JP2007039768A - 真空蒸着用蒸発方法および装置 - Google Patents
真空蒸着用蒸発方法および装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007039768A JP2007039768A JP2005227321A JP2005227321A JP2007039768A JP 2007039768 A JP2007039768 A JP 2007039768A JP 2005227321 A JP2005227321 A JP 2005227321A JP 2005227321 A JP2005227321 A JP 2005227321A JP 2007039768 A JP2007039768 A JP 2007039768A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- evaporation
- heating
- vapor deposition
- deposition material
- container
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
【解決手段】蒸着材料Mを加熱する加熱手段を、蒸発容器10内の蒸着材料Mを溶融温度から蒸発温度未満の範囲で加熱溶融する第1加熱源13と、加熱用多孔板16eを溶融蒸着材料Mの表面Msに接触させて加熱蒸発させる第2加熱源16とで構成し、前記蒸発容器10を昇降させて加熱用多孔板16eを溶融蒸着材料Mの表面Msに接触させる容器昇降装置15を具備した。
【選択図】 図1
Description
[実施の形態1]
図1,図2に示すように、この真空蒸着設備は、真空保持される蒸着室2を形成する蒸着用容器1と、この蒸着用容器1の下部に設けられた蒸発装置3とが具備されている。前記蒸着用容器1には、被蒸着部材である基板Bを保持する基板保持具4と、側壁1aに設けられて基板Bを出し入れするための真空遮蔽用の開閉弁5a付きの基板挿脱口5と、導入された蒸着材料Mを分散させるための多数の放出孔を有するマニホールド6とが設けられている。このマニホールド6は、たとえば基板Bと平行な面板を有する分散空間を有し、前記面板に多数の分散孔を形成した箱形のものや、基板Bと平行な複数の分散管に、それぞれ複数の分散孔を形成した管形のものが採用される。またマニホールド6と基板保持具4の間には、蒸着材料遮蔽用のシャッター7が設けられている。8Aは蒸着室2内で基板Bの蒸着膜厚を検出するための蒸着量検出用の第1膜厚検出器である。
蒸着材料Mを収容する蒸発容器10は、胴部10aと底板10bからなる上面開口のたとえば円筒容器で、所定量の蒸着材料Mを収容する。
図4に示すように、この第2加熱源41は、先の実施例では水平な平面に形成された加熱用多孔板16eの形状を変化させたもので、熱伝導用胴部16aおよび環状部材16bと、加熱ヒータ16cならびに熱電対16dは同一構造であり、環状部材16b、加熱ヒータ16cおよび熱電対16dは図示されていない。
図5に示すように、第2加熱源51は、加熱用多孔板51eを階段状の逆円錐面に形成されたもので、第2の実施の形態と同様の作用効果を奏することができる。
さらに移送ダクト9の出口にマニホールド6を設けたが、蒸着室2に開放されていてもよい。
Ms 表面
1 蒸着用容器
3 蒸発装置
8A 第1膜厚検出器
8B 第2膜厚検出器
9 移送ダクト
10 蒸発容器
11 密閉容器
12 空間
13 第1加熱源
13a 加熱ヒータ
14 加熱昇降台
15 容器昇降装置
16 第2加熱源
16a 熱伝導用胴部
16c 加熱ヒータ
16e 加熱用多孔板
21 昇降支持部材
22 昇降用モータ
23 昇降用ねじ軸
25 雌ねじ部材
31 蒸着制御装置
Claims (4)
- 蒸着材料を加熱蒸発させて被蒸着部材に蒸着させるに際し、
第1加熱源により蒸発容器内の蒸着材料を溶融温度以上で蒸発温度未満の範囲で加熱溶融させ、
第2加熱源を溶融蒸着材料の表面に接触させて蒸発する
真空蒸着用蒸発方法。 - 蒸発容器に収容された蒸着材料を加熱して溶融気化させる真空蒸着用蒸発装置であって、
蒸着材料を加熱する加熱手段を、
蒸発容器内の蒸発材料を溶融温度から蒸発温度未満の範囲で加熱溶融させる第1加熱源と、
溶融蒸着材料に接触させて加熱し蒸発させる第2加熱源と、
前記蒸発容器と第2加熱源の少なくとも一方を昇降させて第2加熱源を溶融蒸着材料の表面に接触させる蒸発制御手段とを具備した
真空蒸着用蒸発装置。 - 第2加熱源は、
蒸発容器の開口部を介して挿入可能な筒形の熱伝導体と、
前記熱伝導体の上部に設けられた加熱ヒータと、
前記熱伝導体の底部に設けられた加熱部材とを具備し、
前記加熱部材は、蒸発容器内の溶融蒸着材料の表面の略全面を覆うメッシュ板または多孔板により形成された
請求項2記載の真空蒸着用蒸発装置。 - 加熱部材は、昇降移動により溶融蒸着材料との接触面積を増減させ蒸発量を調整可能な下方に突出する凸状が形成された
請求項3記載の真空蒸着用蒸発装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005227321A JP4679291B2 (ja) | 2005-08-05 | 2005-08-05 | 真空蒸着用蒸発方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005227321A JP4679291B2 (ja) | 2005-08-05 | 2005-08-05 | 真空蒸着用蒸発方法および装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007039768A true JP2007039768A (ja) | 2007-02-15 |
JP4679291B2 JP4679291B2 (ja) | 2011-04-27 |
Family
ID=37798032
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005227321A Expired - Fee Related JP4679291B2 (ja) | 2005-08-05 | 2005-08-05 | 真空蒸着用蒸発方法および装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4679291B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011099142A (ja) * | 2009-11-05 | 2011-05-19 | Hitachi Zosen Corp | 蒸着装置及び蒸着方法 |
JP2012021194A (ja) * | 2010-07-15 | 2012-02-02 | Hitachi Zosen Corp | 蒸着装置 |
JP2012107287A (ja) * | 2010-11-17 | 2012-06-07 | Ulvac Japan Ltd | 薄膜形成装置 |
KR101174633B1 (ko) | 2011-05-12 | 2012-08-17 | 에스엔유 프리시젼 주식회사 | 원료물질 공급장치 |
JP2013515862A (ja) * | 2009-12-31 | 2013-05-09 | エスエヌユー プレシジョン カンパニー リミテッド | 気化装置及びこの制御方法 |
JP2013091857A (ja) * | 2004-06-17 | 2013-05-16 | Global Oled Technology Llc | 温度に敏感な材料の気化 |
CN112359324A (zh) * | 2020-10-29 | 2021-02-12 | 京东方科技集团股份有限公司 | 蒸镀坩埚 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05139882A (ja) * | 1991-11-20 | 1993-06-08 | Hitachi Ltd | 分子線源 |
JPH1129854A (ja) * | 1997-07-14 | 1999-02-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 機能性薄膜の形成方法及び形成装置 |
JP2005089835A (ja) * | 2003-09-18 | 2005-04-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 真空蒸着用ルツボおよび蛍光体シート製造装置 |
-
2005
- 2005-08-05 JP JP2005227321A patent/JP4679291B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05139882A (ja) * | 1991-11-20 | 1993-06-08 | Hitachi Ltd | 分子線源 |
JPH1129854A (ja) * | 1997-07-14 | 1999-02-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 機能性薄膜の形成方法及び形成装置 |
JP2005089835A (ja) * | 2003-09-18 | 2005-04-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 真空蒸着用ルツボおよび蛍光体シート製造装置 |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013091857A (ja) * | 2004-06-17 | 2013-05-16 | Global Oled Technology Llc | 温度に敏感な材料の気化 |
JP2011099142A (ja) * | 2009-11-05 | 2011-05-19 | Hitachi Zosen Corp | 蒸着装置及び蒸着方法 |
JP2013515862A (ja) * | 2009-12-31 | 2013-05-09 | エスエヌユー プレシジョン カンパニー リミテッド | 気化装置及びこの制御方法 |
JP2012021194A (ja) * | 2010-07-15 | 2012-02-02 | Hitachi Zosen Corp | 蒸着装置 |
JP2012107287A (ja) * | 2010-11-17 | 2012-06-07 | Ulvac Japan Ltd | 薄膜形成装置 |
KR101174633B1 (ko) | 2011-05-12 | 2012-08-17 | 에스엔유 프리시젼 주식회사 | 원료물질 공급장치 |
WO2012153887A1 (ko) * | 2011-05-12 | 2012-11-15 | 에스엔유프리시젼 주식회사 | 원료물질 공급장치 |
CN112359324A (zh) * | 2020-10-29 | 2021-02-12 | 京东方科技集团股份有限公司 | 蒸镀坩埚 |
CN112359324B (zh) * | 2020-10-29 | 2023-02-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 蒸镀坩埚 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4679291B2 (ja) | 2011-04-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4570403B2 (ja) | 蒸発装置、蒸着装置および蒸着装置における蒸発装置の切替方法 | |
JP4679291B2 (ja) | 真空蒸着用蒸発方法および装置 | |
JP2011256427A (ja) | 真空蒸着装置における蒸着材料の蒸発、昇華方法および真空蒸着用るつぼ装置 | |
JP4726570B2 (ja) | 真空蒸着用蒸発装置 | |
JP4090039B2 (ja) | 蒸着装置における蒸発源 | |
JP2005060757A (ja) | 成膜装置、及び成膜方法 | |
KR101925111B1 (ko) | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 박막 증착 방법 | |
JP5183310B2 (ja) | 蒸着装置 | |
EP2402480A1 (en) | Organic compound steam generator and apparatus for producing organic thin film | |
JP5789992B2 (ja) | 蓋付ハースライナーおよび蓋付ハースライナーを用いた蒸着方法 | |
KR100960852B1 (ko) | 박막 증착 장치 | |
JP4974877B2 (ja) | 成膜源、成膜装置 | |
KR101368897B1 (ko) | 도가니 어셈블리, 도가니 어셈블리의 가열장치 제어방법 및 도가니 어셈블리를 갖는 박막증착장비 | |
WO2012086230A1 (ja) | 真空蒸着装置及び真空蒸着方法 | |
KR100773567B1 (ko) | 증착물질 공급 장치 | |
JP4902123B2 (ja) | 有機材料用蒸発源及び有機蒸着装置 | |
KR20070080151A (ko) | 증착 장치 | |
KR20120090652A (ko) | 도가니 가열장치,그 제어방법 및 도가니 가열장치를 포함하는 박막증착장비 | |
TWI490362B (zh) | Window having self-cleaning of the vapor deposition apparatus | |
KR100887227B1 (ko) | 박막 증착 장치 | |
JP2001316733A (ja) | 溶湯処理装置 | |
KR20130133741A (ko) | 도가니 어셈블리 및 도가니 가열장치의 제어방법 | |
JP2009161797A (ja) | 成膜源、成膜装置 | |
KR100604253B1 (ko) | 유기 전계 발광층 증착용 증착원 | |
KR20090032723A (ko) | 박막 증착 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080207 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20080430 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100203 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110105 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110201 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4679291 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140210 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |