JP4726570B2 - 真空蒸着用蒸発装置 - Google Patents
真空蒸着用蒸発装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4726570B2 JP4726570B2 JP2005227320A JP2005227320A JP4726570B2 JP 4726570 B2 JP4726570 B2 JP 4726570B2 JP 2005227320 A JP2005227320 A JP 2005227320A JP 2005227320 A JP2005227320 A JP 2005227320A JP 4726570 B2 JP4726570 B2 JP 4726570B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- evaporation
- heating
- vapor deposition
- container
- deposition material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title claims description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 120
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 106
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 103
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 81
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 80
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 12
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 12
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 claims description 11
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 9
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 6
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 6
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 2
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 2
- 241000220317 Rosa Species 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Description
[実施の形態1]
図1,図2に示すように、この真空蒸着設備は、真空保持される蒸着室2を形成する蒸着用容器1と、この蒸着用容器1の下部に設けられた蒸発装置3とが具備されている。前記蒸着用容器1には、被蒸着部材である基板Bを保持する基板保持具4と、側壁1aに設けられて基板Bを出し入れするための真空遮蔽用の開閉弁5a付きの基板挿脱口5と、導入された蒸着材料Mを分散させるための多数の放出孔を有するマニホールド6とが設けられている。このマニホールド6は、たとえば基板Bと平行な面板を有する分散空間を有し、前記面板に多数の分散孔を形成した箱形のものや、基板Bと平行な複数の分散管に、それぞれ複数の分散孔を形成した管形のものが採用される。またマニホールド6と基板保持具4の間には、蒸着材料遮蔽用のシャッター7が設けられている。8Aは蒸着室2内で基板Bの蒸着膜厚を検出するための蒸着量検出用の第1膜厚検出器である。
蒸着材料Mを収容する蒸発容器10は、胴部10aと底板10bからなる上面開口のたとえば円筒容器で、所定量の蒸着材料Mを収容する。
図6に示すように、この第2加熱源41は、先の実施例では水平な平面に形成された加熱用多孔板16eに下方に突出する凸状部を形成したもので、その他の部材は同一構造であり、環状部材16b、加熱ヒータ16cおよび熱電対16dは図示されていない。
また逆円錐面の頂部となる加熱用多孔板41eの中央部に、伝熱部材17が連結されていることで、加熱ヒータ16cの熱が十分に加熱用多孔板41eと溶融蒸着材料Mとの接触部に供給され、安定して加熱、蒸発させることができる。
図7に示すように、第2加熱源51は、加熱用多孔板51eを階段状の逆円錐面(凸状部)に形成されたもので、第2の実施の形態と同様の作用効果を奏することができる。また加熱用多孔板51eの各階段状の段部の内周縁をそれぞれ熱伝導用メッシュ板52により連結されている。この熱伝導用メッシュ板52により、加熱用多孔板51eの各段部を互いに熱伝導するとともに伝熱部材17の給熱ロッド17bから各熱伝導用メッシュ板52を介して各段部にそれぞれ給熱され、加熱用多孔板51eの熱勾配をさらに小さくして加熱用多孔板51eを均一に加熱することができて、均一な蒸発が可能となる。もちろん、加熱用多孔板51eを加熱用メッシュ板に替えてもよい。
図8に示すように、前記第2加熱源51の伝熱部材20を筒形に形成したものである。すなわち、加熱用多孔板51eの各階段状の段部コーナーから上方に沿って、円筒形の給熱筒20bがそれぞれ立設され、各給熱筒20bの上端部には、半径方向に伸びる複数の集熱部材20aが取付けられ、これら集熱部材20aは加熱ヒータ16c近傍の熱伝導用胴部16aにそれぞれ連結されている。
さらに移送ダクト9の出口にマニホールド6を設けたが、蒸着室2に開放されていてもよい。
Ms 表面
1 蒸着用容器
3 蒸発装置
8A 第1膜厚検出器
8B 第2膜厚検出器
9 移送ダクト
10 蒸発容器
11 密閉容器
12 空間
13 第1加熱源
13a 加熱ヒータ
14 加熱昇降台
15 容器昇降装置
16 第2加熱源
16a 熱伝導用胴部
16c 加熱ヒータ
16e 加熱用多孔板
17 伝熱部材
21 昇降支持部材
22 昇降用モータ
23 昇降用ねじ軸
25 雌ねじ部材
31 蒸着制御装置
Claims (4)
- 蒸着材料を収容する蒸発容器と、この蒸発容器内の蒸着材料を溶融温度以上、蒸発温度未満で加熱溶融する第1加熱源と、前記蒸発容器内の溶融蒸着材料の液面に接触させて蒸着材料を蒸発させる第2加熱源と、前記蒸発容器と第2加熱源の少なくとも一方を昇降させて第2加熱源を溶融蒸着材料に接触させる容器昇降装置とを具備し、
前記第2加熱源は、熱伝導体の上側に加熱ヒータが設けられるとともに、前記熱伝導体の底部に溶融蒸着材料に接触される加熱部材が設けられ、さらに前記加熱ヒータの熱を前記加熱部材に伝導して加熱部材の熱勾配を減少させる伝熱部材が設けられた
真空蒸着用蒸発装置。 - 熱伝導体は、蒸発容器の開口部に挿入可能な筒体に形成され、
加熱部材は、前記筒体の底部に取付けられたメッシュ板または多孔板からなり、
伝熱部材は、加熱ヒータの近傍と加熱部材の中央部近傍の間にわたって設けられた
請求項1記載の真空蒸着用蒸発装置。 - 加熱部材は、上下位置で溶融蒸着材料との接触面積が調整可能な下方に突出された凸状面を有し、
伝熱部材は、少なくとも加熱ヒータ近傍と前記凸状部の頂部近傍との間にわたって設けられた
請求項1記載の真空蒸着用蒸発装置。 - 加熱部材の凸状面が、逆円錐面、または、逆円錐台面あるいは階段状逆円錐面に形成された
請求項3に記載の真空蒸着用蒸発装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005227320A JP4726570B2 (ja) | 2005-08-05 | 2005-08-05 | 真空蒸着用蒸発装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005227320A JP4726570B2 (ja) | 2005-08-05 | 2005-08-05 | 真空蒸着用蒸発装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007039767A JP2007039767A (ja) | 2007-02-15 |
JP4726570B2 true JP4726570B2 (ja) | 2011-07-20 |
Family
ID=37798031
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005227320A Expired - Fee Related JP4726570B2 (ja) | 2005-08-05 | 2005-08-05 | 真空蒸着用蒸発装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4726570B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5206065B2 (ja) * | 2008-03-26 | 2013-06-12 | Jsr株式会社 | フォトレジスト用重合体の製造方法及びそれに用いる蒸留缶 |
JP5414587B2 (ja) * | 2010-03-23 | 2014-02-12 | 日立造船株式会社 | 蒸着装置 |
KR20120116720A (ko) * | 2011-04-13 | 2012-10-23 | 에스엔유 프리시젼 주식회사 | 원료물질 공급장치 |
JP6584067B2 (ja) * | 2014-05-30 | 2019-10-02 | 日立造船株式会社 | 真空蒸着装置 |
CN109023258B (zh) * | 2018-09-20 | 2023-06-30 | 扬州扬杰电子科技股份有限公司 | 一种蒸发台 |
CN112359324B (zh) * | 2020-10-29 | 2023-02-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 蒸镀坩埚 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05139882A (ja) * | 1991-11-20 | 1993-06-08 | Hitachi Ltd | 分子線源 |
JPH1129854A (ja) * | 1997-07-14 | 1999-02-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 機能性薄膜の形成方法及び形成装置 |
JP2005089835A (ja) * | 2003-09-18 | 2005-04-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 真空蒸着用ルツボおよび蛍光体シート製造装置 |
-
2005
- 2005-08-05 JP JP2005227320A patent/JP4726570B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05139882A (ja) * | 1991-11-20 | 1993-06-08 | Hitachi Ltd | 分子線源 |
JPH1129854A (ja) * | 1997-07-14 | 1999-02-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 機能性薄膜の形成方法及び形成装置 |
JP2005089835A (ja) * | 2003-09-18 | 2005-04-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 真空蒸着用ルツボおよび蛍光体シート製造装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007039767A (ja) | 2007-02-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4679291B2 (ja) | 真空蒸着用蒸発方法および装置 | |
JP4726570B2 (ja) | 真空蒸着用蒸発装置 | |
KR101175165B1 (ko) | 증발장치, 증착장치 및 증착장치에 있어서의 증발장치의전환방법 | |
JP2720998B2 (ja) | 組織培養容器 | |
BR112014017869B1 (pt) | processo e aparelho para a produção de magnésio de alta pureza por meio de destilação sob pressão reduzida | |
JP4090039B2 (ja) | 蒸着装置における蒸発源 | |
RU2004132207A (ru) | Индукционная печь для работы при высоких температурах | |
KR101450294B1 (ko) | 역진공에 의한 유골을 포함하는 분체의 용융 및 결정화 장치 | |
US20110275196A1 (en) | Thermal Evaporation Sources with Separate Crucible for Holding the Evaporant Material | |
US20200011598A1 (en) | Vacuum Extraction Oven | |
JP5183310B2 (ja) | 蒸着装置 | |
KR101925111B1 (ko) | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 박막 증착 방법 | |
JP2021066954A (ja) | 真空蒸着室のための蒸着セル及び関連する蒸着方法 | |
JP3817054B2 (ja) | 蒸着源用るつぼ、及び蒸着装置 | |
KR20090032609A (ko) | 박막 증착 장치 | |
JP2012149290A (ja) | 蓋付ハースライナーおよび蓋付ハースライナーを用いた蒸着方法 | |
JP2005179764A (ja) | 蒸着装置 | |
CN212152412U (zh) | 一种可调高度真空多层蒸发装置 | |
KR101368897B1 (ko) | 도가니 어셈블리, 도가니 어셈블리의 가열장치 제어방법 및 도가니 어셈블리를 갖는 박막증착장비 | |
CN203530489U (zh) | 多晶硅铸锭炉热场结构 | |
JP2009161798A (ja) | 成膜源、成膜装置 | |
KR20150011788A (ko) | 내부 오염 방지형 진공 증발원 | |
KR101258252B1 (ko) | 증착 장치 | |
JP4996452B2 (ja) | 成膜源、成膜装置 | |
CN220364624U (zh) | 气体均匀升华的长晶设备 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080207 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20080430 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100203 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110105 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110223 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110315 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110412 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4726570 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140422 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |