JP2015220299A - インプリント装置および物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】異なるサイズの基板に対して1つの基板保持部を共有することが可能なインプリント装置を提供すること。【解決手段】インプリント装置は、基板を保持する基板保持部を備え、基板保持部は、所定の径方向に並んでいる複数の保持領域を含み、複数の保持領域の形状は、第1の外径である第1の前記基板を保持可能とし、かつ該第1の外径とは異なる第2の外径である第2の前記基板を保持可能とするように規定される、ことを特徴とする。【選択図】図2
Description
本発明は、インプリント装置および物品の製造方法に関する。
半導体デバイスやMEMSなどの微細化の要求が進み、従来のフォトリソグラフィー技術に加え、基板(ウエハ)上に供給された未硬化の樹脂をモールド(型)で成形し、基板上にパターンを形成する微細加工技術が注目を集めている。この技術はインプリント技術とも呼ばれ、基板上に数ナノメートルオーダーの微細な構造体を形成することができる。例えば、インプリント技術の1つとして光硬化法がある。この光硬化法を採用したインプリント装置では、まず、基板上のパターン形成領域に未硬化の樹脂(光硬化性樹脂)を供給する。次に、基板上の樹脂とパターンが形成された型とを接触させる(押型する)。そして、樹脂と型とを接触させた状態で光を照射して樹脂を硬化させる。基板と型との間隔を広げる(硬化した樹脂から型を引き剥がす)ことにより、樹脂のパターンが基板上に形成される。
上記技術を採用したインプリント装置では、モールドと樹脂とを引き剥がす際に生じる応力が、樹脂に形成されるパターンの歪みなどを引き起こす場合がある。これに対して、特許文献1は、基板保持部の静電吸着部を複数の吸着ブロックに分割し、制御装置によって部分的に吸着力のON/OFF切り替えを可能とするインプリント装置を開示している。また、特許文献2は、基板保持部の吸着領域を分割し、制御装置によって各領域の吸着力を段階的に調整可能とするインプリント装置を開示している。
しかしながら、特許文献1および2のインプリント装置では、基板保持部の複数の基板サイズへの対応については考慮されていない。基板サイズの多様化に伴い、異なるサイズにも共用できる基板保持部を備えるインプリント装置が要求されている。
本発明は、このような状況を鑑みてなされたものであり、例えば、異なるサイズの基板に対して1つの基板保持部を共有することが可能なインプリント装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明は、基板に塗布された樹脂と、モールドとを接触させて、基板にパターンを形成するインプリント装置であって、基板を保持する基板保持部を備え、基板保持部は、所定の径方向に並んでいる複数の保持領域を含み、複数の保持領域の形状は、第1の外径である第1の前記基板を保持可能とし、かつ該第1の外径とは異なる第2の外径である第2の前記基板を保持可能とするように規定される、ことを特徴とする。
本発明によれば、例えば、異なるサイズの基板に対して1つの基板保持部を共有することが可能なインプリント装置を提供することができる。
以下、本発明を実施するための形態について図面などを参照して説明する。
(第1実施形態)
まず、本発明の第1実施形態に係る基板保持部を適用可能なインプリント装置ついて説明する。ここでは、このようなインプリント装置として、UV光(紫外光)の照射によって樹脂を硬化させるUV光硬化型インプリント装置を挙げる。ただし、インプリント装置は、他の波長域の光の照射によって樹脂を硬化させるインプリント装置や、他のエネルギー(例えば、熱)によって樹脂を硬化させるインプリント装置であってもよい。図1は、本実施形態に係るインプリント装置100の構成を示す概略図である。インプリント装置100は、インプリントサイクルを繰り返すことによって基板の複数のショット領域にパターンを形成するように構成されている。ここで、1つのインプリントサイクルとは、モールド(原版)を樹脂に押し付けた状態で該樹脂を硬化させることによって基板の1つのショット領域にパターンを形成するサイクルである。基板1は、モールドのパターンが転写されることで、表面層にパターンに対応した素子パターンが形成される。微動ステージ2は、基板1をXY方向及びXY面内回転方向に微小量(XY1mm程度、XY面内回転方向数度程度)駆動可能なステージであり、粗動ステージ3は、基板1をXY方向に大きく移動させる基板ステージである。微動ステージ2および粗動ステージ3は、互いに直交する方向で基板1の搬入搬出位置から基板全面へのインプリント領域を移動させることができる。インプリント装置のベースフレーム4は、微動ステージ2及び粗動ステージ3を保持し、位置決めをする。モールド5は、表面に凹凸状のパターンが刻まれている。モールド5の上下駆動を行うモールド上下移動手段5aは、基板1上の未硬化樹脂(レジスト)にモールド5を接触させ押しつける動作を行う。紫外光発生装置6は、モールド5を介して未硬化樹脂に紫外光を照射してそれを硬化させる。紫外光は、例えば、i線、g線を発生するハロゲンランプなどの光源を含む。また、紫外光発生装置6は、光源が発生した光を集光成形する機能を含む。ディスペンサー7は、未硬化樹脂を微小液滴化して吐出することで、基板1上に所定の量の樹脂を塗布することができる。未硬化樹脂を保管するタンク8は、ディスペンサー7に対して配管9により未硬化樹脂を供給する。ディスペンサー7を吐出位置と退避位置(メンテナンス位置)の間で移動させる移動手段10は、通常の吐出動作時は吐出位置に位置決めされる。移動手段10は、ディスペンサー7をメンテナンスする際には、退避位置(メンテナンス位置)に移動させ、ディスペンサー7のクリーニング及び交換を行う。アライメントスコープ11は、ディスペンサー7で未硬化樹脂を基板1上に塗付した後に、モールド5と基板1とのパターンの位置を合わせる顕微鏡である。アライメントスコープ11は、モールド5に設けられたアライメントマークと基板1上のアライメントマークとが重ね合わさる様子を顕微鏡で計測することで、相互の位置合わせを行う。定盤12は、モールド5、紫外光発生装置6、ディスペンサー7、タンク8、配管9、移動手段10、およびアライメントスコープ11を支持(固定)する。
まず、本発明の第1実施形態に係る基板保持部を適用可能なインプリント装置ついて説明する。ここでは、このようなインプリント装置として、UV光(紫外光)の照射によって樹脂を硬化させるUV光硬化型インプリント装置を挙げる。ただし、インプリント装置は、他の波長域の光の照射によって樹脂を硬化させるインプリント装置や、他のエネルギー(例えば、熱)によって樹脂を硬化させるインプリント装置であってもよい。図1は、本実施形態に係るインプリント装置100の構成を示す概略図である。インプリント装置100は、インプリントサイクルを繰り返すことによって基板の複数のショット領域にパターンを形成するように構成されている。ここで、1つのインプリントサイクルとは、モールド(原版)を樹脂に押し付けた状態で該樹脂を硬化させることによって基板の1つのショット領域にパターンを形成するサイクルである。基板1は、モールドのパターンが転写されることで、表面層にパターンに対応した素子パターンが形成される。微動ステージ2は、基板1をXY方向及びXY面内回転方向に微小量(XY1mm程度、XY面内回転方向数度程度)駆動可能なステージであり、粗動ステージ3は、基板1をXY方向に大きく移動させる基板ステージである。微動ステージ2および粗動ステージ3は、互いに直交する方向で基板1の搬入搬出位置から基板全面へのインプリント領域を移動させることができる。インプリント装置のベースフレーム4は、微動ステージ2及び粗動ステージ3を保持し、位置決めをする。モールド5は、表面に凹凸状のパターンが刻まれている。モールド5の上下駆動を行うモールド上下移動手段5aは、基板1上の未硬化樹脂(レジスト)にモールド5を接触させ押しつける動作を行う。紫外光発生装置6は、モールド5を介して未硬化樹脂に紫外光を照射してそれを硬化させる。紫外光は、例えば、i線、g線を発生するハロゲンランプなどの光源を含む。また、紫外光発生装置6は、光源が発生した光を集光成形する機能を含む。ディスペンサー7は、未硬化樹脂を微小液滴化して吐出することで、基板1上に所定の量の樹脂を塗布することができる。未硬化樹脂を保管するタンク8は、ディスペンサー7に対して配管9により未硬化樹脂を供給する。ディスペンサー7を吐出位置と退避位置(メンテナンス位置)の間で移動させる移動手段10は、通常の吐出動作時は吐出位置に位置決めされる。移動手段10は、ディスペンサー7をメンテナンスする際には、退避位置(メンテナンス位置)に移動させ、ディスペンサー7のクリーニング及び交換を行う。アライメントスコープ11は、ディスペンサー7で未硬化樹脂を基板1上に塗付した後に、モールド5と基板1とのパターンの位置を合わせる顕微鏡である。アライメントスコープ11は、モールド5に設けられたアライメントマークと基板1上のアライメントマークとが重ね合わさる様子を顕微鏡で計測することで、相互の位置合わせを行う。定盤12は、モールド5、紫外光発生装置6、ディスペンサー7、タンク8、配管9、移動手段10、およびアライメントスコープ11を支持(固定)する。
次に、このようなインプリント装置によるインプリント動作について説明する。まず、基板1を微動ステージ2及び粗動ステージ3に搭載する。基板1は、微動ステージ2及び粗動ステージ3により未硬化樹脂を吐出するディスペンサー7の下に移動し、ディスペンサー7により所定量の樹脂を塗布される。次に、モールド5をモールド上下移動手段5aにより降下させる。基板1が接触した状態で樹脂を紫外光硬化させる前に、アライメントスコープ11によりモールド5のアライメントマークと基板1上のアライメントマークとを微動ステージ2で重ね合わせることで、両者の相対位置調整を行う。次に、モールド5をモールド上下移動手段5aにより基板1方向に降下させ、未硬化樹脂にモールド5のパターンを押しつけ転写する。紫外光発生装置6は、紫外光を上から照射し、紫外光は、モールド5を透過し、最終的に未硬化樹脂を照射する。この段階で、未硬化樹脂は硬化する。次に、モールド5を基板1から引き離す方向に退避させることで、基板1上にパターニングされた樹脂層が形成されインプリント動作が終了する。このようなインプリント動作を基板の複数のショット領域に、例えば図3(a)、図3(b)に示すような連続した番号順に繰り返し行う。
次に、図2を参照して、本実施形態に係る基板保持部(基板保持手段)の構成について説明する。図2(a)は、本実施形態に係る基板保持部2Aの吸着領域(保持領域)の構成例を示す概略図である。図2(a)に示すように、基板保持部2Aは、微動ステージ2上に設けられ、基板を吸着保持する吸着領域2Bを備える。吸着領域2Bは、複数の隔壁(境界)により複数の吸着領域に分割され、各吸着領域ごとに圧力調整を行うことができるように構成されている。具体的には、隔壁2Dが基板保持部2Aの最外周の円周部領域に設けられ、隔壁2Dで囲まれた吸着領域は、直径450mm(第2の外径)の基板(第2の基板)を保持可能である。また、隔壁2Eが隔壁2Dの内部に設けられ、隔壁2Eで囲まれた吸着領域は、直径300mm(第1の外径)の基板(第1の基板)を保持可能である。実際に、2つの異なる径の基板をそれぞれ吸着保持した状態を図3に示す。図3(a)は、直径300mmの基板1Aを基板保持部2Aで保持した状態を示している。また、図3(b)は、直径450mmの基板1Bを基板保持部2Aで保持した状態を示している。このように、基板保持部2Aは、2つの異なる径の基板をそれぞれ吸着保持することができる。なお、ここでは一例として直径450mmおよび300mmの2つの径に対応する基板保持部について説明しているが、基板保持部が対応する基板の径や個数はこれに限定されるものではない。例えば、第1の外径を直径200mm、第2の外径を300mmとしてもよく、また、第1および第2の外径の基板に対応する吸着領域を囲むようにさらに第3の外径を有する吸着領域を設けてもよい。
本実施形態では、基板保持部2Aの吸着領域2Bは、さらに複数の領域に分割されている。図2(a)に示すように、隔壁2F〜2Jは、所定の径方向に並ぶ平行な直線で、2Fおよび2Jは、隔壁2Eで囲まれた領域に外接し(1点で交わり)、隔壁2Dに接続している。また、隔壁2G〜2Iは、隔壁2Dおよび2Eにそれぞれ接続している(それぞれ2点で交わっている)。したがって、直径300mmの基板を吸着保持する吸着領域は、隔壁2Eおよび所定の径方向に並ぶ平行な3本の隔壁2G〜2Iによって直線状に規定される4つの吸着領域Zone1〜Zone4に分割されている。また、直径450mmの基板を吸着保持する吸着領域は、隔壁2Eおよび所定の径方向に並ぶ平行な5本の隔壁2F〜2Jによって直線状に規定される6つの吸着領域Zone1〜Zone6に分割されている。なお、直径450mmの基板に対応する吸着領域のZone1〜Zone4は、図2(a)に示すように、直径300mmの基板用に設けられたZone1と直径450mm基板用に設けられた2カ所のZone1との合計3カ所の領域全てを指す。このような構成によれば、インプリント工程内のプロセスと同期して、基板1を吸着する力を局所的に調整することができる。また、加工が容易で、フラットネスを高精度に制御することが可能な基板保持部を提供することができる。
さらに、本実施形態では、上述した隔壁2G〜2Iは、隔壁2Eで囲まれた吸着領域の面積比を考慮して配置されている。具体的には、基板1の外径が直径300mm(ただし、基板1の外径公差を考慮して、実際には0.1mm〜0.5mm小さく成形する)で、各吸着領域を等面積で分割した場合、吸着領域Zone1およびZone4の幅寸法(間隔)は89.4mmとなる。ここで、吸着領域Zone1およびZone4の幅寸法とは、隔壁2Gおよび2Iから隔壁2Eまでの最大距離のことである。また、吸着領域Zone2およびZone3の幅寸法(隔壁2Gおよび2Iから、隔壁2Hまでの距離)は60.6mmとなる。
次に、基板保持部2Aの吸着領域に対して吸着力を発生させる(負圧を利用する)構成について説明する。図2(b)は、図2(a)のX軸方向の断面図である。図2(b)に示すように、基板保持部2Aは、吸着領域毎に吸着力を発生するための真空配管2Cを備える。真空配管2Cは、各吸着領域に対して接続されている。隔壁2D〜2Jは、図2(a)に示すように、それぞれの隔壁が平面内で閉じた形状であって、基板1で蓋をした時に独立した密閉空間(吸着領域)が形成される。これらの密閉空間のそれぞれには、真空配管2Cを介して、圧力調整装置(不図示)が接続されている。この圧力調整装置は、不図示の真空ポンプおよびコンプレッサに接続されていて、それぞれの密閉空間内の気圧を無段階に切り替えることが可能である。制御装置(不図示)は、インプリント動作内のプロセスと同期して、圧力調整装置に指令を出して密閉空間内の圧力を調整し、基板1を吸着する力を局所的に調整することができる。図2(c)は、基板1を吸着する力を局所的に調整している状態を示す図であり、図2(a)のY軸方向の断面図である。本実施形態では、上述したように基板保持部2Aの各吸着領域の圧力を別々に調整できるので、基板1上で剥離段階に入る直前に、剥離箇所に相当する位置に関して局所的に基板1の吸着力を弱めることができる。これにより、基板1は、図2(c)に示すように、局所的に引き剥がし方向に持ち上がり、引き剥がし方向の力がモールド5側と基板側で平衡状態となる。このとき、基板1とモールド5とが樹脂によって接触状態にある部分の外周部で、互いに凸形状に変形しているため、接触部の外周部で、剥離が発生しやすい状態となっている。したがって、接触部全面を一気に剥がす場合には、大きな剥離力が必要であったところを、周辺部から剥離が発生しやすい状態を作ることで、1/2から1/10のより小さな剥離力で剥離を徐々に進行させることができる。
以下、上述したように基板保持部2Aの吸着領域をその面積比で特定することが有利である理由について、吸着領域をその間隔で特定する場合と比較しながら説明する。図2(a)において、隔壁2Eより内側の領域で考えると、円形の吸着領域を等間隔の平行線で4分割した時のそれぞれの面積比Zone1:Zone2:Zone3:Zone4は、それぞれ61:96:96:61となる。面積が広い領域(Zone2、Zone3)に対して狭い領域(Zone1、Zone4)の面積は、36%狭くなる。例えば、外径が直径300mmの基板の吸着領域を等間隔で分割する場合は、前記平行線の間隔は全て75mmであって、その時の吸着領域ごと面積はそれぞれ、138cm2、215cm2、215cm2、138cm2となる。一方これに対して、吸着領域を等面積で分割する場合には、各分割領域の面積は、直径300mmの円の面積を4等分して、全て177cm2となる。このように面積を4等分するような平行線の間隔は、それぞれ89.41mm、60.59mm、60.59mm、89.41mmとなり、径方向における位置に応じて幅寸法は異なる。
先に説明したように、基板1とモールド5との剥離段階では、該当する領域に関して、基板1の吸着力を弱めることで、剥離を良好に実行することができる。このため、例えば、図2(a)の隔壁2Eよりも内側の領域で、Zone2とZone3との境界部分に剥離段階のショットがある場合は、Zone2とZone3の領域の吸着力を開放してZone1とZone4との吸着力のみで基板1を固定することになる。このとき、吸着領域は、等間隔の分割では276cm2となり、等面積の分割では354cm2となる。したがって、吸着領域の面積比は、等面積の分割と等間隔の分割とで1.3となり、等面積の分割の場合には、1.3倍強く吸引できることになる。また、等面積分割の場合は、ショットのまたがる領域が他の組み合わせであっても、残る2領域の合計面積は常に一定であって、吸着力が強くなったり弱くなったりすることはない。このように吸着領域を分割すると、ショット領域の大きさ(最大でも対角線距離)は、各吸着領域の大きさに比べて小さいので、ショット領域は3つ以上の吸着領域にまたがることはない。つまり、最大でも2つの吸着領域までしか掛かることはない。すなわち、常に基板1全体の1/2以上の面積は強い吸引力で基板1を固定することが可能となる。なお、ここでは、基板保持部2Aの隔壁2Eで囲まれた吸着領域を等面積で分割した場合について説明したが、必ずしも等面積で分割する場合に限られるものではなく、等面積に近い面積比で分割してもよい。具体的には、基板保持部2Aの複数の吸着領域のうち、幅寸法が異なる2つの吸着領域の面積比Pは、0.8〜1.2の範囲内であることが好ましく、0.9〜1.1の範囲内であることがより好ましい。このような面積比の範囲によれば、基板1全体の1/2以上の面積を吸着領域にすることができるので、基板1が基板保持部2Aからはがれることを効果的に抑制できる。
以下、直径300mmの基板について、ショットの位置と基板保持部2Aの吸着圧力の切り替えについて説明する。図4(a)に示すように、基板保持部2Aに吸着保持された直径300mmの基板1Aのショット1Aaに対してインプリントを行う場合、ショット1Aaの外周は、吸着領域Zone1に含まれている。このとき、吸着領域Zone1の内部圧力を通常の吸着時よりも高く切り替えて、吸着力を弱めることにより、基板1の吸着領域Zone1に対応する部分が、モールド5を離型する際に離型する方向に持ち上がり、微小変形する。これにより、モールド5と基板1Aとの離型性を改善し、より小さな剥離力で離型することが可能となる。同様に、図4(b)に示すようにショット1Abに対してインプリントを行う場合には、ショット1Abの外周も吸着領域Zone2に含まれているため、吸着領域Zone2の内部圧力を通常の吸着時よりも高く切り替えて、吸着力を弱めればよい。このとき、基板1Aの吸着領域Zone2に対応する部分が、モールド5を離型する際に離型する方向に持ち上がり、微小変形することで、モールド5と基板1との離型性を改善し、より小さな剥離力で離型することが可能となる。
次に、ショットが2つの吸着領域にまたがる場合の吸着圧力の切り替えについて説明する。図5(a)に示すように、ショット1Acのインプリントを行う場合は、ショット1Acの外周は、吸着領域Zone1およびZone2にまたがっている。このとき、吸着領域Zone1およびZone2の内部圧力を通常の吸着時よりも高く切り替えて、吸着力を弱める。これにより、基板1の吸着領域Zone1およびZone2に対応する部分が、モールド5を離型する際に離型する方向に持ち上がり、微小変形し、モールド5と基板1との離型性を改善し、より小さな剥離力で離型することが可能となる。なお、吸着領域Zone1およびZone2の吸着力を弱めた場合でも、吸着領域Zone3およびZone4により、基板の1/2以上の面積は強い吸着力で基板1を保持するため、基板1が基板保持部2Aから剥がれたり動いたりすることを抑制できる。同様に、図5(b)に示すようにショット1Adに対してインプリントを行う場合には、ショット1Adの外周は、吸着領域Zone3およびZone4にまたがっている。このため、吸着領域Zone3およびZone4の内部圧力を通常の吸着時よりも高く切り替えて、吸着力を弱めればよい。基板1Aの吸着領域Zone3およびZone4に対応する部分が、モールド5を離型する際に離型する方向に持ち上がり、微小変形することで、モールド5と基板1との離型性を改善し、より小さな剥離力で離型することが可能となる。また、このように吸着領域Zone3およびZone4の吸着力を弱めた場合でも、吸着領域Zone1およびZone2により、基板の1/2以上の面積は強い吸着力で基板を保持する。このため、基板1が基板保持部2Aから剥がれたり動いたりすることを抑制できる。
同様に、直径450mmの基板について、ショットの位置と基板保持部2Aの吸着力の切り替えについて説明する。図6(a)に示すように、基板保持部2Aに吸着保持された直径450mmの基板1Bのショット1Baに対してインプリントを行う場合、ショット1Baの外周は、吸着領域Zone1に含まれている。このとき、吸着領域Zone1の内部圧力を通常の吸着時よりも高く切り替えて、吸着力を弱めることにより、基板1Bの吸着領域Zone1に対応する部分が、モールド5を離型する際に離型する方向に持ち上がり、微小変形する。これにより、モールド5と基板1Bとの離型性を改善し、より小さな剥離力で離型することが可能となる。ここで、上述したように、Zone1の領域とは、直径300mm基板用に設けられたZone1と直径450mm基板用に設けられた2カ所のZone1の合計3カ所の全てを指す。また、図6(b)に示すようにショット1Bbに対してインプリントを行う場合にも、ショット1Bbの外周は、吸着領域Zone1に含まれるため、上述したショット1Baのインプリントを行う場合と同様である。合計3か所から形成される吸着領域Zone1の内部圧力を通常の吸着時よりも高く切り替えて、吸着力を弱めることにより、基板1の吸着領域Zone1に対応する部分が、モールド5を離型する際に離型する方向に持ち上がり、微小変形する。これにより、モールド5と基板1との離型性を改善し、より小さな剥離力で離型することが可能となる。なお、ショット1Bbが、直径300mmの基板に対応するZone1に含まれている場合は、直径300mmの基板に対応する吸着領域、すなわち隔壁2Eで囲まれた領域のみを用いて吸着圧力の調整を行う。
次に、直径450mmの基板についても、ショットが2つの吸着領域にまたがる場合の吸着圧力の切り替えについて説明する。図7(a)に示すように、ショット1Bcのインプリントを行う場合は、ショット1Bcの外周は、吸着領域Zone1およびZone6にまたがっている。このとき、吸着領域Zone1およびZone6の内部圧力を通常の吸着時よりも高く切り替えて、吸着力を弱める。これにより、基板1Bの吸着領域Zone1およびZone6に対応する部分が、モールド5を離型する際に離型する方向に持ち上がり、微小変形する。そして、モールド5と基板1との離型性を改善し、より小さな剥離力で離型することが可能となる。なお、吸着領域Zone1およびZone6の吸着力を弱めた場合でも、吸着領域Zone2〜Zone5により、少なくとも基板の1/2以上の面積は強い吸着力で基板を保持する。このため、基板1Bが基板保持部2Aから剥がれたり動いたりすることを抑制できる。同様に、図7(b)に示すようにショット1Bbに対してインプリントを行う場合にも、ショット1Bbの外周は、吸着領域Zone1およびZone2にまたがっている。このため、Zone1およびZone2の内部圧力を通常の吸着時よりも高く切り替えて、吸着力を弱めればよい。基板1Bの吸着領域Zone1およびZone2に対応する部分が、モールド5を離型する際に離型する方向に持ち上がり、微小変形することで、モールド5と基板1Bとの離型性を改善し、より小さな剥離力で離型することが可能となる。また、このように吸着領域Zone1およびZone2の吸着力を弱めた場合でも、吸着領域Zone3〜Zone6により、少なくとも基板の1/2以上の面積は強い吸着力で基板を保持する。このため、基板1が基板保持部2Aから剥がれたり動いたりすることを抑制できる。
以上のように、本実施形態によれば、異なるサイズの基板に対して1つの基板保持部を共有することが可能なインプリント装置を提供することができる。さらに、加工が容易で、フラットネスを高精度に制御することが可能な基板保持部を備え、インプリント工程において基板の剥がれやずれが抑制できるインプリント装置を提供することができる。
(物品の製造方法)
なお、上述した物品としてのデバイス(半導体集積回路素子、液晶表示素子等)の製造方法は、上述したインプリント装置を用いて基板上(ウエハ、ガラスプレート、フィルム状基板)にパターンを形成する工程を含む。更に、該製造方法は、パターンが形成された基板をエッチングする工程を含みうる。なお、パターンドメディア(記録媒体)や光学素子等の他の物品を製造する場合には、該製造方法は、エッチングの代わりに、パターンが形成された基板を加工する他の処理を含みうる。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
なお、上述した物品としてのデバイス(半導体集積回路素子、液晶表示素子等)の製造方法は、上述したインプリント装置を用いて基板上(ウエハ、ガラスプレート、フィルム状基板)にパターンを形成する工程を含む。更に、該製造方法は、パターンが形成された基板をエッチングする工程を含みうる。なお、パターンドメディア(記録媒体)や光学素子等の他の物品を製造する場合には、該製造方法は、エッチングの代わりに、パターンが形成された基板を加工する他の処理を含みうる。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、これらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
1 基板
1A 第1の基板
1B 第2の基板
5 モールド
100 インプリント装置
2A 基板保持部
2B 吸着領域(保持領域)
1A 第1の基板
1B 第2の基板
5 モールド
100 インプリント装置
2A 基板保持部
2B 吸着領域(保持領域)
Claims (7)
- 基板に塗布された樹脂と、モールドとを接触させて、前記基板にパターンを形成するインプリント装置であって、
前記基板を保持する基板保持部を備え、
前記基板保持部は、所定の径方向に並んでいる複数の保持領域を含み、
前記複数の保持領域の形状は、第1の外径である第1の前記基板を保持可能とし、かつ該第1の外径とは異なる第2の外径である第2の前記基板を保持可能とするように規定されることを特徴とするインプリント装置。 - 前記第1の基板を保持可能とする第1の前記保持領域は、前記第2の基板を保持可能とする第2の前記保持領域に平面内で含まれることを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。
- 前記複数の保持領域は、さらに所定の径方向に並ぶ直線状の境界により規定され、
前記直線状の境界は、前記第1の基板を保持可能とする第1の前記保持領域と少なくとも1点で交わり、前記第2の基板を保持可能とする第2の前記保持領域と2点で交わることを特徴とする請求項2に記載のインプリント装置。 - 前記第1の基板を保持可能とする第1の保持領域は、前記直線状の境界の径方向における位置に応じて前記径方向の幅寸法が異なり、前記複数の保持領域のうち幅寸法が異なる2つの保持領域の面積比が0.8〜1.2の範囲内にあることを特徴とする請求項3に記載のインプリント装置。
- 前記第2の基板を保持可能とする第2の保持領域は、さらに所定の径方向に並ぶ直線状の境界により規定され、
前記直線状の境界は、第1の基板を保持可能とする第1の保持領域と外接することを特徴とする請求項2に記載のインプリント装置。 - 前記基板保持部は、負圧を利用して前記基板を保持するように構成されることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 請求項1乃至6のいずれか1項に記載のインプリント装置を用いて基板上に樹脂のパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
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