JP5796859B2 - ナノスケールグラフェンプレートレットの製造方法 - Google Patents
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Description
より具体的には、後述の方法で得られるナノスケールプレートレットは概して、既に知られている他の方法で得られるナノスケールプレートレットより簡単に大規模に且つ環境への影響を抑えて製造することができる。本発明の目的である方法で得られるナノスケールプレートレットは、驚くべきことに、改善された電子伝導性、並びに、当該分野で既知の方法で得られるナノスケールプレートレットと比較すると、中遠赤外線レンジ内でのより高い吸収力及び放射線放出を有する。
このナノスケールプレートレットは、驚くべきことに、従来のナノスケール充填材より、無極性又は極性がごくわずかなポリマーマトリックスに容易に分散可能である。
本発明の目的は、このナノスケールプレートレットを使用して得られる熱可塑性ポリマー組成物にも関し、ナノスケールプレートレット含有量は、ポリマーの質量に対して例えば30%以下である。
このナノコンポジット組成物から得られる最終産物は、典型的には、添加剤を含有していないポリマー又は従来の充填材を同じ濃度で含有させさえしたポリマーを使用した類似の配合物より改善された機械抵抗、導電性及び断熱性を有する。この最終産物は、高い熱的、電気的及び機械的性能を有するプラスチック製品の分野で特に有用である。
特許出願CA2647727は、改善された機械的性質を備えた、カーボンナノチューブ(MWNTとDWNTとの組み合わせ)及びエポキシマトリックスをベースとした高分子ナノコンポジット組成物に関する。
国際特許出願WO2006/114495パンフレットには、60質量%未満の濃度でナノチューブを含有する、気泡寸法(cell dimension)<150μmの高分子発泡体(熱可塑性及び熱硬化性)が記載されている。これらの発泡体は食品包装、断熱、膜等の分野で使用される。
弱いファンデルワールス力で繋がれた同心のグラフェンチューブとして表わされるMWNTは、典型的にはSWNTと同様の電子的性質を有する。
カーボンナノチューブは現在でも依然として極めて高コストであり、また界面での十分な接着性及びポリマーマトリックス中での良好な分散度を保証するためには複雑な化学的及び/又は機械的操作を必要とすることが多い。
近年、グラフェン(炭素原子で構成される二次元の六方格子)及びナノスケールグラフェンプレートレット(1枚以上のグラフェンシートを重ね合わせることで得られる)が、カーボンナノチューブに代わる効果的且つより経済的な代替物であると判明している。
共有結合した酸素基(即ち、エポキシ、ヒドロキシル基、より度合いの低いカルボニル及びカルボン酸基)、
共有結合していない水(Stankovich et al,Carbon,45,1558−1565(2007))
を層間挿入(intercalated)した黒鉛層から成る材料である。
黒鉛酸化物は、X線回折(XRD)で特徴付けすることができる。GOに典型的なXRDスペクトルは一般に約0.71nmの格子面間距離(WO2008/045778)を示し、結果的にそのままの黒鉛に典型的な格子面間距離0.34nmより大きい。
GOの官能基がこの材料を高親水性にし、これによってこの材料は水溶液中で簡単に剥離可能となる。特に、特許出願WO2008/048295では、例えば水中で黒鉛酸化物を剥離するために、周波数約20kHzの音波を使用して最終的に安定したコロイド懸濁液を得ている。
このような欠点を回避するために物理的及び化学的なものの両方を含めた様々な方法が文献で提案されていて、これらの方法では、高分子ナノコンポジットにおける可能性のある使用のために、前駆体としての黒鉛酸化物から開始してナノスケールグラフェンプレートレットを得る(WO2008/045778;Stankovich et al,Carbon,45,1558−1565(2007);Tung et al,Nature Nanotech.4,25−29(2008);WO2008/048295;Si and Samulski,Nano Letters,8,1679−1682(2008);WO2009/018204;WO2009/049375)。
Tungら(Nature Nanotech.4,25−29(2008))は、GOを純粋なヒドラジンで還元して導電性のヒドラジングラフェン(HG)を得ていて、これを乾燥させてジメチルスルホキシド(DMSO)又はN,N−ジメチルホルムアミド等の有機溶媒に再懸濁させることができる。
ナノスケールグラフェンプレートレットを製造する代替の合成方法では、黒鉛又はその誘導体の、化学的及び/又は物理的方法による剥離を想定している(US2009/0026086;US2008/0206124;US2008/0258359;US2009/0022649;Hernandez et al.,Nat.Nanotechnol.3,N.9,pp.563−568(2008);Hernandez et al.,J.Am.Chem.Soc.,2009,131(10),pp.3611−3620;US2009/0155578;Li et al.,Science 319,1229−1232(2008);Li et al.,Nature Nanotech.3,538−542(2008))。Hernandezらは(“High−yield production of graphene by liquid−phase exfoliation of graphite”,Nat.Nanotechnol.3,N.9,pp.563−568,2008)、N−メチルピロリドン(NMP)、N,N−ジメチルアセトアミド、γ−ブチロラクトン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(DMEU)等の有機溶媒中での黒鉛の音波処理及びその結果としての剥離によって高品質の単層グラフェンシートのコロイド懸濁液を得る方法について記載している。
ナノスケールプレートレットは、20/1より高い、より好ましくは40/1より高い、より一層好ましくは80/1〜1000/1の炭素/酸素(C/O)モル比(元素分析で測定)を有する。
特に、本発明の目的は、黒鉛酸化物の代わりにグラフェン前駆体から開始して得られるナノスケールグラフェンプレートレットに関する。
驚くべきことに、出願人は、黒鉛及び/又は黒鉛材料を、慣用的ではない物理的な処理を通じて、既知の他の方法より経済的に且つ環境への影響を抑えて、酸素基で選択的に官能化できることを発見した(Brodie B.C.,Philos.Trans.R.Soc.London,149,249(1859);Staudenmaier L.,Ber.Dtsh.Chem.Ges,31,1481(1898);Hummers W.et al,J.Am.Chem.Soc.,80,1339(1958))。
本発明において、この処理は、制御された雰囲気中での熱酸化から成る。
第1の手順は、酸化熱処理が様々な濃度の酸素の存在下で起きることを想定していて、好ましくはO2量は全体に対して0.5〜100体積%、より一層好ましくは全体に対して1〜30体積%である。窒素又は他の不活性ガス(ヘリウム、アルゴン等)を酸素の希釈に使用し得る。
有利には、特定の量の水蒸気も酸化雰囲気に加え得る。水蒸気の濃度は、0.5〜50体積%、好ましくは0.5〜10体積%、より一層好ましくは0.5〜5体積%であり得る。
出願人は、驚くべきことに、黒鉛及び/又は黒鉛材料を、オゾン又はオゾンを含有するガスを使用しても酸素基で官能化できることも発見した。
・誘電体で隔てられた2つの電極間で発生する及び実際の放電領域からくる特定の放電(クラウン効果)を通す、酸素を含有するガスの使用。
・波長約185nmを有するUVランプの使用。
・誘電体バリア放電によって形成される冷たいプラズマの使用。
ガスの酸素含有量は可変である。含有量が高いと、一般にオゾン発生量はより多い。特定のケースにおいて、ガスは空気(この場合、酸素は典型的には約20%)又は純粋な酸素であり得る。
オゾンを含有するガスを黒鉛材料上に流すことによって、黒鉛材料が官能化される。
オゾンを含有するガスを、黒鉛材料に1分より長い時間、好ましくは1時間より長い時間にわたって通す。
ガス及び/又は黒鉛材料を、−200〜600℃、好ましくは−30〜200℃の温度にすることができる。
本発明で使用する黒鉛材料は天然、合成又は膨張させたものであり得て、0.5〜50μm、好ましくは1〜15μmの粒径及び比表面積5〜20m2/gを有し得る。一例がKropfmuhl社の製品UF 2であり、4.5μmの粒径を有する。
あるいは、他の黒鉛材料を使用し得る。黒鉛材料又は黒鉛系材料は、IUPACによって記載されるものと意図される(IUPAC Recommendations(1995)の“RECOMMENDED TERMINOLOGY FOR THE DESCRIPTION OF CARBON AS A SOLID”を参照のこと)。
この官能化黒鉛又は黒鉛材料は、驚くべきことに、ナノスケールグラフェンプレートレットの合成における黒鉛酸化物に代わる効果的な代替物であると判明している。
更に、このナノスケールプレートレットは、炭素量と比較すると、芳香族及び/又は脂肪族炭素に結合した酸素原子を殆ど含有しない。
従来の黒鉛酸化物の剥離/還元で得られるナノスケールプレートレットより、特に無極性又はわずかに極性のポリマーマトリックスにおける改善された分散性が得られる。
更に、ポリマーマトリックス中での分散性を更に改善するために、ポリマー鎖を本発明の目的であるナノスケールプレートレットに挿入し得る。
本発明の目的であるナノスケールグラフェンプレートレットをその中に分散させ得る熱可塑性ポリマーマトリックスには、ビニルポリマー(例えばポリエチレン、ポリプロピレン)、ビニル芳香族モノマー(例えばポリスチレン、耐衝撃性ポリスチレン(HIPS)、ポリアルファメチルスチレン及びスチレン−アルファメチルスチレンコポリマー)が含まれる。
本発明の目的であるナノコンポジットポリマー組成物は、ポリマーの質量に対して30%以下のある含有量のナノスケールプレートレットを有する。
一般に従来の材料と共に使用される慣用の添加剤(顔料、安定剤、成核剤、難燃系、静電気防止剤、離型剤等)を、本発明の目的であるナノコンポジットポリマー組成物に添加し得る。
ナノコンポジット組成物は概して高い導電性を有し、これが帯電防止用途(ESD)及び電磁放射線からの保護(EMIシールド)への使用を可能にしている。
機械的特性、例えば弾性係数及び熱耐性(より高いガラス転移温度)も改善される。
ナノコンポジット組成物を製造方法するための第1の方法は、ポリマーを十分な溶媒(例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン)に溶解させる溶解法である。次に、ナノスケールグラフェンプレートレットをこの溶液に加え、例えば音波流を利用して分散させる。代替の手順においては、ナノスケールグラフェンプレートレットを溶媒の一部に予備分散させ得て、この分散液を続いてポリマー溶液と混合する。多くの場合、溶媒は、蒸発によって生成物から除去できるように低沸点になり得る。沸点がより高い溶媒を使用する場合、コンポジットを、適切な溶媒での沈殿とそれに続く濾過及び/又は遠心分離によって回収することができる。溶液中での方法は、ナノスケールグラフェンプレートレットを適切な溶媒中の安定した懸濁液の形態で直接合成する場合に特に有用である。
ナノコンポジット組成物を製造方法するための第2の方法は、溶融状態での混合から成り、この方法ではポリマーを融点又は軟化点より高い温度にし、次にナノスケールグラフェンプレートレットと混合する。これを目的として使用されるナノスケールプレートレットは好ましくは粉末形態である。混合は、プラスチック材料の加工に一般に使用される装置で行うことができる(二軸押出機、ブラベンダー混合機等)。
別の代替の方法は現場での(in-situ)重合によって表わされ、この方法ではナノスケールグラフェンプレートレットをモノマーに分散させ、このモノマーを続いて重合する。このモノマーを適切な溶媒に溶解させることもでき、低粘度にすることで、ナノスケール装入材料の良好な分散度を確保することができる。この方法の間、ナノスケールプレートレットを分散させ続けるために、重合を撹拌条件下で行うこともできる。
ナノスケールプレートレットを場合によっては重合前に官能化させることもできる。特に、ビニル基を挿入し得る。このようにして、ナノスケールプレートレットを共重合することによって、ポリマーが融点を超えたとしても再凝集を防止することができる。
(a)1種以上の重合性モノマー(例えば、ビニル及びビニル芳香族モノマー)を含むベースの重合によって生成されるポリマーマトリックスと、
(b)ポリマーマトリックスに球状に取り込まれた、ポリマー(a)に対して1〜10質量%の発泡剤と、
(c)ポリマー(a)に対して0.004〜15質量%、好ましくは0.01〜5質量%、より一層好ましくは0.04〜2質量%の、本発明の目的であるナノスケールプレートレットと、を含む。
驚くべきことに、この発泡性コンポジットから得られる発泡体が、同じ密度でも、そのナノスケールプレートレットを含有していないポリマーの発泡体と比較すると、改善された断熱性を示すことが判明している。断熱性能は、驚くべきことに、他の不透熱性物質(例えば、石炭、黒鉛、アルミニウムフレーク)を使用して得られる発泡体より概して良好である。
本発明の目的である発泡性ポリマー組成物は、以下でより詳細に説明するように、
(1)ナノスケールグラフェンプレートレット及び考えられる添加剤のモノマーへの溶解/分散とそれに続く水性懸濁液中での重合並びに発泡剤の添加を含む、懸濁液中での方法、
(2)ポリマーマトリックス及びナノスケールグラフェンプレートレットを含む予備生成されたポリマー組成物の懸濁(例えば、水性)とそれに続く発泡剤の添加及び取り込みを含む懸濁液中での方法、
顆粒若しくは粉末の形態又は既に溶融状態にあるビニル又はビニル芳香族ポリマーをナノスケールグラフェンプレートレット(そのまま又はマスターバッチの形態)及び他の考えられる添加剤と混合し、
任意で、まだ溶融状態にないならば、ポリマー混合物をビニル芳香族ポリマーの融点より高い温度にし、
発泡剤を溶融したポリマーに、他の考えられる添加剤(少なくとも30質量%、好ましくは50〜90質量%の臭素を含有する、モノマーベースに対して0.1〜3質量%、好ましくは0.4〜2.2質量%の自消性臭素化添加剤及びモノマーベースに対して0〜1質量%、好ましくは0.01〜0.4質量%の、少なくとも1つのC−C又はO−O熱不安定性結合を有する相乗剤を含有する難燃系をベースとした防炎系等)と共に取り込ませ、
このようにして得られたポリマー組成物を静的又は動的混合要素によって混合し、
ステップを順番に含む連続塊状方法(continuous mass process)、あるいは
(4)直接押出成形方法、即ちビニル芳香族ポリマーの顆粒とナノスケールグラフェンプレートレット(そのまま又はマスターバッチの形態)との混合物を直接、押出機に送り、そこに発泡剤も送られる方法
によって製造方法することができる。あるいは、ポリマーは、溶液での重合プラントからの既に溶融状態にあるポリマーであり得る。
実施例では図1に言及し、図1は、
(a)実施例11のような化学酸化による黒鉛酸化物、
(b)実施例11のように黒鉛酸化物から得られるナノスケールプレートレット、
(c)実施例8のような熱酸化から得られるFOG及び
(d)実施例8のようにFOGから得られるナノスケールプレートレット
についての中赤外線(400〜4000cm-1)における透過率(T)対波長(λ)を表す。
オゾンから開始してのナノスケールグラフェンプレートレットの調製
UF2−96/97タイプの黒鉛粉末(Kropfmuhl社製)を酸化アルミニウムの管に入れ、石英ウールで端部を閉じる。この管を冷蔵庫に入れて−18℃に維持する。
酸素シリンダ式、マイクロラボタイプの一連のオゾン発生器(Biaccabi社製)を使用する。このようにして発生させたオゾンを、冷蔵庫内部に位置したコイル管に通すことによって予冷する。次に、このオゾンを、黒鉛の入った管のフラッシングに使用する。
オゾンでの24時間にわたるフラッシング後、ナノスケールグラフェンプレートレットの前駆体(FOG)が入った管を冷蔵庫から取り出し、次に1100℃に予熱したアルゴン雰囲気下のリンドバーグ炉に入れる。30秒後、この管を炉から取り出し、ここでもアルゴン流下で冷却する。
オゾンから開始してのナノスケールグラフェンプレートレットの調製
UF2−96/97タイプの黒鉛粉末(Kropfmuhl社製)を酸化アルミニウムの管に入れ、石英ウールで端部を閉じる。この管を冷蔵庫に入れて−18℃に維持する。
酸素シリンダ式、マイクロラボタイプの一連のオゾン発生器(Biaccabi社製)を使用する。このようにして発生させたオゾンを、冷蔵庫内部に位置したコイル管に通すことによって予冷する。次に、このオゾンを、黒鉛の入った管のフラッシングに使用する。流出口で、ガスの一部をオゾン発生器の注入口の酸素流にベンチュリ管で再循環させる。黒鉛をオゾン流に12時間にわたって供する。次に、このようにして得られた前駆体(FOG)を、実施例1に従ってリンドバーグ炉に送る。
得られたナノスケールプレートレットの量は、開始時の黒鉛の質量の約40%に等しい。
炭素/酸素比は(元素分析で測定)700であると判明した。
ポリスチレン/ナノスケールグラフェンプレートレットコンポジットの調製
ナノスケールグラフェンプレートレットの前駆体(FOG)を、実施例2に従って製造する。
97.5部のポリスチレンを、N,N−ジメチルホルムアミドに溶解させる。ナノスケールグラフェンプレートレットの前駆体2.5部を、溶液に浸漬させた超音波ソノトロードの助けを借りて溶液中に分散させる。溶液を90℃にまで加熱し、次にジメチルヒドラジンを添加し、24時間にわたって作用させる。この溶液を、メタノールを満たした容器に滴加し、力強い撹拌下に維持する。遠心分離で分離した化合物を洗浄、乾燥させ、乳棒を使用して粉末形態に細分化する。
測定された導電性は10-5s/mであると判明した。
ナノスケールグラフェンプレートレットを含有する発泡性ポリスチレンの調製
61部のポリスチレンN1782(Polimeri Europa社製)、2部のエチレン−ビス−ステレアミド(stereamide)、20部のSaytex HP900(ヘキサブロモシクロドデカン。Alberarle社が販売)、5部のPerkadox 30(2,3−ジメチル−2,3−ジフェニルブタン。Akzo Nobel社が販売)及び実施例3に従って製造したナノスケールグラフェンプレートレットのマスターバッチ12部を、二軸押出機で混合する。
n−ペンタン(75%)とイソペンタン(25%)との混合物5部を、一軸押出機の流出口のポリマー溶融物に添加する。このようにして得られた混合物を、一連の静的混合要素で混合する。ギアポンプで、このようにして得られた混合物の圧力を200bargにまで上昇させる。次に、混合物を混合交換器(SMR)で約170℃にまで冷却する。
顆粒化チャンバ内の圧力は5バールである。水は冷却噴霧液として使用され、窒素はキャリアガスとして使用される。
得られる顆粒を遠心乾燥機で乾燥させ、次にコーティングで被覆する。このコーティングは、顆粒に、乾燥顆粒1000部あたり3部のモノステアリン酸グリセリン、1部のステアリン酸亜鉛及び0.2部のグリセリンを添加することによって調製される。コーティングの添加剤は、連続スクリュー混合機により顆粒と混合される。
次に、ブロックを切断して平坦なシートを作製し、この上で熱伝導性を測定する。
同じブロックから得られたシートの一部を70℃の炉内に2日間にわたって置く。次に、規格DIN 4102に準拠した耐火挙動試験用に試験試料(9cmx19cmx2cm)を採取する。試験試料は試験を通過する。
石炭含有量の分析によって、含有量が0.3質量%であると判明した。熱伝導性は、17g/lで32.0mW/mKであると判明した。EN ISO844に準拠して行われた10%の圧縮での応力は、同じく17g/lで110kPaであると判明した。
オゾンから開始してのナノスケールグラフェンプレートレットの調製
UF2−96/97タイプの黒鉛粉末(Kropfmuhl社製)を、酸化アルミニウムの管に入れる。
乾燥空気式のマイクロラボタイプの一連のオゾン発生器(Biaccabi社製)を使用する。このようにして発生させたオゾンを含有するガス流を、水蒸気で飽和させた空気流と体積比95:5で混合する。このようにして得られた混合物で、黒鉛を24時間にわたってフラッシングする。この混合物から出たガスの一部を、水蒸気を含有する空気の注入後に再循環させる。
ポリスチレン/ナノスケールグラフェンプレートレットコンポジットの調製
980部のポリスチレンEDISTIR N1782(Mw180000g/モル、Mw/Mn=2.3、MFI(200℃、5kg)7.5g/10’を有するポリスチレン。Polimeri Europa社製)を、ミルで超微粉砕する。
得られた粉末を、押出成形し、プレス機で熱成形する。2つの金電極を得られたプラーク上に堆積し、ナノコンポジット組成物の導電性を最終的に実施例3に記載するように測定する。測定された導電性は10-6s/mであると判明した。
ポリエチレン/ナノスケールグラフェンプレートレットコンポジットの調製
液体窒素で冷却したミルに、800部のFlexirene FG30タイプの線状低密度ポリエチレン(Polimeri Europa社製。密度0.925g/l、MFI(190°、2.16kg)1.0g/10’)及び実施例5で得られた組成物200部を送る。このようにして得られた組成物を二軸押出機に送り、ここで溶融、混合する。ポリマー溶融物を、水中カッティングで顆粒化する。
このようにして得られた顆粒を、プレス機で熱成形する。次に、2つの金電極を得られたプラーク上に堆積し、ナノコンポジット組成物の導電性を最終的に実施例3に記載するように測定する。測定された導電性は10-3s/mであると判明した。
熱酸化から開始してのナノスケールグラフェンプレートレットの調製
UF2−96/97タイプの黒鉛粉末(Kropfmuhl社製)を酸化アルミニウムの管に入れ、石英ウールで端部を閉じる。
この管を、窒素雰囲気下、550℃に予熱したマッフル炉に入れる。10部の空気と、40部の窒素と50部の水蒸気との混合物を、マッフル炉内部に位置したコイル管に通すことで加熱し、次に黒鉛の入った管に入れる。550℃での4時間後、依然としてフラッシングを維持しながらマッフル炉の加熱を停止する。酸素基で官能化した黒鉛(FOG)の入った管を、1100℃に予熱したリンドバーグ管状炉に30秒にわたって入れる。
このようにして得られた粉末を、中赤外線透過率分光法(MIR 400〜4000cm-1)によって、FT−IR BRUKER分光器(モデルTensor 27)を使用して特徴付けした。試料を測定のために粉末化し、臭化カリウム(KBr)中に濃度0.1質量%で分散させた。13mmのディスクを最終的に加圧焼結した。熱酸化から開始して得られたFOG及びナノスケールグラフェンプレートレットのMIRスペクトル(透過率の観点から)を図1に示す。
ポリスチレン/ナノスケールグラフェンプレートレットコンポジットの調製
900部のポリスチレンEDISTIR N2982(Mw130000g/モル、Mw/Mn=2.3、MFI(200℃、5kg)25g/10’を有するポリスチレン。Polimeri Europa社製)を、ミルで超微粉砕する。
実施例8に記載するように調製したナノスケールグラフェンプレートレット100部を、高せん断粉末混合機(Plasmec社の混合機TRL 10)において、30秒にわたって2000rpmで900部の超微粉砕されたポリスチレンと共に混合する。
このようにして得られた組成物を二軸押出機に送り、ここで溶融、混合する。このポリマー溶融物を、スパゲッティ状に切断することによって顆粒化する。押出機には脱ガスセクションがあり、ここで揮発性成分が真空吸引によって除去される。
このようにして得られた顆粒を、プレス機で熱成形する。次に、2つの金電極を得られたプラーク上に堆積し、ナノコンポジット組成物の導電性を最終的に実施例3に記載するように測定する。測定された導電性は10-4s/mであると判明した。
0.4部のナトリウムドデシルベンゼンスルホネートを1000部の脱イオン水に、磁気アンカーで撹拌することによって分散させる。
次に、5部の黒鉛「UF1 98.5」(Kropfmuhl社製)を、一定の撹拌下に維持しながら溶液に添加する。
約5時間後、このようにして得られた生成物を遠心分離に供する。濾液を上澄み相から分離し、上澄み相を8時間にわたって60℃の炉で窒素流下で乾燥させる。上澄み相には0.2部、即ち、最初に分散させた黒鉛の4質量%の黒鉛しかない。
ナノスケールグラフェンプレートレットを、ハマーズ法(Hummers method)に従って黒鉛酸化物から開始して製造する。このようにして得られた黒鉛酸化物をセラミック管に入れ、石英ウールで端部に固定する。次に、この管を、1100℃に予熱したアルゴン雰囲気下のリンドバーグ炉に入れる。30秒後、この管を炉から取り出し、再度アルゴン流下で冷却する。
このようにして得られた粉末を、実施例8に記載の手順に従って、中赤外線透過率分光法(MIR 400〜4000cm-1)によって特徴付けした。化学的に得られた黒鉛酸化物及び黒鉛酸化物から開始して熱剥離で得られたナノスケールグラフェンプレートレットのMIRスペクトル(透過率の観点から)を図1に示す。比較すると、図1において、中赤外線吸収における上昇が、実施例8の記載に従って調製されたFOG試料及び関連するナノスケールプレートレットの場合に観察することができる。
980部のポリスチレンEDISTIR N1782(Mw180000g/モル、Mw/Mn=2.3、MFI(200℃、5kg)7.5g/10’を有するポリスチレン。Polimeri Europa社製)を、ミルで超微粉砕する。
20部のナノスケールグラフェンプレートレットを、高せん断粉末混合機(Plasmec社の混合機TRL 10)において、30秒にわたって2000rpmで980部の超微粉砕されたポリスチレンと共に混合する。
このようにして得られた混合物を二軸押出機に送り、ここで溶融、混合する。このポリマー溶融物を、スパゲッティ状に切断することによって顆粒化する。押出機には脱ガスセクションがあり、ここで揮発性成分が真空吸引によって除去される。
Claims (10)
- ナノスケールグラフェンプレートレットを製造する方法であって、
(a)黒鉛材料を酸素又はオゾンと接触させることによって、酸素基で官能化した黒鉛材料(FOG)から成る、8:1より高い炭素/酸素モル比を特徴とする前駆体を得る工程、
(b)続いて前記FOG前駆体を化学的又は物理的に還元することによって、20:1より高い炭素/酸素モル比を特徴とするナノスケールグラフェンプレートレットを得る工程、
を含むことを特徴とする方法。 - (a)酸素基で官能化した前記黒鉛材料(FOG)が、10:1より高い炭素/酸素モル比を特徴とし、
(b)前記ナノスケールグラフェンプレートレットが、50:1より高い炭素/酸素モル比を特徴とする、請求項1に記載のナノスケールグラフェンプレートレットの製造方法。 - 前記黒鉛材料に接触させる物質が酸素である、請求項1又は2に記載のナノスケールグラフェンプレートレットの製造方法。
- 前記酸素又はオゾンが、液体又はガス状の水を最高で50体積%含む、請求項1、2又は3に記載のナノスケールグラフェンプレートレットの製造方法。
- 前記接触が−200〜600℃の温度で起きる、請求項1〜4のいずれかに記載のナノスケールグラフェンプレートレットの製造方法。
- 前記接触が−200〜10℃の温度で起きる、請求項5に記載のナノスケールグラフェンプレートレットの製造方法。
- 前記黒鉛材料が、天然若しくは合成黒鉛又は膨張黒鉛である、請求項1〜6のいずれかに記載のナノスケールグラフェンプレートレットの製造方法。
- 前記FOG前駆体の化学的還元が、水性ガス、水素、ヒドラジン、メチルヒドラジン等の還元分子又は化合物によって行われる、請求項1〜7のいずれかに記載のナノスケールグラフェンプレートレットの製造方法。
- 前記FOG前駆体の物理的還元が、1分あたり10℃を超える温度勾配で少なくとも600℃にまで加熱することによって熱的に行われる、請求項1〜7のいずれかに記載のナノスケールグラフェンプレートレットの製造方法。
- 前記加熱が、1分あたり50℃を超える温度勾配で少なくとも900℃まで行われる、請求項9に記載のナノスケールグラフェンプレートレットの製造方法。
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