JP2020202270A - 膜形成装置および物品製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
押し付け力をF、エアーガイド116の個数をNとすると、式(2)で表現される関係がある。
よって、制御部114は、式(1)、式(2)に従って押し付け力Fを求めて、これに基づいて型駆動機構131を制御することができる。
F2=n×Δd2
F3=n×Δd3
F4=n×Δd4
・・・式(3)
押し付け力Fは、式(4)で表現される。
インプリント処理を行うショット領域の位置を(x,y)、エアーガイド116の位置を(X,Y)とすると、図9(c)の配置より、式(5)が得られる。
F1・Y+F2・Y=F・y+F3・Y+F4・Y
・・・式(5)
よって、制御部114は、式(3)、式(4)、式(6)に従って押し付け力Fを求めて、これに基づいて型駆動機構131を制御することができる。
Claims (12)
- 基板の上に硬化性組成物の硬化物からなる膜を形成する膜形成装置であって、
前記基板を保持する基板保持部を含む基板ステージと、
前記基板の上の硬化性組成物を成形するための型を駆動する型駆動機構と、
前記基板ステージに配置され、前記型と前記基板との間に作用する力を検出するための検出部と、
前記検出部の出力に基づいて前記型駆動機構を制御する制御部と、
を備えることを特徴とする膜形成装置。 - 前記検出部は、前記型と前記基板との間に作用する力による前記基板ステージの変位を検出し、
前記制御部は、前記検出部の出力に基づいて前記型と前記基板との間に作用する力を求める、
ことを特徴とする請求項1に記載の膜形成装置。 - ガイド面を有するガイド部材を更に備え、
前記基板ステージは、流体軸受を介して前記ガイド面によってガイドされ、
前記検出部は、前記ガイド面に対する前記基板ステージの浮上量の変化を前記変位として検出する、
ことを特徴とする請求項2に記載の膜形成装置。 - 前記検出部は、前記ガイド面と前記検出部との距離の変化を検出するセンサを含む、
ことを特徴とする請求項3に記載の膜形成装置。 - 前記センサは、静電容量センサである、
ことを特徴とする請求項4に記載の膜形成装置。 - 前記流体軸受は、複数のエアーガイドを含み、前記検出部は、前記ガイド面と前記検出部との距離の変化を検出する複数のセンサを含む、
ことを特徴とする請求項3乃至5のいずれか1項に記載の膜形成装置。 - 前記複数のセンサは、前記複数のエアーガイドに対応して設けられ、
前記複数のセンサの各々は、前記複数のエアーガイドのうち対応するエアーガイドの近傍に配置されている、
ことを特徴とする請求項6に記載の膜形成装置。 - 前記基板の上に硬化性組成物の硬化物からなる膜を形成する処理は、前記基板の上の該硬化性組成物に前記型を押し付ける押し付け工程と、該硬化性組成物を硬化させる硬化工程と、該硬化性組成物の硬化物からなる膜から前記型を分離する分離工程とを含み、
前記押し付け工程の開始から前記分離工程の終了までの期間における前記流体軸受の剛性は、前記押し付け工程の開始前の期間および前記分離工程の終了後の期間における前記流体軸受の剛性よりも低い、
ことを特徴とする請求項3乃至7のいずれか1項に記載の膜形成装置。 - 前記制御部は、前記検出部を使って検出される力が目標力プロファイルの許容範囲内になるように前記型駆動機構を制御する、
ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の膜形成装置。 - インプリント装置として構成されている、
ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の膜形成装置。 - 平坦化装置として構成されている、
ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の膜形成装置。 - 請求項1乃至11のいずれか1項に記載の膜形成装置を用いて基板の上に膜を形成する工程と、
前記工程において前記膜が形成された基板の加工を行う工程と、
を含み、前記加工が行われた前記基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。
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JP2011143679A (ja) * | 2010-01-18 | 2011-07-28 | Fujitsu Ltd | インプリント装置及びインプリント方法 |
JP2018092994A (ja) * | 2016-11-30 | 2018-06-14 | キヤノン株式会社 | ステージ装置、検知方法、及び物品の製造方法 |
JP2018195811A (ja) * | 2017-05-15 | 2018-12-06 | キヤノン株式会社 | ドロップレシピの決定方法、インプリント装置および物品製造方法 |
JP2019021911A (ja) * | 2017-07-14 | 2019-02-07 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、物品製造方法および、成形装置 |
JP2019041100A (ja) * | 2017-08-25 | 2019-03-14 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法、物品製造方法、成形装置および成形方法。 |
JP2019046820A (ja) * | 2017-08-29 | 2019-03-22 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法、及び、物品の製造方法 |
JP2019054211A (ja) * | 2017-09-19 | 2019-04-04 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、および物品製造方法 |
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011143679A (ja) * | 2010-01-18 | 2011-07-28 | Fujitsu Ltd | インプリント装置及びインプリント方法 |
JP2018092994A (ja) * | 2016-11-30 | 2018-06-14 | キヤノン株式会社 | ステージ装置、検知方法、及び物品の製造方法 |
JP2018195811A (ja) * | 2017-05-15 | 2018-12-06 | キヤノン株式会社 | ドロップレシピの決定方法、インプリント装置および物品製造方法 |
JP2019021911A (ja) * | 2017-07-14 | 2019-02-07 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、物品製造方法および、成形装置 |
JP2019041100A (ja) * | 2017-08-25 | 2019-03-14 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法、物品製造方法、成形装置および成形方法。 |
JP2019046820A (ja) * | 2017-08-29 | 2019-03-22 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法、及び、物品の製造方法 |
JP2019054211A (ja) * | 2017-09-19 | 2019-04-04 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、および物品製造方法 |
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