JP5744590B2 - インプリント方法、型、それらを用いた物品の製造方法 - Google Patents

インプリント方法、型、それらを用いた物品の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5744590B2
JP5744590B2 JP2011069404A JP2011069404A JP5744590B2 JP 5744590 B2 JP5744590 B2 JP 5744590B2 JP 2011069404 A JP2011069404 A JP 2011069404A JP 2011069404 A JP2011069404 A JP 2011069404A JP 5744590 B2 JP5744590 B2 JP 5744590B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
mold
region
area
pattern region
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2011069404A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2012204722A (ja
JP2012204722A5 (enrdf_load_stackoverflow
Inventor
松本 英樹
英樹 松本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2011069404A priority Critical patent/JP5744590B2/ja
Publication of JP2012204722A publication Critical patent/JP2012204722A/ja
Publication of JP2012204722A5 publication Critical patent/JP2012204722A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5744590B2 publication Critical patent/JP5744590B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
JP2011069404A 2011-03-28 2011-03-28 インプリント方法、型、それらを用いた物品の製造方法 Active JP5744590B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011069404A JP5744590B2 (ja) 2011-03-28 2011-03-28 インプリント方法、型、それらを用いた物品の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011069404A JP5744590B2 (ja) 2011-03-28 2011-03-28 インプリント方法、型、それらを用いた物品の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2012204722A JP2012204722A (ja) 2012-10-22
JP2012204722A5 JP2012204722A5 (enrdf_load_stackoverflow) 2014-05-01
JP5744590B2 true JP5744590B2 (ja) 2015-07-08

Family

ID=47185325

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011069404A Active JP5744590B2 (ja) 2011-03-28 2011-03-28 インプリント方法、型、それらを用いた物品の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5744590B2 (enrdf_load_stackoverflow)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5782784B2 (ja) * 2011-03-31 2015-09-24 大日本印刷株式会社 インプリント方法およびそれを実施するためのインプリント装置
JP5750992B2 (ja) * 2011-04-27 2015-07-22 大日本印刷株式会社 インプリント方法およびそれを実施するためのインプリント装置
JP6069689B2 (ja) * 2012-07-26 2017-02-01 大日本印刷株式会社 ナノインプリント用テンプレート
JP6016578B2 (ja) * 2012-10-26 2016-10-26 富士フイルム株式会社 ナノインプリント方法、その方法に使用されるモールドおよびその方法を利用したパターン化基板の製造方法
JP5833045B2 (ja) * 2013-03-04 2015-12-16 株式会社東芝 パターン形成方法及びパターン形成装置
JP6368075B2 (ja) * 2013-06-26 2018-08-01 キヤノン株式会社 モールド
JP6361303B2 (ja) * 2014-06-13 2018-07-25 大日本印刷株式会社 インプリント用モールドおよびインプリント装置
JP6385177B2 (ja) 2014-07-16 2018-09-05 キヤノン株式会社 モールド、インプリント装置および物品製造方法
JP6397265B2 (ja) * 2014-08-20 2018-09-26 キヤノン株式会社 リソグラフィ装置、物品の製造方法、情報処理装置及び決定方法
JP5867578B2 (ja) * 2014-12-22 2016-02-24 大日本印刷株式会社 インプリント用モールド複合体およびその製造方法
JP2017152673A (ja) * 2015-11-05 2017-08-31 ボード・オブ・リージェンツ, ジ・ユニバーシティー・オブ・テキサス・システム ジェット・アンド・フラッシュ・インプリントリソグラフィにおけるマルチフィールドオーバーレイ制御
JP6673403B2 (ja) * 2018-06-27 2020-03-25 大日本印刷株式会社 インプリント装置
JP7116605B2 (ja) * 2018-06-28 2022-08-10 キヤノン株式会社 インプリント材のパターンを形成するための方法、インプリント装置、インプリント装置の調整方法、および、物品製造方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6374611A (ja) * 1986-09-19 1988-04-05 Hitachi Ltd 樹脂成形用金型
EP1072954A3 (en) * 1999-07-28 2002-05-22 Lucent Technologies Inc. Lithographic process for device fabrication
JP2002219527A (ja) * 2001-01-22 2002-08-06 Toyota Motor Corp プレス金型および負角部の離型方法
WO2004089546A2 (en) * 2003-04-04 2004-10-21 Tecan Trading Ag Elastomeric tools for fabricating of polymeric devices and uses thereof
US20070126158A1 (en) * 2005-12-01 2007-06-07 3M Innovative Properties Company Method of cleaning polymeric mold
JP5266615B2 (ja) * 2006-01-18 2013-08-21 Tdk株式会社 スタンパー、凹凸パターン形成方法および情報記録媒体製造方法
JP4787125B2 (ja) * 2006-10-13 2011-10-05 本田技研工業株式会社 ブロー成形用金型
US20090166317A1 (en) * 2007-12-26 2009-07-02 Canon Kabushiki Kaisha Method of processing substrate by imprinting
US20090266418A1 (en) * 2008-02-18 2009-10-29 Board Of Regents, The University Of Texas System Photovoltaic devices based on nanostructured polymer films molded from porous template
JP5380032B2 (ja) * 2008-10-07 2014-01-08 東芝機械株式会社 シート状部材保持具、シート状部材設置装置およびシート状部材設置方法
JP2010093105A (ja) * 2008-10-09 2010-04-22 Toshiba Mach Co Ltd 被成型品保持装置、型保持装置および転写装置
JP4944158B2 (ja) * 2009-06-01 2012-05-30 株式会社日立製作所 ナノプリント用スタンパ、及び微細構造転写方法
JP2012134214A (ja) * 2010-12-20 2012-07-12 Canon Inc インプリント装置、および、物品の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2012204722A (ja) 2012-10-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5744590B2 (ja) インプリント方法、型、それらを用いた物品の製造方法
JP5893303B2 (ja) インプリント装置、それを用いた物品の製造方法
JP6004738B2 (ja) インプリント装置、それを用いた物品の製造方法
JP6140966B2 (ja) インプリント装置、それを用いた物品の製造方法
JP5759303B2 (ja) インプリント装置、それを用いた物品の製造方法
JP6021606B2 (ja) インプリント装置、それを用いた物品の製造方法、およびインプリント方法
JP5637785B2 (ja) 原版、及びそれを用いた物品の製造方法
JP2012134214A (ja) インプリント装置、および、物品の製造方法
JP2013098291A (ja) インプリント装置およびインプリント方法、それを用いた物品の製造方法
JP6774178B2 (ja) 基板を処理する装置、及び物品の製造方法
US9568819B2 (en) Holding apparatus, imprint apparatus and article manufacturing method using same
JP6659104B2 (ja) インプリント方法、インプリント装置、型、および物品の製造方法
JP2017050428A (ja) インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法
JP2013008911A (ja) クリーニング方法、それを用いたインプリント装置および物品の製造方法
JP2016103603A (ja) モールドおよびその製造方法、インプリント方法、ならびに、物品製造方法
JP2017112230A (ja) インプリント装置および物品製造方法
JP5822597B2 (ja) インプリント装置、及びそれを用いた物品の製造方法
JP2012099789A (ja) インプリント装置、及び、物品の製造方法
JP5744423B2 (ja) インプリント装置、インプリント方法及びデバイスの製造方法
JP2014022378A (ja) インプリント装置、それを用いた物品の製造方法
JP2015220299A (ja) インプリント装置および物品の製造方法
JP2013030639A (ja) 型、それを用いたインプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法
JP2012099658A (ja) インプリント装置、及びそれを用いた物品の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140314

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140314

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20141028

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20141029

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150105

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20150407

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150430

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5744590

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151