JP5875250B2 - インプリント装置、インプリント方法及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の第1実施形態に係るインプリント装置IMPの構成図である。図1において、1は基板、2は基板1を保持するための基板チャック(基板保持機構)である。4は基板1を所定の位置に位置決めするための基板ステージである。基板ステージ4は基板1のθ(z軸回りの回転)方向位置の補正機能、基板1のz位置の調整機能、及び基板1の傾きを補正するためのチルト機能を有する微動ステージを備えていてもよい。
第2実施形態の構成は、基本的に第1実施形態と同様であるが、更に生産性を向上させるシーケンスに特徴がある。具体的には第1実施形態で説明した「吸着リセット」の間にパターンを転写するショット位置を工夫する事で、第1実施形態で示した吸着リセットの時間を削減する。
上述の実施形態では、基板チャック2の吸着力をA領域において「中」レベル、B領域及びC領域の少なくとも一方を「大」レベルにした条件下でのパターンの転写と吸着リセットについて説明した。基板チャック2の1つの領域に対応したすべてのショット位置にパターンの転写を行ってから、他の領域に対応したショット位置にパターンの転写を行う場合について説明した。
本実施形態の構成は基本的に第1実施形態と同様であるが、生産性を向上させるためのシーケンスに特徴がある。第1実施形態では、互いに隣接し合わないショット位置にパターンを転写した後に、A領域を吸着リセットし、A領域の全てのショット位置にパターンを転写していた。この間、他の領域にパターンの転写は行っていない。本実施形態では基板チャック2のある領域の吸着リセットを、ある領域とは異なる領域に対応するショット位置にパターンを転写する間に実施する。
デバイス(半導体集積回路素子、液晶表示素子等)製造方法は、上述したインプリント装置を用いて基板(ウエハ、ガラスプレート、フィルム状基板)にパターンを形成する工程を含む。さらに、デバイス製造方法は、パターンを形成された基板をエッチングする工程を含みうる。なお、パターンドメディア(記録媒体)や光学素子などの他の物品を製造する場合の製造方法は、エッチングの代わりに、パターンを形成された基板を加工する他の処理を含みうる。本実施形態の物品製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも一つにおいて有利である。
2 基板チャック
3 モールド
4 基板ステージ
5 樹脂
Claims (10)
- 型を用いて、基板に供給されたインプリント材にパターンを形成するインプリント装置であって、
前記基板を引き付ける力を独立して変えることができる複数の領域を有し、該複数の領域を用いて基板を保持する基板保持機構と、
制御部と、を備え、
前記制御部は、
前記基板の互いに隣接し合わない複数のショットに順次パターンを形成する際、前記基板保持機構の前記複数の領域のうち、前記パターンを形成するショットに対応する領域に、前記型と前記インプリント材とを引き離す際に前記基板が前記基板保持機構から部分的に浮き上がる程度の前記引き付ける力で前記基板を保持させ、
前記基板保持機構の前記複数の領域のうち、前記パターンを形成するショットに対応する領域以外の少なくとも1つの領域に、前記型と前記インプリント材とを引き離す際の前記引き付ける力よりも大きな引き付ける力で前記基板を保持させ、
前記基板保持機構の前記複数の領域のうち前記パターンが形成されたショットに対応する領域に、前記型と前記インプリント材とを引き離した後で、前記インプリント材から前記型を引き離す際の前記引き付ける力よりも小さい引き付ける力で前記基板を保持させてから、前記小さい引き付ける力よりも大きな引き付ける力で前記基板を保持させることを特徴とするインプリント装置。 - 前記制御部は、前記基板保持機構の任意の領域に対応する前記基板の前記複数のショットのうち、互いに隣接し合わないショットに前記パターンを形成した後で、前記任意の領域に、前記型と前記インプリント材とを引き離す際の前記引き付ける力よりも小さい引き付ける力で前記基板を保持させてから、前記小さい引き付ける力よりも大きな引き付ける力で前記基板を保持させることを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。
- 前記制御部は、互いに隣接し合わないショットに前記パターンを形成した後に、前記基板保持機構の前記複数の領域のうち前記パターンが形成されたショットに対応する領域に、前記型と前記インプリント材とを引き離して、所定の時間が経過した後に、前記インプリント材から前記型を引き離す際の前記引き付ける力よりも小さい引き付ける力で前記基板を保持させてから、前記小さい引き付ける力よりも大きな引き付ける力で前記基板を保持させることを特徴とする請求項1又は2のいずれか一項に記載のインプリント装置。
- 前記制御部は、前記基板保持機構の前記複数の領域のうち前記パターンが形成されたショットに対応する領域に、前記型と前記インプリント材とを引き離した後で、前記インプリント材から前記型を引き離す際の前記引き付ける力よりも小さい引き付ける力で前記基板を保持させる直前にパターンが形成されたショットに隣接するショットには、前記基板保持機構が再び基板を吸着した後にパターンの形成を行わないことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のインプリント装置。
- 前記基板保持機構の複数の領域のうち、前記パターンを形成するショットに対応した領域以外の少なくとも1つの領域の前記引き付ける力は、前記型と前記インプリント材とを引き離す際に前記基板の歪みが生じない程度の前記引き付ける力であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載のインプリント装置。
- 前記互いに隣接し合わないショットに前記パターンを形成する際に、少なくとも1ショット以上離れていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載のインプリント装置。
- 前記基板保持機構の任意の領域に対応する前記基板の前記複数のショットのうち、互いに隣接し合わないショットに前記パターンを形成した後に、前記任意の領域と異なる領域に対応するショットに前記パターンを形成している際に、前記基板保持機構の前記任意の領域に、前記型と前記インプリント材とを引き離した後で、前記インプリント材から前記型を引き離す際の前記引き付ける力よりも小さい引き付ける力で前記基板を保持させてから、前記小さい引き付ける力よりも大きな引き付ける力で前記基板を保持させることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載のインプリント装置。
- 前記基板保持機構は3つ以上の領域を有し、
前記制御部は、
前記基板保持機構の任意の領域に対応する前記基板のショットに前記パターンを形成した後に、前記基板保持機構の前記複数の領域のうち、前記任意の領域と異なる領域に、前記型と前記インプリント材とを引き離す際に前記基板が前記基板保持機構から部分的に浮き上がる程度の前記引き付ける力で前記基板を保持させ、前記任意の領域と異なる領域に対応するショットに前記パターンを形成している際に、
前記基板保持機構の前記任意の領域に前記型と前記インプリント材とを引き離した後で、前記インプリント材から前記型を引き離す際の前記引き付ける力よりも小さい、0kPaもしくはそれ以外の引き付ける力で前記基板を保持させ、
前記基板保持機構の前記複数の領域のうち、前記任意の領域と異なる前記パターンを形成している領域、および、前記任意の領域と異なる領域に、前記インプリント材から前記基板を引き離す際の前記引き付ける力よりも大きい引き付ける力で前記基板を保持させることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載のインプリント装置。 - 型を用いて、基板に供給されたインプリント材にパターンを形成するインプリント方法であって、
前記基板を引き付ける力を独立して変えることができる複数の領域を有し、該複数の領域を用いて複数のショットが形成された基板を保持する基板保持機構によって前記基板を保持する工程、
前記複数のショットのうち、互いに隣接し合わないショットに前記パターンを形成するショットに対応する領域に、前記型と前記インプリント材とを引き離す際に前記基板が前記基板保持機構から部分的に浮き上がる程度の前記引き付ける力で前記基板を保持させ、前記基板保持機構の前記複数の領域のうち、前記パターンを形成するショットに対応する領域以外の少なくとも1つの領域に、前記型と前記インプリント材とを引き離す際の前記引き付ける力よりも大きな引き付ける力で前記基板を保持させて、前記パターンを形成する転写工程、
前記転写工程の後、前記基板保持機構の前記複数の領域のうち前記パターンが形成されたショットに対応する領域に、前記型と前記インプリント材とを引き離した後で、前記インプリント材から前記型を引き離す際の前記引き付ける力よりも小さい引き付ける力で前記基板を保持してから、前記小さい引き付ける力よりも大きな引き付ける力で前記基板を保持する工程と
を有することを特徴とするインプリント方法。 - 請求項1〜8のいずれか一項に記載のインプリント装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンが形成された基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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