JP2001316733A - 溶湯処理装置 - Google Patents
溶湯処理装置Info
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- JP2001316733A JP2001316733A JP2000132248A JP2000132248A JP2001316733A JP 2001316733 A JP2001316733 A JP 2001316733A JP 2000132248 A JP2000132248 A JP 2000132248A JP 2000132248 A JP2000132248 A JP 2000132248A JP 2001316733 A JP2001316733 A JP 2001316733A
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- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Treatment Of Steel In Its Molten State (AREA)
- Furnace Details (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 処理槽内に収容した溶湯をマッフルを介さず
に直接電熱ヒータにより加熱できる溶湯処理装置を提供
する。 【解決手段】 処理槽内に収容した溶湯を真空中または
不活性ガス雰囲気中で加熱する溶湯処理装置において、
前記処理槽内の溶湯面上方位置に、溶湯加熱手段とし
て、抵抗発熱体１１を非酸化物セラミックス製のカバー
１２で包囲した電熱ヒータ５を設けた。
に直接電熱ヒータにより加熱できる溶湯処理装置を提供
する。 【解決手段】 処理槽内に収容した溶湯を真空中または
不活性ガス雰囲気中で加熱する溶湯処理装置において、
前記処理槽内の溶湯面上方位置に、溶湯加熱手段とし
て、抵抗発熱体１１を非酸化物セラミックス製のカバー
１２で包囲した電熱ヒータ５を設けた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明はアルミニウムなど
の溶湯を真空中または不活性ガス雰囲気中で加熱処理す
る溶湯処理装置に関する。
の溶湯を真空中または不活性ガス雰囲気中で加熱処理す
る溶湯処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】アルミニウムや亜鉛，マグネシウム等の
低融点金属の溶湯を、真空槽内に収容して真空中で加熱
し、精錬や脱ガスをおこなう加熱処理方法においては、
上記低融点金属が蒸発して真空槽内各部に付着する。
又、真空中ではなく不活性ガス雰囲気中での上記低融点
金属の加熱処理方法においても、上記と同様な蒸発金属
の発生が認められる。
低融点金属の溶湯を、真空槽内に収容して真空中で加熱
し、精錬や脱ガスをおこなう加熱処理方法においては、
上記低融点金属が蒸発して真空槽内各部に付着する。
又、真空中ではなく不活性ガス雰囲気中での上記低融点
金属の加熱処理方法においても、上記と同様な蒸発金属
の発生が認められる。
【０００３】一方上記のような真空中又は不活性ガス雰
囲気中での加熱手段としては、電熱ヒータによる電気抵
抗式加熱が、温度制御特性が優れているため好ましい
が、上記の低融点金属の蒸発金属が電熱ヒータに付着す
ると、絶縁碍子類への付着により電気的短絡をひきおこ
し、またヒータ本体である抵抗発熱体部への付着により
ヒータを劣化させ、ひいては部材の溶融現象をひきおこ
すなどの問題があるため、従来はマッフル炉形式の処理
槽を用い、溶湯を収容したルツボをマッフル内に装入し
てマッフル外側に配置した電熱ヒータにより加熱処理す
るバッチ処理方法が一般的であったので、マッフルの損
傷や寸法の制約などにより生産性が劣るものであった。
囲気中での加熱手段としては、電熱ヒータによる電気抵
抗式加熱が、温度制御特性が優れているため好ましい
が、上記の低融点金属の蒸発金属が電熱ヒータに付着す
ると、絶縁碍子類への付着により電気的短絡をひきおこ
し、またヒータ本体である抵抗発熱体部への付着により
ヒータを劣化させ、ひいては部材の溶融現象をひきおこ
すなどの問題があるため、従来はマッフル炉形式の処理
槽を用い、溶湯を収容したルツボをマッフル内に装入し
てマッフル外側に配置した電熱ヒータにより加熱処理す
るバッチ処理方法が一般的であったので、マッフルの損
傷や寸法の制約などにより生産性が劣るものであった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この発明は上記従来の
問題点を解決しようとするもので、処理槽内に収容した
溶湯をマッフルを介さずに直接電熱ヒータにより加熱で
きる溶湯処理装置を提供することを目的とする。
問題点を解決しようとするもので、処理槽内に収容した
溶湯をマッフルを介さずに直接電熱ヒータにより加熱で
きる溶湯処理装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この発明の溶湯処理装置
は、処理槽内に収容した溶湯を真空中または不活性ガス
雰囲気中で加熱する溶湯処理装置において、前記処理槽
内の溶湯面上方位置に、溶湯加熱手段として、抵抗発熱
体を非酸化物セラミックス製のカバーで包囲した電熱ヒ
ータを設けたことを特徴とする。
は、処理槽内に収容した溶湯を真空中または不活性ガス
雰囲気中で加熱する溶湯処理装置において、前記処理槽
内の溶湯面上方位置に、溶湯加熱手段として、抵抗発熱
体を非酸化物セラミックス製のカバーで包囲した電熱ヒ
ータを設けたことを特徴とする。
【０００６】この発明によれば、抵抗発熱体を包囲する
非酸化物セラミックス製のカバーにより、溶湯の蒸発金
属が抵抗発熱体や絶縁碍子に付着するのが阻止され、電
熱ヒータにより溶湯を、マッフルを介さずに長期にわた
って支障なく直接加熱することができるのである。
非酸化物セラミックス製のカバーにより、溶湯の蒸発金
属が抵抗発熱体や絶縁碍子に付着するのが阻止され、電
熱ヒータにより溶湯を、マッフルを介さずに長期にわた
って支障なく直接加熱することができるのである。
【０００７】この発明においてカバーを構成する非酸化
物セラミックスとしては、たとえばＳｉＣ，Ｓｉ
３Ｎ４，Ｃのように、各種炭化物，窒化物，炭素，黒鉛
などを主成分とするセラミックスを用いることができ
る。これらの非酸化物セラミックスは、Ａｌ２Ｏ３やＳ
ｉＯ２などの酸化物セラミックスに比べて耐熱性、特に
耐熱衝撃性にすぐれているので、溶湯の出入に伴う大き
な温度変化に対しても割れなどを生じることなく長期に
わたって支障なく使用することができるのである。
物セラミックスとしては、たとえばＳｉＣ，Ｓｉ
３Ｎ４，Ｃのように、各種炭化物，窒化物，炭素，黒鉛
などを主成分とするセラミックスを用いることができ
る。これらの非酸化物セラミックスは、Ａｌ２Ｏ３やＳ
ｉＯ２などの酸化物セラミックスに比べて耐熱性、特に
耐熱衝撃性にすぐれているので、溶湯の出入に伴う大き
な温度変化に対しても割れなどを生じることなく長期に
わたって支障なく使用することができるのである。
【０００８】この発明においては、カバー内は真空排気
しなくてもよいが、請求項２記載の発明のように、前記
溶湯処理装置が溶湯を真空中で加熱する溶湯処理装置で
あり、前記電熱ヒータが前記カバー内に連通する排気口
をそなえ、該排気口から前記カバー内を真空排気（真空
状態に排気）できるようにした構成とすれば、カバー内
を真空排気することにより、外部の空気が電熱ヒータ内
を通りカバー部を経て処理槽内へ吸引されるのが防止さ
れ、処理槽内を所定の真空度に確実に維持することがで
きるので、好ましい。
しなくてもよいが、請求項２記載の発明のように、前記
溶湯処理装置が溶湯を真空中で加熱する溶湯処理装置で
あり、前記電熱ヒータが前記カバー内に連通する排気口
をそなえ、該排気口から前記カバー内を真空排気（真空
状態に排気）できるようにした構成とすれば、カバー内
を真空排気することにより、外部の空気が電熱ヒータ内
を通りカバー部を経て処理槽内へ吸引されるのが防止さ
れ、処理槽内を所定の真空度に確実に維持することがで
きるので、好ましい。
【０００９】またこの発明においては、処理槽への溶湯
の供給は、たとえば溶湯の貯留槽と処理槽とを並設し
て、貯留槽内の溶湯を吸引管を経て処理槽内に真空吸引
する方法などによってもよいが、請求項３記載の発明の
ように、前記処理槽の上側位置に、溶湯を貯留する貯留
槽が配設され、この貯留槽の底部に開口する溶湯流路が
前記処理槽内に開口するとともに、前記処理槽の底部に
排湯口が設けられている構成とすれば、重力を利用して
迅速容易に処理槽内への溶湯の供給および処理後の溶湯
の排出をおこなうことができ、溶湯処理の生産性がすぐ
れ、溶湯移送の動力費もかさまず、また装置の設置スペ
ースも小さくて済むので、特に好ましい。
の供給は、たとえば溶湯の貯留槽と処理槽とを並設し
て、貯留槽内の溶湯を吸引管を経て処理槽内に真空吸引
する方法などによってもよいが、請求項３記載の発明の
ように、前記処理槽の上側位置に、溶湯を貯留する貯留
槽が配設され、この貯留槽の底部に開口する溶湯流路が
前記処理槽内に開口するとともに、前記処理槽の底部に
排湯口が設けられている構成とすれば、重力を利用して
迅速容易に処理槽内への溶湯の供給および処理後の溶湯
の排出をおこなうことができ、溶湯処理の生産性がすぐ
れ、溶湯移送の動力費もかさまず、また装置の設置スペ
ースも小さくて済むので、特に好ましい。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、図１および図２に示す一例
により、この発明の実施の形態を説明する。図中、１は
貯留槽で、その上部は大気中に開口している。この貯留
槽１の下部には、真空精錬をおこなう処理槽である真空
槽２がフランジ接続され、貯留槽１の底部に開口する溶
湯流路３の下端部は、真空槽２の槽本体２ａの側壁内面
部に開口している。
により、この発明の実施の形態を説明する。図中、１は
貯留槽で、その上部は大気中に開口している。この貯留
槽１の下部には、真空精錬をおこなう処理槽である真空
槽２がフランジ接続され、貯留槽１の底部に開口する溶
湯流路３の下端部は、真空槽２の槽本体２ａの側壁内面
部に開口している。
【００１１】真空槽２においては、槽本体２ａの上面部
を気密閉鎖する蓋２ｂに排気口４が設けられ、この排気
口４に接続した図示しない真空ポンプにより槽内を真空
状態に維持し、電熱ヒータ５により加熱をおこないなが
ら溶融アルミニウムから成る溶湯６から蒸発する亜鉛や
マグネシウムなどの不純物を排気とともに排出して真空
精錬をおこない、所定時間の精錬後、槽本体２ａの下部
に設けた排湯口７を開閉する開閉弁８を開いて、精錬後
のアルミニウム溶湯を、図示しない鋳造装置へと供給す
るものである。
を気密閉鎖する蓋２ｂに排気口４が設けられ、この排気
口４に接続した図示しない真空ポンプにより槽内を真空
状態に維持し、電熱ヒータ５により加熱をおこないなが
ら溶融アルミニウムから成る溶湯６から蒸発する亜鉛や
マグネシウムなどの不純物を排気とともに排出して真空
精錬をおこない、所定時間の精錬後、槽本体２ａの下部
に設けた排湯口７を開閉する開閉弁８を開いて、精錬後
のアルミニウム溶湯を、図示しない鋳造装置へと供給す
るものである。
【００１２】電熱ヒータ５は、図２に示すように、抵抗
発熱体（この例ではモリブデンシリサイド系発熱体）１
１を、非酸化物セラミックス（この例ではＳｉ３Ｎ４）
製の有底円筒状のカバー１２で包囲して成る。１３，１
４は抵抗発熱体支持用の支板でいずれもカバー１２と同
材質から成り、また１５はカバー１２の開口端部を気密
閉鎖する鋼板製の蓋板で、抵抗発熱体１１の両端の端子
部１１ａは、蓋板１５に取付けた絶縁碍子１６，１６に
より支持されて外方へ突出し、図示しない電源に接続さ
れている。
発熱体（この例ではモリブデンシリサイド系発熱体）１
１を、非酸化物セラミックス（この例ではＳｉ３Ｎ４）
製の有底円筒状のカバー１２で包囲して成る。１３，１
４は抵抗発熱体支持用の支板でいずれもカバー１２と同
材質から成り、また１５はカバー１２の開口端部を気密
閉鎖する鋼板製の蓋板で、抵抗発熱体１１の両端の端子
部１１ａは、蓋板１５に取付けた絶縁碍子１６，１６に
より支持されて外方へ突出し、図示しない電源に接続さ
れている。
【００１３】１７は蓋板１５に設けた排気口で、図示し
ない真空ポンプに接続され、また支板１３，１４には通
気穴１８がそれぞれ穿設してある。また１９はセラミッ
クファイバ等の断熱材である。そして電熱ヒータ５は、
カバー１２に設けたフランジ部１２ａを、真空槽２の槽
本体２ａの外殻板２０に気密取付けすることにより、槽
本体２ａ内の溶湯面より上方位置に取付けられている。
２１，２２は気密シール用のＯリングである。
ない真空ポンプに接続され、また支板１３，１４には通
気穴１８がそれぞれ穿設してある。また１９はセラミッ
クファイバ等の断熱材である。そして電熱ヒータ５は、
カバー１２に設けたフランジ部１２ａを、真空槽２の槽
本体２ａの外殻板２０に気密取付けすることにより、槽
本体２ａ内の溶湯面より上方位置に取付けられている。
２１，２２は気密シール用のＯリングである。
【００１４】また貯留槽１においては、溶湯流路３の上
端部に弁座３１を設け、この弁座３１にロッド状の弁体
３２（詳しくはその下端のヘッド部３２ａ）を接離させ
て溶湯流路３の開閉をおこなうシート弁形式の閉止弁
（ストップバルブ）３０を設けてあり、弁体３２は、図
示しない駆動装置により昇降駆動される。
端部に弁座３１を設け、この弁座３１にロッド状の弁体
３２（詳しくはその下端のヘッド部３２ａ）を接離させ
て溶湯流路３の開閉をおこなうシート弁形式の閉止弁
（ストップバルブ）３０を設けてあり、弁体３２は、図
示しない駆動装置により昇降駆動される。
【００１５】上記構成の装置において溶湯の加熱処理を
おこなうには、真空槽２においては排気口４からの排気
により槽内を所定の真空圧に維持し、この例では電熱ヒ
ータ５の排気口１７からも排気してカバー１２内を所定
の真空圧とし、図示しない取鍋などにより貯留槽１内に
注湯した溶湯６を、開閉弁８を開閉制御して所定量だけ
溶湯流路３を経て真空槽２内に供給して、電熱ヒータ５
への通電により溶湯６を所定の温度に加熱して精錬をお
こなう。
おこなうには、真空槽２においては排気口４からの排気
により槽内を所定の真空圧に維持し、この例では電熱ヒ
ータ５の排気口１７からも排気してカバー１２内を所定
の真空圧とし、図示しない取鍋などにより貯留槽１内に
注湯した溶湯６を、開閉弁８を開閉制御して所定量だけ
溶湯流路３を経て真空槽２内に供給して、電熱ヒータ５
への通電により溶湯６を所定の温度に加熱して精錬をお
こなう。
【００１６】溶湯６中のマグネシウムや亜鉛などの不純
物は、上記加熱により蒸発して蒸発金属として槽内を上
昇し排気口４から吸引排気されるが、このとき電熱ヒー
タ５においては、抵抗発熱体１１はカバー１２により被
覆されているので、上記蒸発金属が抵抗発熱体１１に付
着堆積することはなく、また抵抗発熱体１１を支持する
絶縁碍子１６に上記蒸発金属が付着することもない。
物は、上記加熱により蒸発して蒸発金属として槽内を上
昇し排気口４から吸引排気されるが、このとき電熱ヒー
タ５においては、抵抗発熱体１１はカバー１２により被
覆されているので、上記蒸発金属が抵抗発熱体１１に付
着堆積することはなく、また抵抗発熱体１１を支持する
絶縁碍子１６に上記蒸発金属が付着することもない。
【００１７】またこの例では、排気口１７からの真空排
気によりカバー１２内も真空に排気されているので、た
とえば絶縁碍子１６の内外径部のすきま等からカバー１
２内へ侵入した外部の空気は排気口１７から排気され、
上記空気がカバー１２の微細な気孔などを経て真空槽２
内に吸引されて真空槽２内を低真空化することは阻止さ
れ、真空槽２内は所定の真空度に維持され、円滑な精錬
がおこなわれるのである。
気によりカバー１２内も真空に排気されているので、た
とえば絶縁碍子１６の内外径部のすきま等からカバー１
２内へ侵入した外部の空気は排気口１７から排気され、
上記空気がカバー１２の微細な気孔などを経て真空槽２
内に吸引されて真空槽２内を低真空化することは阻止さ
れ、真空槽２内は所定の真空度に維持され、円滑な精錬
がおこなわれるのである。
【００１８】なお上記カバー１２内の真空排気による真
空度は、真空槽２内と同程度であればよい。また排気口
４から吸引排出された蒸発金属は、図示しない冷却装置
により冷却して回収することができる。
空度は、真空槽２内と同程度であればよい。また排気口
４から吸引排出された蒸発金属は、図示しない冷却装置
により冷却して回収することができる。
【００１９】次に図３および図４は、この発明の実施の
形態の他の例を示し、真空槽２の槽本体２ａが角槽状を
呈し、槽本体２ａの側壁面が平面状を呈するとき、該側
壁部に取付けて用いる電熱ヒータ４０を示すものであ
り、図中、図１および図２と同一部分には同一符号を付
してある。
形態の他の例を示し、真空槽２の槽本体２ａが角槽状を
呈し、槽本体２ａの側壁面が平面状を呈するとき、該側
壁部に取付けて用いる電熱ヒータ４０を示すものであ
り、図中、図１および図２と同一部分には同一符号を付
してある。
【００２０】この電熱ヒータ４０は、抵抗発熱体４１と
して金属帯板（この例ではニッケルクロム帯板）の波付
け加工品を用い、２段にわたって配設したこの抵抗発熱
体４１を、非酸化物セラミックス（この例ではＳｉＣ）
製の箱状のカバー４２で包囲して成る。４３はカバー４
２のフランジ部４２ａに締付取付けされてその開口端部
を気密閉鎖する鋼板製の蓋板、４４はこの蓋板４３に基
部を固着した鋼製の支棒で、屈曲帯板状の抵抗発熱体４
１は、この支棒４４の先端部に装着した絶縁碍子４５に
より支持されている。４６は抵抗発熱体４１の両端部に
接続した端子棒で、蓋板４３に取付けた絶縁碍子４７に
より支持されて外方へ突出し、図示しない電源に接続さ
れている。４８はセラミックファイバ等の断熱材であ
る。
して金属帯板（この例ではニッケルクロム帯板）の波付
け加工品を用い、２段にわたって配設したこの抵抗発熱
体４１を、非酸化物セラミックス（この例ではＳｉＣ）
製の箱状のカバー４２で包囲して成る。４３はカバー４
２のフランジ部４２ａに締付取付けされてその開口端部
を気密閉鎖する鋼板製の蓋板、４４はこの蓋板４３に基
部を固着した鋼製の支棒で、屈曲帯板状の抵抗発熱体４
１は、この支棒４４の先端部に装着した絶縁碍子４５に
より支持されている。４６は抵抗発熱体４１の両端部に
接続した端子棒で、蓋板４３に取付けた絶縁碍子４７に
より支持されて外方へ突出し、図示しない電源に接続さ
れている。４８はセラミックファイバ等の断熱材であ
る。
【００２１】上記の電熱ヒータ４０は、蓋板４３および
この蓋板と一体になったカバー４２のフランジ部４２ａ
を、真空槽２の槽本体２ａの外殻板２０に気密取付けす
ることにより、図示しない槽本体２ａ内の溶湯面より上
方位置に取付けて用いられる。４９，５０は気密シール
用のガスケットである。
この蓋板と一体になったカバー４２のフランジ部４２ａ
を、真空槽２の槽本体２ａの外殻板２０に気密取付けす
ることにより、図示しない槽本体２ａ内の溶湯面より上
方位置に取付けて用いられる。４９，５０は気密シール
用のガスケットである。
【００２２】この電熱ヒータ４０も、抵抗発熱体４１へ
の通電により、真空槽における溶湯加熱用に用いられ、
前記の例と同様にカバー４２によって、蒸発金属が抵抗
発熱体４１や絶縁碍子４５，４７等に付着するのが防止
される。
の通電により、真空槽における溶湯加熱用に用いられ、
前記の例と同様にカバー４２によって、蒸発金属が抵抗
発熱体４１や絶縁碍子４５，４７等に付着するのが防止
される。
【００２３】この発明は上記各例に限定されるものでは
なく、たとえば、抵抗発熱体の材質や具体的形状、カバ
ーの材質や具体的形状、抵抗発熱体の支持構造その他の
電熱ヒータの内部構造および槽本体への取付構造など
は、上記以外のものとしてもよい。
なく、たとえば、抵抗発熱体の材質や具体的形状、カバ
ーの材質や具体的形状、抵抗発熱体の支持構造その他の
電熱ヒータの内部構造および槽本体への取付構造など
は、上記以外のものとしてもよい。
【００２４】また以上は、処理槽がアルミニウム溶湯の
真空精錬をおこなう真空槽２である場合について説明し
たが、この発明は、真空中あるいはアルゴンや窒素ガス
などの不活性ガス雰囲気中で各種金属の溶湯の精錬，保
持，鋳造などをおこなう処理槽を有する溶湯処理装置
に、広く適用できるものであり、処理槽内が不活性ガス
雰囲気である場合でも、カバーによって、蒸発金属が抵
抗発熱体やその支持構造部へ付着するのが阻止されるの
である。
真空精錬をおこなう真空槽２である場合について説明し
たが、この発明は、真空中あるいはアルゴンや窒素ガス
などの不活性ガス雰囲気中で各種金属の溶湯の精錬，保
持，鋳造などをおこなう処理槽を有する溶湯処理装置
に、広く適用できるものであり、処理槽内が不活性ガス
雰囲気である場合でも、カバーによって、蒸発金属が抵
抗発熱体やその支持構造部へ付着するのが阻止されるの
である。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したようにこの発明によれば、
非酸化物セラミックス製のカバーにより、蒸発金属が抵
抗発熱体や絶縁碍子等に付着するのが阻止され、これら
の付着に起因する短絡事故や発熱体構成物の溶融故障な
どをひきおこすことなく、処理槽内に収容した溶湯をマ
ッフルを介さずに長期にわたって支障なく直接加熱する
ことができ、マッフルが不要のため装置および溶湯の装
入排出工程が簡潔となり、溶湯処理の生産性も向上す
る。
非酸化物セラミックス製のカバーにより、蒸発金属が抵
抗発熱体や絶縁碍子等に付着するのが阻止され、これら
の付着に起因する短絡事故や発熱体構成物の溶融故障な
どをひきおこすことなく、処理槽内に収容した溶湯をマ
ッフルを介さずに長期にわたって支障なく直接加熱する
ことができ、マッフルが不要のため装置および溶湯の装
入排出工程が簡潔となり、溶湯処理の生産性も向上す
る。
【００２６】上記の効果に加えて、請求項２記載の発明
によれば、カバー内を真空排気することにより、電熱ヒ
ータ部を経て外部の空気が処理槽内へ吸引されるのが防
止され、処理槽内を所定の真空度に確実に維持すること
ができる。
によれば、カバー内を真空排気することにより、電熱ヒ
ータ部を経て外部の空気が処理槽内へ吸引されるのが防
止され、処理槽内を所定の真空度に確実に維持すること
ができる。
【００２７】また上記の効果に加えて、請求項３記載の
発明によれば、重力を利用して迅速容易に処理槽内への
溶湯の供給および処理後の溶湯の排出をおこなうことが
でき、溶湯処理の生産性がすぐれ、溶湯移送の動力費も
かさまず、また装置の設置スペースも小さくて済む。
発明によれば、重力を利用して迅速容易に処理槽内への
溶湯の供給および処理後の溶湯の排出をおこなうことが
でき、溶湯処理の生産性がすぐれ、溶湯移送の動力費も
かさまず、また装置の設置スペースも小さくて済む。
【図１】この発明の実施の形態の一例を示す溶湯処理装
置の縦断面図である。
置の縦断面図である。
【図２】図１における電熱ヒータの拡大縦断面図であ
る。
る。
【図３】この発明の実施の形態の他の例を示す電熱ヒー
タの拡大縦断面図（図２相当図）である。
タの拡大縦断面図（図２相当図）である。
【図４】図３のＡ−Ａ線断面図である。
１…貯留槽、２…真空槽（処理槽）、３…溶湯流路、４
…排気口、５…電熱ヒータ、６…溶湯、７…排湯口、１
１…抵抗発熱体、１２…カバー、１７…排気口、４０…
電熱ヒータ、４１…抵抗発熱体、４２…カバー。
…排気口、５…電熱ヒータ、６…溶湯、７…排湯口、１
１…抵抗発熱体、１２…カバー、１７…排気口、４０…
電熱ヒータ、４１…抵抗発熱体、４２…カバー。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｃ２１Ｃ 7/10 Ｃ２１Ｃ 7/10 Ｒ Ｆターム(参考） 4K001 AA02 AA30 AA38 EA02 EA03 FA14 GA14 GA19 4K013 CA01 CA02 CD01 CE09 4K063 AA04 AA12 AA16 BA03 CA01 CA06 DA05 DA19 FA02
Claims (3)
- 【請求項１】 処理槽内に収容した溶湯を真空中または
不活性ガス雰囲気中で加熱する溶湯処理装置において、
前記処理槽内の溶湯面上方位置に、溶湯加熱手段とし
て、抵抗発熱体を非酸化物セラミックス製のカバーで包
囲した電熱ヒータを設けたことを特徴とする溶湯処理装
置。 - 【請求項２】 前記溶湯処理装置が溶湯を真空中で加熱
する溶湯処理装置であり、前記電熱ヒータが前記カバー
内に連通する排気口をそなえ、該排気口から前記カバー
内を真空排気できるようにした請求項１記載の溶湯処理
装置。 - 【請求項３】 前記処理槽の上側位置に、溶湯を貯留す
る貯留槽が配設され、この貯留槽の底部に開口する溶湯
流路が前記処理槽内に開口するとともに、前記処理槽の
底部に排湯口が設けられている請求項１または２記載の
溶湯処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000132248A JP2001316733A (ja) | 2000-05-01 | 2000-05-01 | 溶湯処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000132248A JP2001316733A (ja) | 2000-05-01 | 2000-05-01 | 溶湯処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001316733A true JP2001316733A (ja) | 2001-11-16 |
Family
ID=18640990
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000132248A Pending JP2001316733A (ja) | 2000-05-01 | 2000-05-01 | 溶湯処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001316733A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009250506A (ja) * | 2008-04-04 | 2009-10-29 | Alpha Oikos:Kk | 高温用加熱炉 |
| KR100944045B1 (ko) | 2008-01-24 | 2010-02-24 | (주)와이에스썸텍 | 연속 소성로 |
| KR102115981B1 (ko) * | 2019-12-10 | 2020-05-28 | 주식회사 한내포티 | 발열체 보호 기능을 갖는 폐탈질 촉매 용융 장치 |
-
2000
- 2000-05-01 JP JP2000132248A patent/JP2001316733A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100944045B1 (ko) | 2008-01-24 | 2010-02-24 | (주)와이에스썸텍 | 연속 소성로 |
| JP2009250506A (ja) * | 2008-04-04 | 2009-10-29 | Alpha Oikos:Kk | 高温用加熱炉 |
| KR102115981B1 (ko) * | 2019-12-10 | 2020-05-28 | 주식회사 한내포티 | 발열체 보호 기능을 갖는 폐탈질 촉매 용융 장치 |
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