JP2005179764A - 蒸着装置 - Google Patents
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- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims abstract description 53
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 110
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 84
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims abstract description 78
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 39
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 24
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 16
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 14
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 9
- 239000011368 organic material Substances 0.000 abstract description 6
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 abstract description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 15
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 10
- 239000010408 film Substances 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 5
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 5
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
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- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【解決手段】ガラス基板1に有機材料の蒸着を行う蒸着用容器3と、蒸着材料が収容されるとともに加熱器22により蒸着材料を加熱し蒸発させるための材料収容容器21が配置される蒸発用容器4と、蒸着用容器3の底壁部に形成された蒸気導入口5と蒸発用容器4の上壁部に形成れさた蒸気導出口6とを接続する連通穴部9aを有する接続部材9と、蒸発用容器4に接続用通路17を介して接続されて材料収容容器21を所定の予熱温度に加熱するための予熱用容器13とを具備し、且つ連通穴部9aを開閉自在な蒸気用ゲートバルブ8および接続用通路17を開閉自在な搬入用ゲートバルブ15を設けたものである。
【選択図】 図1
Description
この液晶画面については、バックライトを必要とするもので、視野範囲、消費電力などの点で難点があり、最近、自発光性の有機EL方式のディスプレイが注目されている。
この特許文献1に開示された内容は、真空チャンバの下部に、真空弁がそれぞれ設けられた有機EL材料の材料放出口が2個配置されるとともに、これら各放出口に材料を加熱するセル(蒸発源)がそれぞれ配置されたセル室(蒸発室)が接続されたものである。
被蒸着部材が配置されて蒸着が行われる蒸着用容器と、蒸着材料が収容されるとともに加熱手段により当該蒸着材料を蒸発させるための材料収容容器が配置される蒸発用容器と、上記蒸着用容器の底壁部に形成された蒸気導入口と蒸発用容器の上壁部に形成れさた蒸気導出口とを接続する連通穴部を有する接続部材と、上記蒸発用容器に接続用通路を介して接続されて材料収容容器を所定の予熱温度に加熱するための予熱用容器とを具備したものである。
以下、本発明の実施の形態1に係る蒸着装置を、図1および図2に基づき説明する。
本実施の形態1においては、有機ELディスプレイの表示部を製造する場合、すなわち有機材料をガラス基板の表面に蒸着させる場合について説明する。
次に、移送用治具32を取出用容器14から蒸発用容器4内に挿入して、棒状体35の先端おねじ部35aを材料収容容器21のねじ穴21bに螺合させ、図1の仮想線にて示すように、材料収容容器21を取出用容器14内に移送(移動)させる。
すなわち、出入用ゲートバルブ29を開き、新たに蒸着材料が充填された材料収容容器21を予熱用容器13内の容器載置台24上に載置した後、出入用ゲートバルブ29を閉じる。そして、真空ポンプを作動させて予熱用容器13内を所定の真空度下にした後、加熱器22により材料収容容器21を予熱し、次の交換時まで待機状態にされる。その後、上述したと同様の手順にて材料収容容器21の交換を行えばよい。勿論、材料収容容器21を各容器間で移送させる際には、蒸発用容器4における容器載置台23は、材料収容容器21に移送用治具31,32を係合させるために、他の容器13,14内に配置された容器載置台(例えば、22)と同一の高さ(以下、基準高さともいう)となるように下降されている。
[実施の形態2]
次に、本発明の実施の形態2に係る蒸着装置を、図3および図4に基づき説明する。
次に、上記構成における材料収容容器21の交換作業における要部手順、例えば材料収容容器21を蒸発用容器4内に移送した後、その蒸発材料の導入量を調節する手順について説明する。
2 ガラス基板
3 蒸着用容器
4 蒸発用容器
5 蒸気導入口
6 蒸気導出口
7 ニードルバルブ
8 蒸気用ゲートバルブ
9 接続部材
9a 連通穴部
13 予熱用容器
14 取出用容器
21 材料収容容器
21a 材料放出口
22 加熱器
23 容器載置台
24 容器載置台
26 昇降用棒状体
27 圧縮ばね
31 移送用治具
32 移送用治具
35 移送用棒状体
42 加熱容器
43 摺動溝部
44 摺動用治具
46 摺動用棒状体
Claims (3)
- 所定の真空度下において、蒸発された蒸着材料を被蒸着部材に付着させて蒸着を行う蒸着装置であって、
被蒸着部材が配置されて蒸着が行われる蒸着用容器と、蒸着材料が収容されるとともに加熱手段により当該蒸着材料を蒸発させるための材料収容容器が配置される蒸発用容器と、上記蒸着用容器の底壁部に形成された蒸気導入口と蒸発用容器の上壁部に形成れさた蒸気導出口とを接続する連通穴部を有する接続部材と、上記蒸発用容器に接続用通路を介して接続されて材料収容容器を所定の予熱温度に加熱するための予熱用容器とを具備したことを特徴とする蒸着装置。 - 蒸発用容器内に配置された材料収容容器の材料放出口を、上記連通穴部に押し付けるための押付手段を、蒸発用容器側に設けたことを特徴とする請求項1に記載の蒸着装置。
- 押付手段により接続部材側に押し付けられた状態の蒸発用容器を移動させて蒸気導出口に対する材料放出口の開口面積を調節し得る移動手段を設けたことを特徴とする請求項1または2に記載の蒸着装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003426016A JP4436664B2 (ja) | 2003-12-24 | 2003-12-24 | 蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003426016A JP4436664B2 (ja) | 2003-12-24 | 2003-12-24 | 蒸着装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005179764A true JP2005179764A (ja) | 2005-07-07 |
JP4436664B2 JP4436664B2 (ja) | 2010-03-24 |
Family
ID=34785660
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003426016A Expired - Fee Related JP4436664B2 (ja) | 2003-12-24 | 2003-12-24 | 蒸着装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4436664B2 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009515052A (ja) * | 2005-11-07 | 2009-04-09 | セメス カンパニー リミテッド | 有機物蒸着装置及び方法、そしてそれを具備する基板処理システム |
JP2010111916A (ja) * | 2008-11-06 | 2010-05-20 | Ulvac Japan Ltd | 真空蒸着装置、蒸着源、成膜室、蒸着容器交換方法 |
JP2011522118A (ja) * | 2008-05-30 | 2011-07-28 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 基板をコーティングするための装置 |
WO2011122018A1 (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-06 | 国立大学法人神戸大学 | 薄膜形成装置及び薄膜形成方法 |
JP2013189713A (ja) * | 2008-04-22 | 2013-09-26 | Picosun Oy | 堆積反応炉のための装置および方法 |
FR3018082A1 (fr) * | 2014-03-03 | 2015-09-04 | Riber | Procede de rechargement d'une cellule d'evaporation |
WO2018166619A1 (en) * | 2017-03-17 | 2018-09-20 | Applied Materials, Inc. | Material deposition arrangement, vacuum deposition system and methods therefor |
WO2022108326A1 (ko) * | 2020-11-18 | 2022-05-27 | 주식회사 엘지화학 | 유기발광다이오드의 증착장치 |
WO2022175703A1 (en) * | 2021-02-16 | 2022-08-25 | Applied Materials, Inc. | Crucible, distribution pipe, material deposition assembly, vacuum deposition system and method of manufacturing a device |
-
2003
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Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009515052A (ja) * | 2005-11-07 | 2009-04-09 | セメス カンパニー リミテッド | 有機物蒸着装置及び方法、そしてそれを具備する基板処理システム |
JP2013189713A (ja) * | 2008-04-22 | 2013-09-26 | Picosun Oy | 堆積反応炉のための装置および方法 |
JP2014169501A (ja) * | 2008-05-30 | 2014-09-18 | Applied Materials Inc | 基板をコーティングするための装置 |
JP2011522118A (ja) * | 2008-05-30 | 2011-07-28 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 基板をコーティングするための装置 |
JP2010111916A (ja) * | 2008-11-06 | 2010-05-20 | Ulvac Japan Ltd | 真空蒸着装置、蒸着源、成膜室、蒸着容器交換方法 |
JP5812496B2 (ja) * | 2010-03-30 | 2015-11-11 | 国立大学法人神戸大学 | 薄膜形成装置及び薄膜形成方法 |
WO2011122018A1 (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-06 | 国立大学法人神戸大学 | 薄膜形成装置及び薄膜形成方法 |
FR3018082A1 (fr) * | 2014-03-03 | 2015-09-04 | Riber | Procede de rechargement d'une cellule d'evaporation |
EP2915897A1 (fr) * | 2014-03-03 | 2015-09-09 | Riber | Procédé de rechargement d'une cellule d'évaporation |
WO2018166619A1 (en) * | 2017-03-17 | 2018-09-20 | Applied Materials, Inc. | Material deposition arrangement, vacuum deposition system and methods therefor |
CN108966660A (zh) * | 2017-03-17 | 2018-12-07 | 应用材料公司 | 材料沉积布置结构、真空沉积系统及其方法 |
JP2019512042A (ja) * | 2017-03-17 | 2019-05-09 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 材料堆積装置、真空堆積システム及びそのための方法 |
CN108966660B (zh) * | 2017-03-17 | 2021-02-26 | 应用材料公司 | 材料沉积布置结构、真空沉积系统及其方法 |
WO2022108326A1 (ko) * | 2020-11-18 | 2022-05-27 | 주식회사 엘지화학 | 유기발광다이오드의 증착장치 |
EP4190937A4 (en) * | 2020-11-18 | 2023-12-27 | Lg Chem, Ltd. | DEPOSITION DEVICE FOR ORGANIC LIGHT-LIGHT DIODE |
WO2022175703A1 (en) * | 2021-02-16 | 2022-08-25 | Applied Materials, Inc. | Crucible, distribution pipe, material deposition assembly, vacuum deposition system and method of manufacturing a device |
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