JP5741467B2 - 気相成長装置の清浄度評価方法 - Google Patents
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Description
まず、シリコンウェーハとして、直径が200mm、抵抗率が10Ωcm、厚みが725μmのP型シリコンウェーハを多数準備した。
実施例1と同様の実験条件で、ただしサイクル回数を2回として繰り返して行い、モニタウェーハを作製した。このようにして作製したモニタウェーハについて、実施例1と同様に、ウェーハライフタイム値を測定した。図3中に、実施例2におけるウェーハライフタイムの値の日間推移を示した。通常メンテナンスした気相成長装置の場合、メンテナンス直後に作製したモニタウェーハでは、ウェーハライフタイム値は約700μsecであるが、その後日数の経過と共にウェーハライフタイム値は高くなり、ほぼ2日目で1800μsec程度まで増加した。その後、10日目まで少しずつ増加し約2200μsecとなった。一方、一日解放後メンテナンスした気相成長装置の場合、メンテナンス直後に作製したモニタウェーハでは、ウェーハライフタイム値は約300μsecであるが、その後日数の経過と共にウェーハライフタイム値は高くなり、ほぼ10日目で2200μsec程度まで増加した。
実施例1と同様の実験条件で、ただしサイクル回数を10回として繰り返して行い、モニタウェーハを作製した。このようにして作製したモニタウェーハについて、実施例1と同様に、ウェーハライフタイム値を測定した。図4中に、実施例3におけるウェーハライフタイムの値の日間推移を示した。通常メンテナンスした気相成長装置の場合、メンテナンス直後に作製したモニタウェーハでは、ウェーハライフタイム値は約600μsecであるが、その後日数の経過と共にウェーハライフタイム値は高くなり、ほぼ2日目で1800μsec程度まで増加した。その後、10日目まで少しずつ増加し約2100μsecとなった。一方、一日解放後メンテナンスした気相成長装置の場合、メンテナンス直後に作製したモニタウェーハでは、ウェーハライフタイム値は約100μsecであるが、その後日数の経過と共にウェーハライフタイム値は高くなり、ほぼ10日目で2100μsec程度まで増加した。
次に、比較例として、従来のように気相成長装置内の気相エッチング後、一回だけエピタキシャル層を成膜してモニタウェーハを作製する例を示す。
11、12、13…エピタキシャル成長1回分のエピタキシャル層、
21、31…モニタウェーハ。
Claims (2)
- 気相成長装置の清浄度を評価する方法であって、
前記気相成長装置の内部を気相エッチングによりクリーニングする工程と、
前記クリーニングした気相成長装置内にシリコンウェーハを搬入する工程と、
前記気相成長装置を用いて、前記搬入したシリコンウェーハ上にエピタキシャル層を成長させる工程と、
前記エピタキシャル層を成長させたシリコンウェーハを前記気相成長装置内から搬出する工程と
からなるサイクルを、同一のシリコンウェーハに対して、この順序で所定の回数繰り返すことにより、前記シリコンウェーハ上に前記エピタキシャル層を前記所定の回数成長させたモニタウェーハを作製し、
前記モニタウェーハのライフタイム値を測定し、
前記測定したモニタウェーハのライフタイム値から前記気相成長装置の清浄度を評価することを特徴とする気相成長装置の清浄度評価方法。 - 前記サイクルを繰り返す回数を10回以下とすることを特徴とする請求項1に記載の気相成長装置の清浄度評価方法。
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