JP2003042664A - 真空加熱炉 - Google Patents
真空加熱炉Info
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- JP2003042664A JP2003042664A JP2001231645A JP2001231645A JP2003042664A JP 2003042664 A JP2003042664 A JP 2003042664A JP 2001231645 A JP2001231645 A JP 2001231645A JP 2001231645 A JP2001231645 A JP 2001231645A JP 2003042664 A JP2003042664 A JP 2003042664A
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- heating furnace
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 抵抗発熱体を包囲するチューブの変形や割れ
が少なく、長期にわたり支障なく使用できるラジアント
チューブヒータを被熱物加熱手段としてそなえた真空加
熱炉を提供する。 【解決手段】 真空雰囲気内で被熱物の加熱処理をおこ
なう真空加熱炉において、被熱物加熱手段として、抵抗
発熱体２１を非酸化物セラミックス製のチューブ２２で
包囲したラジアントチューブヒータ２０を設けた。
が少なく、長期にわたり支障なく使用できるラジアント
チューブヒータを被熱物加熱手段としてそなえた真空加
熱炉を提供する。 【解決手段】 真空雰囲気内で被熱物の加熱処理をおこ
なう真空加熱炉において、被熱物加熱手段として、抵抗
発熱体２１を非酸化物セラミックス製のチューブ２２で
包囲したラジアントチューブヒータ２０を設けた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、真空雰囲気内で
被熱物を加熱処理する真空加熱炉に関する。
被熱物を加熱処理する真空加熱炉に関する。
【０００２】
【従来の技術】真空雰囲気内で金属材から成る被熱物に
浸炭や焼結などの加熱処理を施す真空加熱炉において
は、被熱物加熱手段として抵抗加熱式の電熱ヒータが一
般に用いられている。そしてこの電熱ヒータとしては、
たとえば浸炭処理の際の浸炭性（炭化性）ガスや、水素
吸蔵合金や希土類磁石の焼結の際に発生するＣａ，Ｍｇ
などの酸化防止剤の蒸発物が抵抗発熱体に接触しないよ
うに、金属製のチューブで抵抗発熱体を包囲したラジア
ントチューブ式のヒータが多く用いられている。
浸炭や焼結などの加熱処理を施す真空加熱炉において
は、被熱物加熱手段として抵抗加熱式の電熱ヒータが一
般に用いられている。そしてこの電熱ヒータとしては、
たとえば浸炭処理の際の浸炭性（炭化性）ガスや、水素
吸蔵合金や希土類磁石の焼結の際に発生するＣａ，Ｍｇ
などの酸化防止剤の蒸発物が抵抗発熱体に接触しないよ
うに、金属製のチューブで抵抗発熱体を包囲したラジア
ントチューブ式のヒータが多く用いられている。
【０００３】しかし上記の金属製のチューブは、繰返使
用によって温度差により大きく湾曲変形したり、内外圧
力差により太鼓状に膨脹変形して、チューブが炉内各部
や被熱物に接近あるいは接触して、炉の操業に支障をき
たすことが多かった。
用によって温度差により大きく湾曲変形したり、内外圧
力差により太鼓状に膨脹変形して、チューブが炉内各部
や被熱物に接近あるいは接触して、炉の操業に支障をき
たすことが多かった。
【０００４】そこで上記の金属製のチューブに代るもの
として、たとえばアルミナなどの酸化物セラミックス製
のチューブを用いることも考えられるが、酸化物セラミ
ックスは耐熱衝撃性が劣り、炉内の大きな温度変化によ
り割れを生じるため、実用に供し得るものではない。
として、たとえばアルミナなどの酸化物セラミックス製
のチューブを用いることも考えられるが、酸化物セラミ
ックスは耐熱衝撃性が劣り、炉内の大きな温度変化によ
り割れを生じるため、実用に供し得るものではない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】この発明は上記従来の
問題点を解決しようとするもので、抵抗発熱体を包囲す
るチューブの変形や割れがほとんどなく、長期にわたり
支障なく使用できるラジアントチューブヒータを被熱物
加熱手段としてそなえた真空加熱炉を提供することを目
的とする。
問題点を解決しようとするもので、抵抗発熱体を包囲す
るチューブの変形や割れがほとんどなく、長期にわたり
支障なく使用できるラジアントチューブヒータを被熱物
加熱手段としてそなえた真空加熱炉を提供することを目
的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明の真空加熱炉
は、真空雰囲気内で被熱物の加熱処理をおこなう真空加
熱炉において、被熱物加熱手段として、抵抗発熱体を非
酸化物セラミックス製のチューブで包囲したラジアント
チューブヒータを設けたことを特徴とする。
は、真空雰囲気内で被熱物の加熱処理をおこなう真空加
熱炉において、被熱物加熱手段として、抵抗発熱体を非
酸化物セラミックス製のチューブで包囲したラジアント
チューブヒータを設けたことを特徴とする。
【０００７】この発明によれば、抵抗発熱体を包囲する
非酸化物セラミックス製のチューブにより、炉内の浸炭
性ガスや被熱物から発生する蒸発物が抵抗発熱体や絶縁
碍子に接触するのが阻止され、ラジアントチューブヒー
タは、抵抗発熱体の電気抵抗値の変動や絶縁物の電気短
絡事故などをひきおこすことなく長期にわたって支障な
く使用することができる。
非酸化物セラミックス製のチューブにより、炉内の浸炭
性ガスや被熱物から発生する蒸発物が抵抗発熱体や絶縁
碍子に接触するのが阻止され、ラジアントチューブヒー
タは、抵抗発熱体の電気抵抗値の変動や絶縁物の電気短
絡事故などをひきおこすことなく長期にわたって支障な
く使用することができる。
【０００８】この発明においてチューブを構成する非酸
化物セラミックスとしては、たとえばＳｉＣ，Ｓｉ３Ｎ
４，Ｃのように、各種炭化物，窒化物，炭素，黒鉛など
を主成分とするセラミックスを用いることができる。こ
れらの非酸化物セラミックスから成るチューブは、金属
製のチューブに比べて加熱冷却の繰返しによっても変形
をほとんど生じることがなく、チューブが大きく変形し
て炉内各部や被熱物に接近・接触するおそれはなくな
り、また非酸化物性セラミックスは、Ａｌ２Ｏ３やＳｉ
Ｏ２などの酸化物セラミックスに比べて耐熱性、特に耐
熱衝撃性にすぐれているので、炉内の大きな温度変化に
対しても割れなどをほとんど生じることなく長期にわた
って支障なく使用することができるのである。
化物セラミックスとしては、たとえばＳｉＣ，Ｓｉ３Ｎ
４，Ｃのように、各種炭化物，窒化物，炭素，黒鉛など
を主成分とするセラミックスを用いることができる。こ
れらの非酸化物セラミックスから成るチューブは、金属
製のチューブに比べて加熱冷却の繰返しによっても変形
をほとんど生じることがなく、チューブが大きく変形し
て炉内各部や被熱物に接近・接触するおそれはなくな
り、また非酸化物性セラミックスは、Ａｌ２Ｏ３やＳｉ
Ｏ２などの酸化物セラミックスに比べて耐熱性、特に耐
熱衝撃性にすぐれているので、炉内の大きな温度変化に
対しても割れなどをほとんど生じることなく長期にわた
って支障なく使用することができるのである。
【０００９】この発明においては、チューブ内は炉内と
同程度に真空排気したり密封構造としてもよいが、請求
項２記載の発明のように、前記ラジアントチューブヒー
タに、前記チューブ内に連通する給気口を設け、この給
気口を不活性ガスの供給源に接続し、前記不活性ガスの
前記チューブ内への給気により前記チューブ内を炉内よ
り圧力の高い真空雰囲気に維持するようにした構成とす
れば、チューブ内に給気されチューブの接合部などの微
小すきまから低圧側である炉内へ僅少量ずつ流入する不
活性ガスによって、炉内の浸炭性ガスや蒸発物が上記微
小すきまを経てチューブ内に侵入するのが阻止され、こ
れら浸炭性ガスや蒸発物と抵抗発熱体や絶縁碍子との接
触を一層確実に防止することができるので、好ましい。
同程度に真空排気したり密封構造としてもよいが、請求
項２記載の発明のように、前記ラジアントチューブヒー
タに、前記チューブ内に連通する給気口を設け、この給
気口を不活性ガスの供給源に接続し、前記不活性ガスの
前記チューブ内への給気により前記チューブ内を炉内よ
り圧力の高い真空雰囲気に維持するようにした構成とす
れば、チューブ内に給気されチューブの接合部などの微
小すきまから低圧側である炉内へ僅少量ずつ流入する不
活性ガスによって、炉内の浸炭性ガスや蒸発物が上記微
小すきまを経てチューブ内に侵入するのが阻止され、こ
れら浸炭性ガスや蒸発物と抵抗発熱体や絶縁碍子との接
触を一層確実に防止することができるので、好ましい。
【００１０】またこの発明は、バッチ炉および連続炉に
適用できるものであるが、請求項３記載の発明のよう
に、前記真空加熱炉が、ローラハース式真空加熱炉であ
る場合は、チューブ部の湾曲変形を生じることがないラ
ジアントチューブヒータは、ハースローラ間のすきまを
貫通して配置できるので、被熱物の下部〜底部側も確実
に加熱でき、被熱物の良好な温度分布が得られるので、
好ましい。
適用できるものであるが、請求項３記載の発明のよう
に、前記真空加熱炉が、ローラハース式真空加熱炉であ
る場合は、チューブ部の湾曲変形を生じることがないラ
ジアントチューブヒータは、ハースローラ間のすきまを
貫通して配置できるので、被熱物の下部〜底部側も確実
に加熱でき、被熱物の良好な温度分布が得られるので、
好ましい。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下図１〜図３に示す一例によ
り、この発明の実施の形態を説明する。図中、１は真空
加熱炉で、この例では被熱物Ｗの真空浸炭をおこなうロ
ーラハース式真空加熱炉から成る。２は耐圧性炉殻から
成る炉体で、３は被熱物装入用の入口、４は同じく取出
用の出口であり、それぞれ開閉扉をそなえている。５〜
７は炉長全長にわたって設けた被熱物搬送用のハースロ
ールである。
り、この発明の実施の形態を説明する。図中、１は真空
加熱炉で、この例では被熱物Ｗの真空浸炭をおこなうロ
ーラハース式真空加熱炉から成る。２は耐圧性炉殻から
成る炉体で、３は被熱物装入用の入口、４は同じく取出
用の出口であり、それぞれ開閉扉をそなえている。５〜
７は炉長全長にわたって設けた被熱物搬送用のハースロ
ールである。
【００１２】炉体２内は仕切壁１０により前処理室１
１、浸炭室１２、拡散室１３、焼入室１４の四つに区画
され、各仕切壁１０の被処理物通過部に設けた開口部
は、気密性を有する扉により開閉されるようになってい
る。前処理室１１内はパージ室１５と予熱用の加熱室１
６が、浸炭室１２内には加熱室１７が、拡散室１３内に
は加熱室１８が形成され、各加熱室１６〜１８は、図２
にも示すように四周を黒鉛製の断熱壁１９で包囲されて
いる。
１、浸炭室１２、拡散室１３、焼入室１４の四つに区画
され、各仕切壁１０の被処理物通過部に設けた開口部
は、気密性を有する扉により開閉されるようになってい
る。前処理室１１内はパージ室１５と予熱用の加熱室１
６が、浸炭室１２内には加熱室１７が、拡散室１３内に
は加熱室１８が形成され、各加熱室１６〜１８は、図２
にも示すように四周を黒鉛製の断熱壁１９で包囲されて
いる。
【００１３】図２において、２０は被熱物加熱手段であ
るラジアントチューブヒータであり、加熱室１７の側壁
部を形成する断熱壁１９と被熱物Ｗとの間に位置するよ
うに長手方向を上下方向に向けて設けられ、その下端部
２０ａは隣合うハースロール７，７間のすきまを通り、
ハースロール７の下方位置（加熱室底部付近）まで達し
ている。また３１は、炉体２の各区画ごとに設けた排気
口、３２はこの排気口に接続した真空排気用の真空ポン
プ、３３は浸炭室１２に設けた浸炭性ガス供給口、３４
はこの供給口に接続した浸炭性ガス供給源（この例では
ＬＮＧタンク）である。加熱室１６，１８におけるラジ
アントチューブヒータ２０の配置も、上記加熱室１７と
同様である。
るラジアントチューブヒータであり、加熱室１７の側壁
部を形成する断熱壁１９と被熱物Ｗとの間に位置するよ
うに長手方向を上下方向に向けて設けられ、その下端部
２０ａは隣合うハースロール７，７間のすきまを通り、
ハースロール７の下方位置（加熱室底部付近）まで達し
ている。また３１は、炉体２の各区画ごとに設けた排気
口、３２はこの排気口に接続した真空排気用の真空ポン
プ、３３は浸炭室１２に設けた浸炭性ガス供給口、３４
はこの供給口に接続した浸炭性ガス供給源（この例では
ＬＮＧタンク）である。加熱室１６，１８におけるラジ
アントチューブヒータ２０の配置も、上記加熱室１７と
同様である。
【００１４】ラジアントチューブヒータ２０は、図３に
示すように抵抗発熱体２１（この例ではカーボン系発熱
体）を、非酸化物セラミックス（この例ではカーボン）
製の有底円筒状のチューブ２２で包囲して成る。２３は
チューブ２２の開口端部を気密閉鎖する鋼板製の蓋板、
２４はセラミックファイバ等の断熱材であり、抵抗発熱
体２１の両端部に接続した端子棒２５，２５は、断熱材
２４層および蓋板２３を貫通して外方へ突出し、図示し
ない電源に接続されている。２６はこの端子棒２５を支
持する絶縁碍子である。
示すように抵抗発熱体２１（この例ではカーボン系発熱
体）を、非酸化物セラミックス（この例ではカーボン）
製の有底円筒状のチューブ２２で包囲して成る。２３は
チューブ２２の開口端部を気密閉鎖する鋼板製の蓋板、
２４はセラミックファイバ等の断熱材であり、抵抗発熱
体２１の両端部に接続した端子棒２５，２５は、断熱材
２４層および蓋板２３を貫通して外方へ突出し、図示し
ない電源に接続されている。２６はこの端子棒２５を支
持する絶縁碍子である。
【００１５】また２７は蓋板２３に設けた給気口で、絞
り弁２８を介して不活性ガス（この例ではＮ２ガス）供
給源２９に接続され、たとえば真空排気時の浸炭室１２
など炉内各区画の真空圧に応じて、チューブ２２内が炉
内より所定圧力（チューブ２２の気密性にもよるが、た
とえば１００Torr）だけ高い真空雰囲気に維持されるよ
う、絞り弁２８の開度をセットして不活性ガスをチュー
ブ２２内へ給気するようになっている。
り弁２８を介して不活性ガス（この例ではＮ２ガス）供
給源２９に接続され、たとえば真空排気時の浸炭室１２
など炉内各区画の真空圧に応じて、チューブ２２内が炉
内より所定圧力（チューブ２２の気密性にもよるが、た
とえば１００Torr）だけ高い真空雰囲気に維持されるよ
う、絞り弁２８の開度をセットして不活性ガスをチュー
ブ２２内へ給気するようになっている。
【００１６】一方、図１における焼入室１４の底部に
は、油焼入用の油４０を貯留した油槽４１が設けられ、
被熱物Ｗを支承するハースロール７の両端部は、上下方
向に延びるガイド４２に沿って昇降駆動される昇降枠４
３に支持され、被熱物Ｗは実線で示す上方の搬送位置と
油槽４１内の浸漬位置４４との間を往復駆動されるよう
になっている。４５は撹拌冷却用のファンである。
は、油焼入用の油４０を貯留した油槽４１が設けられ、
被熱物Ｗを支承するハースロール７の両端部は、上下方
向に延びるガイド４２に沿って昇降駆動される昇降枠４
３に支持され、被熱物Ｗは実線で示す上方の搬送位置と
油槽４１内の浸漬位置４４との間を往復駆動されるよう
になっている。４５は撹拌冷却用のファンである。
【００１７】上記構成の真空加熱炉１において真空浸炭
処理をおこなうには、入口３から被熱物Ｗ（この例では
材質：ＳＣＭ４２０）をパージ室１５に装入し、前処理
室１１を真空状態に排気後、加熱室１６内に移送した被
熱物Ｗをラジアントチューブヒータ２０により約７５０
℃に予熱し、次いで真空状態とした浸炭室１２の加熱室
１７内に移送する。
処理をおこなうには、入口３から被熱物Ｗ（この例では
材質：ＳＣＭ４２０）をパージ室１５に装入し、前処理
室１１を真空状態に排気後、加熱室１６内に移送した被
熱物Ｗをラジアントチューブヒータ２０により約７５０
℃に予熱し、次いで真空状態とした浸炭室１２の加熱室
１７内に移送する。
【００１８】加熱室１７内においては、ラジアントチュ
ーブヒータ２０により約９５０℃に加熱するとともに、
浸炭性ガス供給源３４より浸炭性ガスを加熱室１７内に
供給し、真空浸炭をおこなう。そしてこのときラジアン
トチューブヒータ２０のチューブ２２内には、不活性ガ
ス供給源からＮ２ガスを給気し、チューブ２２内を加熱
室１７内の真空圧（５０Torr）より高い１５０Torrの真
空雰囲気に維持する。
ーブヒータ２０により約９５０℃に加熱するとともに、
浸炭性ガス供給源３４より浸炭性ガスを加熱室１７内に
供給し、真空浸炭をおこなう。そしてこのときラジアン
トチューブヒータ２０のチューブ２２内には、不活性ガ
ス供給源からＮ２ガスを給気し、チューブ２２内を加熱
室１７内の真空圧（５０Torr）より高い１５０Torrの真
空雰囲気に維持する。
【００１９】抵抗発熱体２１はチューブ２２により包囲
されているので、前記浸炭性ガスが抵抗発熱体２１や絶
縁碍子２６に直接接触することがない。さらにこの例で
は、チューブ２２内にＮ２ガスが給気されているので、
このＮ２ガスはチューブ２２の殻体接合部の微小すきま
２２ａなどを経て加熱室１７内に僅少量ずつ流入し、こ
のガス流によって、前記浸炭性ガスが上記微小すきま２
２ａを経てチューブ２２内に侵入するのが阻止され、抵
抗発熱体２１および絶縁碍子２６は浸炭性ガスに対して
一層確実に遮断されるのである。
されているので、前記浸炭性ガスが抵抗発熱体２１や絶
縁碍子２６に直接接触することがない。さらにこの例で
は、チューブ２２内にＮ２ガスが給気されているので、
このＮ２ガスはチューブ２２の殻体接合部の微小すきま
２２ａなどを経て加熱室１７内に僅少量ずつ流入し、こ
のガス流によって、前記浸炭性ガスが上記微小すきま２
２ａを経てチューブ２２内に侵入するのが阻止され、抵
抗発熱体２１および絶縁碍子２６は浸炭性ガスに対して
一層確実に遮断されるのである。
【００２０】またチューブ２２は非酸化物セラミックス
製であるので、加熱冷却の繰返しによっても湾曲などの
変形をほとんど生じることがなく、上記変形によるハー
スロール６との接触のおそれもないため、この例のよう
にラジアントチューブヒータ２０はハースロール６，６
のすきまを通してハースロール６の下方位置まで延びる
形で配置でき、これによって被処理物Ｗの下部および底
部に対しても充分な加熱量が得られ、被熱物Ｗの良好な
温度分布が得られるのである。
製であるので、加熱冷却の繰返しによっても湾曲などの
変形をほとんど生じることがなく、上記変形によるハー
スロール６との接触のおそれもないため、この例のよう
にラジアントチューブヒータ２０はハースロール６，６
のすきまを通してハースロール６の下方位置まで延びる
形で配置でき、これによって被処理物Ｗの下部および底
部に対しても充分な加熱量が得られ、被熱物Ｗの良好な
温度分布が得られるのである。
【００２１】次に被熱物Ｗは、真空状態の拡散室１３の
加熱室１８内へ移送し、ラジアントチューブヒータ２０
により約９５０℃に所定時間温度保持後、焼入室１４に
移送して油４０に浸漬して油焼入れし、所定温度に冷却
後、出口４より送出して、真空浸漬処理を終える。
加熱室１８内へ移送し、ラジアントチューブヒータ２０
により約９５０℃に所定時間温度保持後、焼入室１４に
移送して油４０に浸漬して油焼入れし、所定温度に冷却
後、出口４より送出して、真空浸漬処理を終える。
【００２２】なお上記の前処理室１１の加熱室１６およ
び拡散室１３の加熱室１８においても、浸炭室１２の加
熱室１７について説明したのと同様に、ラジアントチュ
ーブヒータ２０のチューブ２２内へのＮ２ガスの給気を
おこない、このＮ２ガスおよび非酸化物セラミックス製
のチューブ２２により、上記説明と同じ作用効果が得ら
れるものである。ただし、加熱室１６および１８内の浸
炭性ガスの量は、扉開閉時等に浸炭室１２の加熱室１７
から侵入する程度の少量であるため、Ｎ２ガスのチュー
ブ２２内への給気を省略したり、あるいはさらに（特に
加熱室１６などは）チューブで包囲しないカーボンヒー
タなど、他形式の被熱材加熱手段を用いるようにしても
よい。
び拡散室１３の加熱室１８においても、浸炭室１２の加
熱室１７について説明したのと同様に、ラジアントチュ
ーブヒータ２０のチューブ２２内へのＮ２ガスの給気を
おこない、このＮ２ガスおよび非酸化物セラミックス製
のチューブ２２により、上記説明と同じ作用効果が得ら
れるものである。ただし、加熱室１６および１８内の浸
炭性ガスの量は、扉開閉時等に浸炭室１２の加熱室１７
から侵入する程度の少量であるため、Ｎ２ガスのチュー
ブ２２内への給気を省略したり、あるいはさらに（特に
加熱室１６などは）チューブで包囲しないカーボンヒー
タなど、他形式の被熱材加熱手段を用いるようにしても
よい。
【００２３】この発明は上記の例に限定されるものでは
なく、たとえば、抵抗発熱体の材質や具体的形状、チュ
ーブの材質や具体的形状、抵抗発熱体の支持構造その他
のラジアントチューブヒータの内部構造および炉体への
取付構造や取付方向、チューブ内へ給気する不活性ガス
の種類や給気圧力などは、上記以外のものとしてもよ
い。
なく、たとえば、抵抗発熱体の材質や具体的形状、チュ
ーブの材質や具体的形状、抵抗発熱体の支持構造その他
のラジアントチューブヒータの内部構造および炉体への
取付構造や取付方向、チューブ内へ給気する不活性ガス
の種類や給気圧力などは、上記以外のものとしてもよ
い。
【００２４】また以上は、真空浸炭処理をおこなうロー
ラハース式真空加熱炉について説明したが、この発明
は、真空焼結をおこなう真空加熱炉や、ローラハース式
以外の連続炉やバッチ炉など、各種真空加熱炉に広く適
用できるものであり、真空焼結をおこなう真空加熱炉の
場合には、チューブによって、酸化防止剤などの蒸発物
が抵抗発熱体やその支持構造部へ付着するのが阻止され
るのである。
ラハース式真空加熱炉について説明したが、この発明
は、真空焼結をおこなう真空加熱炉や、ローラハース式
以外の連続炉やバッチ炉など、各種真空加熱炉に広く適
用できるものであり、真空焼結をおこなう真空加熱炉の
場合には、チューブによって、酸化防止剤などの蒸発物
が抵抗発熱体やその支持構造部へ付着するのが阻止され
るのである。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したようにこの発明によれば、
抵抗発熱体を包囲する非酸化物セラミックス製のチュー
ブは、変形や割れをほとんど生じることなく炉内の浸炭
性ガスや被熱物から発生する蒸発物が抵抗発熱体や絶縁
碍子に接触するのを防止するので、長期にわたり支障な
く使用できるラジアントチューブヒータを被熱物加熱手
段としてそなえた真空加熱炉が得られる。
抵抗発熱体を包囲する非酸化物セラミックス製のチュー
ブは、変形や割れをほとんど生じることなく炉内の浸炭
性ガスや被熱物から発生する蒸発物が抵抗発熱体や絶縁
碍子に接触するのを防止するので、長期にわたり支障な
く使用できるラジアントチューブヒータを被熱物加熱手
段としてそなえた真空加熱炉が得られる。
【００２６】上記の効果に加えて、請求項２記載の発明
によれば、チューブ内に給気される不活性ガスによっ
て、炉内の浸炭性ガスや蒸発物と抵抗発熱体や絶縁碍子
との接触を一層確実に防止することができる。
によれば、チューブ内に給気される不活性ガスによっ
て、炉内の浸炭性ガスや蒸発物と抵抗発熱体や絶縁碍子
との接触を一層確実に防止することができる。
【００２７】また上記の効果に加えて、請求項３記載の
発明によれば、ラジアントチューブヒータはハースロー
ラ間のすきまを貫通して配置できるので、被熱物の下部
〜底部側も確実に加熱でき、被熱物の良好な温度分布が
得られる。
発明によれば、ラジアントチューブヒータはハースロー
ラ間のすきまを貫通して配置できるので、被熱物の下部
〜底部側も確実に加熱でき、被熱物の良好な温度分布が
得られる。
【図１】この発明の実施の形態の一例を示す真空加熱炉
の縦断面図である。
の縦断面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線断面図である。
【図３】図２におけるラジアントチューブヒータの拡大
縦断面図である。
縦断面図である。
１…真空加熱炉、２…炉体、１６…加熱室、１７…加熱
室、１８…加熱室、１９…断熱壁、２０…ラジアントチ
ューブヒータ、２１…抵抗発熱体、２２…チューブ、２
７…給気口、２９…不活性ガス供給源。
室、１８…加熱室、１９…断熱壁、２０…ラジアントチ
ューブヒータ、２１…抵抗発熱体、２２…チューブ、２
７…給気口、２９…不活性ガス供給源。
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フロントページの続き
(72)発明者 松原 寛和
愛知県名古屋市熱田区六野一丁目２番５号
大同特殊鋼株式会社高蔵製作所内
Ｆターム(参考） 3K092 PP20 QA01 RA06 RB14 RB23
RB25 RD09
4K050 AA01 BA01 CA09 CA13 CC03
CC09 CD06 CD08 CF06 CF16
CG06 DA03
Claims (3)
- 【請求項１】 真空雰囲気内で被熱物の加熱処理をおこ
なう真空加熱炉において、被熱物加熱手段として、抵抗
発熱体を非酸化物セラミックス製のチューブで包囲した
ラジアントチューブヒータを設けたことを特徴とする真
空加熱炉。 - 【請求項２】 前記ラジアントチューブヒータに、前記
チューブ内に連通する給気口を設け、この給気口を不活
性ガスの供給源に接続し、前記不活性ガスの前記チュー
ブ内への給気により前記チューブ内を炉内より圧力の高
い真空雰囲気に維持するようにした請求項１記載の真空
加熱炉。 - 【請求項３】 前記真空加熱炉が、ローラハース式真空
加熱炉である請求項１または２記載の真空加熱炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001231645A JP2003042664A (ja) | 2001-07-31 | 2001-07-31 | 真空加熱炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001231645A JP2003042664A (ja) | 2001-07-31 | 2001-07-31 | 真空加熱炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003042664A true JP2003042664A (ja) | 2003-02-13 |
Family
ID=19063669
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001231645A Pending JP2003042664A (ja) | 2001-07-31 | 2001-07-31 | 真空加熱炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003042664A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007270338A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Dowa Holdings Co Ltd | 窒化炉および窒化処理方法 |
| JP2008509282A (ja) * | 2004-08-06 | 2008-03-27 | エテュード エ コンストリュクスィオン メカニーク | 低圧熱化学的処理機械 |
| JP2011219814A (ja) * | 2010-04-08 | 2011-11-04 | Daido Plant Kogyo Kk | 連続熱処理装置 |
| WO2017036053A1 (zh) * | 2015-09-01 | 2017-03-09 | 唐山亚捷机械有限公司 | 用于渗碳或碳氮共渗的加热炉 |
-
2001
- 2001-07-31 JP JP2001231645A patent/JP2003042664A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008509282A (ja) * | 2004-08-06 | 2008-03-27 | エテュード エ コンストリュクスィオン メカニーク | 低圧熱化学的処理機械 |
| JP2007270338A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Dowa Holdings Co Ltd | 窒化炉および窒化処理方法 |
| JP2011219814A (ja) * | 2010-04-08 | 2011-11-04 | Daido Plant Kogyo Kk | 連続熱処理装置 |
| WO2017036053A1 (zh) * | 2015-09-01 | 2017-03-09 | 唐山亚捷机械有限公司 | 用于渗碳或碳氮共渗的加热炉 |
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