熱昇降台14を介して蒸発容器10が下降されることにより、加熱用多孔板41eの下端頂部から漸次に溶融蒸着材料Mに浸漬され、接触(浸漬)面積を増大させることができる。また反対に蒸発容器10を上昇することにより、加熱用多孔板26eと溶融蒸着材料Mとの接触(浸漬)面積を減少させる。これにより蒸着材料Mの蒸発量を制御することができる。
したがって、蒸着材料Mの蒸発量を分岐ダクト9cの第2膜厚検出器8Bの検出信号に基いて、蒸着制御装置31により容器昇降装置15を駆動制御し蒸発容器10を昇降させて高さ位置を制御し、加熱用多孔板26eと溶融蒸着材料Mとの接触(浸漬)面積を調節することにより、蒸発量を精度良く無段階で制御することができる。
[第2加熱源の第3の実施例]
図5に示すように、第2加熱源51は、加熱用多孔板51eを階段状の逆円錐面に形成されたもので、第2の実施の形態と同様の作用効果を奏することができる。
また図6に示すように、加熱用多孔板51eの各階段状の段部の内周縁をそれぞれ熱伝導用メッシュ板52により連結してもよい。この熱伝導用メッシュ板52により、各段部を互いに熱伝導して加熱用多孔板51eを周方向に均一に加熱することができて、均一な蒸発が可能となる。
なお、実施の形態1では、容器昇降装置15により加熱昇降台14を介して蒸発容器10を昇降移動させたが、第2加熱源16を昇降移動させてもよく、また蒸発容器10と第2加熱源16とをそれぞれ昇降移動させることができる。
また蒸発容器10内の蒸着材料Mの蒸発量を、分岐ダクト9cの第2膜厚検出器8Bで検出したが、蒸着室2内の第1膜厚検出器8Aで行うことができる。
さらに移送ダクト9の出口にマニホールド6を設けたが、蒸着室2に開放されていてもよい。
本発明に係る蒸発装置の実施の形態を示す側面断面図である。 同真空蒸着設備を示す全体構成図である。 同蒸着装置の第2加熱源を示す部分切欠き斜視図である。 第2加熱源の第2実施例を示す部分切欠き斜視図である。 第2加熱源の第3実施例を示す部分切欠き斜視図である。 上記第2加熱源の第3実施例の変形例を示す部分切欠き斜視図である。
符号の説明
M 蒸着材料
Ms 表面
1 蒸着用容器
3 蒸発装置
8A 第1膜厚検出器
8B 第2膜厚検出器
9 移送ダクト
10 蒸発容器
11 密閉容器
12 空間
13 第1加熱源
13a 加熱ヒータ
14 加熱昇降台
15 容器昇降装置
16 第2加熱源
16a 熱伝導用胴部
16c 加熱ヒータ
16e 加熱用多孔板
21 昇降支持部材
22 昇降用モータ
23 昇降用ねじ軸
25 雌ねじ部材
31 蒸着制御装置

Claims (4)

  1. 蒸着材料を加熱蒸発させて被蒸着部材に蒸着させるに際し、
    第1加熱源により蒸発容器内の蒸着材料を溶融温度以上で蒸発温度未満の範囲で加熱溶融させ、
    第2加熱源を溶融蒸着材料の表面に接触させて蒸発する
    真空蒸着用蒸発方法。
  2. 蒸発容器に収容された蒸着材料を加熱して溶融気化させる真空蒸着用蒸発装置であって、
    蒸着材料を加熱する加熱手段を、
    蒸発容器内の蒸発材料を溶融温度から蒸発温度未満の範囲で加熱溶融させる第1加熱源と、
    溶融蒸着材料に接触させて加熱し蒸発させる第2加熱源と、
    前記蒸発容器と第2加熱源の少なくとも一方を昇降させて第2加熱源を溶融蒸着材料の表面に接触させる蒸発制御手段とを具備した
    真空蒸着用蒸発装置。
  3. 第2加熱源は、
    蒸発容器の開口部を介して挿入可能な筒形の熱伝導体と、
    前記熱伝導体の上部に設けられた加熱ヒータと、
    前記熱伝導体の底部に設けられた加熱部材とを具備し、
    前記加熱部材は、蒸発容器内の溶融蒸着材料の表面の略全面を覆うメッシュ板または多孔板により形成された
    請求項2記載の真空蒸着用蒸発装置。
  4. 加熱部材は、昇降移動により溶融蒸着材料との接触面積を増減させ蒸発量を調整可能な下方に突出する凸状が形成された
    請求項3記載の真空蒸着用蒸発装置。
JP2005227321A 2005-08-05 2005-08-05 真空蒸着用蒸発方法および装置 Expired - Fee Related JP4679291B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005227321A JP4679291B2 (ja) 2005-08-05 2005-08-05 真空蒸着用蒸発方法および装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005227321A JP4679291B2 (ja) 2005-08-05 2005-08-05 真空蒸着用蒸発方法および装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007039768A JP2007039768A (ja) 2007-02-15
JP4679291B2 true JP4679291B2 (ja) 2011-04-27

Family

ID=37798032

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005227321A Expired - Fee Related JP4679291B2 (ja) 2005-08-05 2005-08-05 真空蒸着用蒸発方法および装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4679291B2 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050281948A1 (en) * 2004-06-17 2005-12-22 Eastman Kodak Company Vaporizing temperature sensitive materials
JP5399207B2 (ja) * 2009-11-05 2014-01-29 日立造船株式会社 蒸着装置及び蒸着方法
KR101172275B1 (ko) * 2009-12-31 2012-08-08 에스엔유 프리시젼 주식회사 기화 장치 및 이의 제어 방법
JP5557633B2 (ja) * 2010-07-15 2014-07-23 日立造船株式会社 蒸着装置
JP5674431B2 (ja) * 2010-11-17 2015-02-25 株式会社アルバック 薄膜形成装置
KR101174633B1 (ko) * 2011-05-12 2012-08-17 에스엔유 프리시젼 주식회사 원료물질 공급장치
CN112359324B (zh) * 2020-10-29 2023-02-28 京东方科技集团股份有限公司 蒸镀坩埚

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05139882A (ja) * 1991-11-20 1993-06-08 Hitachi Ltd 分子線源
JPH1129854A (ja) * 1997-07-14 1999-02-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd 機能性薄膜の形成方法及び形成装置
JP2005089835A (ja) * 2003-09-18 2005-04-07 Fuji Photo Film Co Ltd 真空蒸着用ルツボおよび蛍光体シート製造装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05139882A (ja) * 1991-11-20 1993-06-08 Hitachi Ltd 分子線源
JPH1129854A (ja) * 1997-07-14 1999-02-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd 機能性薄膜の形成方法及び形成装置
JP2005089835A (ja) * 2003-09-18 2005-04-07 Fuji Photo Film Co Ltd 真空蒸着用ルツボおよび蛍光体シート製造装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007039768A (ja) 2007-02-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4679291B2 (ja) 真空蒸着用蒸発方法および装置
JP4726570B2 (ja) 真空蒸着用蒸発装置
KR101175165B1 (ko) 증발장치, 증착장치 및 증착장치에 있어서의 증발장치의전환방법
CN101055433B (zh) 加热处理装置
JP2010533790A (ja) 固体材料のための真空蒸着装置
JP4090039B2 (ja) 蒸着装置における蒸発源
KR20140079294A (ko) 박막증착장치
JP5933372B2 (ja) 原料容器および原料容器の使用方法
KR101450294B1 (ko) 역진공에 의한 유골을 포함하는 분체의 용융 및 결정화 장치
JP4870542B2 (ja) 気相成長装置
US9435022B2 (en) Deposition source
CN106104250B (zh) 低温存储系统
KR101925111B1 (ko) 박막 증착 장치 및 이를 이용한 박막 증착 방법
JP5789992B2 (ja) 蓋付ハースライナーおよび蓋付ハースライナーを用いた蒸着方法
KR20090032609A (ko) 박막 증착 장치
JP5180469B2 (ja) 真空蒸着装置
WO2012086230A1 (ja) 真空蒸着装置及び真空蒸着方法
JP2007113077A (ja) 坩堝
JP4902123B2 (ja) 有機材料用蒸発源及び有機蒸着装置
JP3839587B2 (ja) 有機薄膜材料用容器、蒸着装置、有機薄膜の製造方法
KR20130012079A (ko) 도가니 어셈블리, 도가니 어셈블리의 가열장치 제어방법 및 도가니 어셈블리를 갖는 박막증착장비
KR101258252B1 (ko) 증착 장치
KR20120090652A (ko) 도가니 가열장치,그 제어방법 및 도가니 가열장치를 포함하는 박막증착장비
TWI490362B (zh) Window having self-cleaning of the vapor deposition apparatus
KR100887227B1 (ko) 박막 증착 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080207

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20080430

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100203

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110105

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110201

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 4679291

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140210

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees