JP5206065B2 - フォトレジスト用重合体の製造方法及びそれに用いる蒸留缶 - Google Patents
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Description
本発明の蒸留缶は、缶体と、缶体の外周に配設される、缶体の内部に導入された液体の液面変動に追従して加熱領域を変動させることが可能な加熱用ジャケットと、を備えたものである。以下、その詳細について説明する。
東ソー社製のGPCカラム(商品名「G2000HXL」2本、商品名「G3000HXL」1本、商品名「G4000HXL」1本)を使用し、流速:1.0mL/分、溶出溶剤:テトラヒドロフラン、カラム温度:40℃の分析条件で、単分散ポリスチレンを標準とするゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)により測定した。
フォトレジスト用重合体溶液の調製に用いた溶媒を、光線透過距離10mmの石英セルに充填し、500nmの光線を透過させて溶媒の透過率を測定し、ベースラインを作成した。調製したフォトレジスト用重合体溶液(試料)を石英セルに充填し、500nmの光線を透過させ、作成したベースラインを基準として試料の透過率を測定・算出した。直線透過率が90%以上であった場合を「不溶解異物無し」と評価した。
島津製作所社製のガスクロマログラフ装置(商品名「GC−14B」)を使用し、温度:200℃、時間:30分、サンプル量:3μLの条件で分析を行った。溶媒(a)(PGMEA)のピーク面積に対する、低沸点成分(アセトン及びメタノール)のピーク面積の割合から、低沸点成分の含有割合を算出した。
蒸留缶内壁における析出物の発生有無を目視により確認した。
<重合体溶液調製工程>
撹拌機、温度計、還流冷却装置、モノマー溶液滴下ノズル、及び開始剤溶液滴下ノズルが設置された容積200Lの重合反応容器に、メチルエチルケトン(MEK)32kgを投入して十分に窒素置換した後、100rpmで撹拌しながら80℃まで昇温した。次いで、5−メタクリロイルオキシ−2,6−ノルボルナンカルボラクトン(NLM)15kg、及び2−メチル−2−アダマンチルメタクリレート(MAdMA)20kgのMEK溶液と、アゾビスイソブチロニトリル0.5kgのMEK溶液を、それぞれ3時間かけて滴下した。滴下終了後、更に3時間撹拌した後、室温まで冷却して重合体溶液を調製した。高速液体クロマトグラフィーを用いて測定した結果、モノマーの転化率は90%であり、重合体100%に対する残存モノマー量は、約11%であった。また、得られた重合体の分子量分布(分散度:Mw/Mn)は1.73であった。
100kgのメタノールを入れた容積200Lの容器中に、重合体溶液(固形分濃度:約25%)20kgを、150rpmの撹拌速度で撹拌しながら12.5g/minの滴下速度で滴下して沈殿を生じさせ、白色のスラリーを得た。ポリテトラフルオロエチレン(登録商標「テフロン」、デュポン社)製の濾布(通気量:3.0cm3/(cm2・sec)、濾過面積:1m2)を底部に張設した加圧濾過器を使用し、0.2MPaで窒素加圧した条件でスラリーを濾過することで白色固体(フォトレジスト用重合体)を得た。得られた白色固体5kgを、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)30kgとアセトン50kgの混合溶媒に1時間溶解させてフォトレジスト用重合体溶液を得た。得られたフォトレジスト用重合体溶液は、未溶解分のない清澄な溶液であった。
得られたフォトレジスト用重合体溶液を、撹拌機、温度計、還流冷却装置、減圧装置、及びフォトレジスト用重合体溶液滴下ノズルが設置された、図1に示すような、容積200Lの蒸留缶(分割ジャケット単位の数:4)内に移送した。加熱用ジャケット内に90℃の温水を供給し、減圧条件下で蒸留を行った。蒸留の初期段階は、全ての分割ジャケット単位に温水を供給して蒸留を行った。蒸留缶内の液面の低下に伴い、最上部の分割ジャケット単位から順次温水供給を停止しつつ、分割ジャケット単位3cへの温水の供給を停止するまで蒸留を続行して、フォトレジスト用重合体を含有する溶液を得た。蒸留終了後の蒸留缶内壁に、析出物の発生は認められず、得られた溶液は、未溶解分のない清澄な溶液であった。また、得られた溶液の透過率は95%であり、低沸点成分の含有割合は0.4%であった。
「蒸留工程」において、図1に示すような蒸留缶を使用せず、一体型の加熱用ジャケット(加熱領域を変動させることが不可能なもの)が缶体の外周に配設された蒸留缶を使用して蒸留を行ったこと以外は、前述の実施例1と同様にして、フォトレジスト用重合体を含有する溶液を得た。蒸留終了後の蒸留缶内壁に、析出物の発生は認められた。また、得られた溶液の透過率は70%であり、不溶解異物の発生が示唆された。更に、低沸点成分の含有割合は0.5%であった。
Claims (11)
- 缶体と、前記缶体の外周に配設される、前記缶体の内部に導入された液体の液面変動に追従して加熱領域を変動させることが可能な加熱用ジャケットと、を備えた蒸留缶を使用して、フォトレジスト用重合体を含有する溶液を蒸留する蒸留工程を有するフォトレジスト用重合体の製造方法。
- 前記加熱用ジャケットが、前記缶体の上下方向に2〜10箇所に分割されたものである請求項1に記載のフォトレジスト用重合体の製造方法。
- 前記加熱用ジャケットが、前記缶体の下部に対応する位置に熱媒入口を有するとともに、
前記缶体の上部に対応する位置から下部に対応する位置にわたって、独立した複数の熱媒出口を有するものである請求項1に記載のフォトレジスト用重合体の製造方法。 - 前記溶液が、
重合により得られた前記フォトレジスト用重合体を含有する反応溶液と、常圧における沸点が、レジスト塗膜形成用の溶媒(a)の常温における沸点以下である貧溶媒と、を混合して得られた、前記フォトレジスト用重合体を含有する沈殿物を、
前記溶媒(a)と、常圧における沸点が前記溶媒(a)の沸点以下である良溶媒(b)の少なくともいずれかを含有する溶媒に再溶解させて得られたものであり、
前記蒸留工程が、
前記溶液に含有される不純物を、常圧下又は減圧下で留去する工程である請求項1〜3のいずれか一項に記載のフォトレジスト用重合体の製造方法。 - 前記不純物のうち、常圧における沸点が前記溶媒(a)の沸点以下である成分の割合が、前記フォトレジスト用重合体に対して1質量%以下である請求項4に記載のフォトレジスト用重合体の製造方法。
- 前記良溶媒(b)の、前記フォトレジスト用重合体を溶解させる速度が、
前記溶媒(a)の、前記フォトレジスト用重合体を溶解させる速度に比して速く、
前記良溶媒(b)に前記フォトレジスト用重合体を溶解させた溶液(b)の粘度が、
前記溶媒(a)に前記フォトレジスト用重合体を、前記溶液(b)と同一の濃度で溶解させた溶液(a)の粘度に比して低い請求項4または5に記載のフォトレジスト用重合体の製造方法。 - 前記溶媒(a)が、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン、及び乳酸エチルからなる群より選択される少なくとも一種である請求項4〜6のいずれか一項に記載のフォトレジスト用重合体の製造方法。
- 前記良溶媒(b)が、アセトン、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、及び酢酸エチルからなる群より選択される少なくとも一種である請求項4〜7のいずれか一項に記載のフォトレジスト用重合体の製造方法。
- 缶体と、前記缶体の外周に配設される、前記缶体の内部に導入された液体の液面変動に追従して加熱領域を変動させることが可能な加熱用ジャケットと、を備えた蒸留缶。
- 前記加熱用ジャケットが、前記缶体の上下方向に2〜10箇所に分割されたものである請求項9に記載の蒸留缶。
- 前記加熱用ジャケットが、前記缶体の下部に対応する位置に熱媒入口を有するとともに、
前記缶体の上部に対応する位置から下部に対応する位置にわたって、独立した複数の熱媒出口を有するものである請求項9に記載の蒸留缶。
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