JP5736347B2 - 改良型試験台を備えた高周波無響室 - Google Patents

改良型試験台を備えた高周波無響室 Download PDF

Info

Publication number
JP5736347B2
JP5736347B2 JP2012134386A JP2012134386A JP5736347B2 JP 5736347 B2 JP5736347 B2 JP 5736347B2 JP 2012134386 A JP2012134386 A JP 2012134386A JP 2012134386 A JP2012134386 A JP 2012134386A JP 5736347 B2 JP5736347 B2 JP 5736347B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
anechoic chamber
frequency
vertical column
frequency anechoic
chamber according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2012134386A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2012194187A (ja
Inventor
ジェイ.モーラー ポール
ジェイ.モーラー ポール
エル.クレンツ エリック
エル.クレンツ エリック
ピー.フィリップス ジェームズ
ピー.フィリップス ジェームズ
ケイ.スミス ヒュー
ケイ.スミス ヒュー
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Motorola Mobility LLC
Original Assignee
Motorola Mobility LLC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Motorola Mobility LLC filed Critical Motorola Mobility LLC
Publication of JP2012194187A publication Critical patent/JP2012194187A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5736347B2 publication Critical patent/JP5736347B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R29/00Arrangements for measuring or indicating electric quantities not covered by groups G01R19/00 - G01R27/00
    • G01R29/08Measuring electromagnetic field characteristics
    • G01R29/0807Measuring electromagnetic field characteristics characterised by the application
    • G01R29/0814Field measurements related to measuring influence on or from apparatus, components or humans, e.g. in ESD, EMI, EMC, EMP testing, measuring radiation leakage; detecting presence of micro- or radiowave emitters; dosimetry; testing shielding; measurements related to lightning
    • G01R29/0821Field measurements related to measuring influence on or from apparatus, components or humans, e.g. in ESD, EMI, EMC, EMP testing, measuring radiation leakage; detecting presence of micro- or radiowave emitters; dosimetry; testing shielding; measurements related to lightning rooms and test sites therefor, e.g. anechoic chambers, open field sites or TEM cells
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A01AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01FPROCESSING OF HARVESTED PRODUCE; HAY OR STRAW PRESSES; DEVICES FOR STORING AGRICULTURAL OR HORTICULTURAL PRODUCE
    • A01F29/00Cutting apparatus specially adapted for cutting hay, straw or the like
    • A01F29/005Cutting apparatus specially adapted for cutting hay, straw or the like for disintegrating and cutting up bales of hay, straw or fodder
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A01AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01FPROCESSING OF HARVESTED PRODUCE; HAY OR STRAW PRESSES; DEVICES FOR STORING AGRICULTURAL OR HORTICULTURAL PRODUCE
    • A01F29/00Cutting apparatus specially adapted for cutting hay, straw or the like
    • A01F29/02Cutting apparatus specially adapted for cutting hay, straw or the like having rotating knives with their cutting edges in a plane perpendicular to their rotational axis
    • A01F29/04Cutting apparatus specially adapted for cutting hay, straw or the like having rotating knives with their cutting edges in a plane perpendicular to their rotational axis with feeding direction transverse to axis
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A01AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01FPROCESSING OF HARVESTED PRODUCE; HAY OR STRAW PRESSES; DEVICES FOR STORING AGRICULTURAL OR HORTICULTURAL PRODUCE
    • A01F29/00Cutting apparatus specially adapted for cutting hay, straw or the like
    • A01F29/09Details
    • A01F29/10Feeding devices

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Environmental Sciences (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)

Description

本発明は、高周波無響室に関する。
高周波無響室は、高周波の放射試験を行なうための制御された反復可能な環境を提供するために使用される。高周波無響室は、電磁波のための空きスペースの非束縛領域に近似することを意味し、また、反射波または定在波によって引き起こされるエラーを招来せずに高周波の放射試験が行える環境を提供することを意味している。そのような従来の高周波無響室として、特許文献1〜3が開示されている。
高周波無響室で行なわれる1つのタイプの試験は、極角(polar angle)および方位角(azimuth angle)の関数としての、1つの高周波機器から放射された出力の測定である(Equipment Under Test, EUTと称される)。そのような試験により、EUTによって放射された電磁波の空間依存性の完全な特徴付けが可能となる。高周波無響試験室の床、天井および壁は、反射と定在波を実質的に減小させるために提供された高周波吸収材によってタイル張りされる。EUTは、測定を行うために、通常は無響室の中心で、壁、天井、および床から離して支持されている。支持体でEUTを持ち上げることで、EUTを広範囲の極角(約180度)から見られるように、測定アンテナの移動が可能となる。EUTにより放射された高周波電界が大きく妨害されることを回避するために、支持体は、金属に対立するものとして誘電体材料で作られている。しかしながら、誘電性の支持体でさえ、高周波電界を妨害し、高周波無響室で行われる測定を歪める恐れがある。
EUT支持体を備え、極角の関数として放射高周波の出力を測定するように構成された無響室における、高周波の望ましくない反射のレベルを測定する一つの方法は、極角の関数として一様に放射する送信アンテナ(例えば水平方向ダイポール)を無響室中のEUT支持体の上に設置し、受信アンテナによって受け取られた出力を測定している間に受信アンテナ(プローブとも称される)を送信アンテナに対して広範囲の極角にわたって移動させることである。理想的な支持体を備えた理想的な高周波無響試験室では、測定電界に変化は起こらないだろう。生じる変化は「リップル」と呼ばれる。このリップルは、送信アンテナから放射された高周波電界を支持体が妨害することにより、一部起こり得る。
EUTの支持体の設計の際には、支持体によって引き起こされる無響室における高周波電界の妨害を減小させる目的とは別に、支持体を、EUT、および支持体にEUTと共に配置されることになっている他のすべての機器を支持するのに十分な程度に機械的に丈夫に作成しなければならない。高い機械的丈夫さを達成するには、支持体が断面の厚い物質で作られていることが提案されるが、断面の厚い物質を使用すると、支持体による高周波電界の妨害が増加する傾向がある。さらなる要件は、支持体で支持されたEUTに対する広範囲の極角を通じた無響室内の受信アンテナの移動に関して、支持体ができるだけ干渉しないことである。
米国特許第4,968,983号 米国特許第5,028,928号 PCT国際公開第03/012465号
上述の設計基準を満たす、EUT支持体を備えた高周波無響試験室が必要とされている。
上記問題点を解決するために、本開示の一側面では、試験台を有する高周波無響室であって、前記試験台は、中空の第1の垂直支柱を備え、前記第1の垂直支柱は、少なくとも前記第1の垂直支柱の長手方向に延びる部分に、チューブ形の1または複数の高周波吸収材が配置され、1または複数の前記高周波吸収材は、前記第1の垂直支柱の周囲に隣接して配置され、1または複数の前記高周波吸収材は、円形パッチのパターンを有し、前記パターンでは、前記第1の垂直支柱の単位高さ当たりの前記高周波吸収材の量は、前記高さの関数として前記円形パッチのサイズを減少させることにより減少する。
一態様としては、1または複数の前記高周波吸収材は、炭素で充填された開放気泡発泡体を含む。
一態様としては、1または複数の前記高周波吸収材は、前記第1の垂直支柱の周囲に隣接して配置される。
一態様としては、1または複数の前記高周波吸収材は、前記第1の垂直支柱の周囲の部分に少なくとも隣接して延びる領域に配置される。
一態様としては、前記第1の垂直支柱の単位高さ当たりの前記高周波吸収材の量は、前記第1の垂直支柱の高さが増加するにつれて減少する。
一態様としては、1または複数の前記高周波吸収材は、前記第1の垂直支柱の中に配置される。
一態様としては、前記第1の垂直支柱の断面は、円形である。
一態様としては、前記第1の垂直支柱は、繊維ガラス管から成る。
一態様としては、1または複数の前記高周波吸収材は、高周波吸収材料の層から成る。
一態様としては、繊維ガラス管は、少なくとも30センチメートルの直径および1.5ミリメートル未満の壁厚を有する。
一態様としては、前記試験台は、前記第1の垂直支柱を支持する、前記第1の垂直支柱の下に配置された第2の垂直支柱を有し、前記第1の垂直支柱は、第1の横方向の寸法によって特徴付けられると共に前記第2の垂直支柱は、第2の横方向の寸法によって特徴付けられ、前記第2の横方向の寸法は、第1の横方向の寸法よりも小さく、それによって前記第1の垂直支柱は、前記第2の垂直支柱の上に貼り出している。
一態様としては、前記高周波無響室はさらに、測定アンテナを支持し且つ前記試験台を通る軸と交差する第1の軸の回りを極角の範囲で回転するように適合されたスウィング・アームを備え、大きな極角では前記スウィング・アームは、前記第2の垂直支柱の付近に来て、そのような配置では、EUTアンテナが前記第1の垂直支柱の上に配置されて見えるように前記測定アンテナを配置し、前記測定アンテナと前記EUTアンテナとの間の視線は、前記第1の垂直支柱と交差する。
一態様としては、前記第1の垂直支柱の上に配置され、かつ前記第1の垂直支柱に支持された第3の垂直支持体をさらに有する。
一態様としては、前記第3の垂直支持体は、発泡ポリスチレンを含む。
一態様としては、前記高周波無響室はさらに、前記第3の垂直支持体の上に配置され且つ前記第3の垂直支持体に支持された高周波試験モデルを有する。
一態様としては、前記高周波無響室はさらに、前記第1の垂直支柱の下端に取り付けられた第1のリムと、前記第1のリムから径方向内側に延びる複数の第1指状部材とを有する第1の接続部材と; 前記第2の垂直支柱の上端に取り付けられた第2のリムと、前記第2のリムから径方向外側に延びる複数の第2指状部材とを有する第2の接続部材とを有し、前記第1指状部材それぞれと前記第2指状部材それぞれは互いに、オーバラップした関係で配置されている。
1実施形態による高周波無響試験室の破断図。 図1に示した高周波無響試験室で使用される試験台の部分X線の図。 図2に示した試験台の組立分解図。 図2〜3に示した試験台で使用される高周波吸収材の広げられた状態の平面図。 図2〜3に示した試験台を図1に示した高周波無響試験室の測定アンテナの支持に使用されるU字形のスウィング・アームと共に示す部分X線の側面図。 様々な試験台のリップル測定値を示すグラフ。 代替実施形態による、図2,3,5に示した試験台の八角形のプリズム形の上部支持体。 代替実施形態による、図2,3,5に示した試験台の薄壁チューブ。
本発明を、限定ではなく、添付図面に描かれた例証的な実施形態により説明する。添付図面において、同様な参照符号は同様な要素のことを指している。
要求に応じて、本発明の詳細な実施形態をここで開示する。しかしながら、開示の実施形態は、単に本発明を例証するものにすぎず、本発明は様々な形式で具現化することが可能である。したがって、ここで開示する特定の構造および機能の詳細は、限定として解釈されるべきではなく、単に請求項の根拠として、および本発明を事実上あらゆる適切な詳細な構造に種々に使用できることを当業者に教示する代表的な根拠として解釈されるべきである。さらに、ここで使用する用語と句は、限定を意図しておらず、本発明の理解可能な説明を提供することを意図している。
用語「1つの(aまたはan、日本語にした時に名詞の前に何の数詞表現も表さない場合も含む)」は、本明細書に使用する場合、1または1より多くのものとして定義される。用語「複数(plurality)」は、本明細書に使用する場合、2または2より多くのものとして定義される。用語「別の(another)」は、本明細書に使用する場合、少なくとも1つの第2のまたはそれより多くのものとして定義される。用語「備える、有する、含む、から成る」は、本明細書に使用する場合、包含(つまりオープン・ランゲージ)として定義される。用語「結合」は、本明細書に使用する場合、接続されるが、必ずしも直接接続ではなく、また、必ずしも機械的接続ではなくてもよいものとして定義される。
図1は1実施形態による高周波無響試験室100の破断図である。無響試験室100は金属外板102によって境界を区切られている。金属外板102は、試験室100の外から放射する高周波または他の電磁波が、試験室100に進入し、無響室100で得られた測定値に悪影響を及ぼすことを防止する役割を果たす。図1で示した実施形態では、無響
試験室100は箱の形をしており、金属外板102は天井104、床106および4つの壁108(このうち2つは図1に部分的に見ることができる)を備えている。代替的には、無響試験室100は、例えば、別のプリズム形(例えば五角形、六角形のプリズム)、円筒形、半球形のような異なる形を有する。
金属外板102の中には、合板または何らかの別の材料で作られた内部包囲体110が存在する。内部包囲体110の内側には、第2の金属外板(図示しない)が任意選択で存在する。図1に示した実施形態では、内部包囲体110は床112、天井(図1では見えない)、左側の壁114、右側の壁116、背面の壁(図1では見えない)および正面の壁(図1では見えない)を備えている。
内部包囲体110は高周波吸収材で裏打ちされている。図1で示した実施形態では、高周波吸収材は、内部包囲体110の内表面にタイル張りされたピラミッド形の高周波吸収材107の形式をとっている。ピラミッド形の高周波吸収材107は、無響室100における反射および定在波を減小させる役割を果たす。
内部包囲体110の床112の中央には試験台118が配置される。試験台118は、図2〜8を参照しながら以下により詳しく説明する。図1に示されるように、試験台118はEUT122(例えばセルラ電話)および「ファントム・ヘッド(phantom head、仮想の頭部)」120を支持する。ファントム・ヘッド120は、実際の人の頭の電気的特性に近似するように設計された、流体で満たされた人の頭部の中空モデルである。セルラ電話は通常、ユーザーの頭部に隣接しているように保持されつつ、操作される。従って、ファントム・ヘッド120はセルラ電話によって生成された高周波電界に対する人の頭部の影響をシミュレートするために使用される。図に示されているように、セルラ電話EUT122はファントム・ヘッド120に装着される。革帯、梱包テープ、接着剤または特定の装着部材が、ファントム・ヘッド120にセルラ電話EUT122を取り付けるのに適している。ファントム・ヘッド120の重量は約10キログラムである。他の選択肢として使用されるファントム・トルソ(phantom torso、仮想の胴体)の重量は30キログラムである。試験台118はこの重量を支持する程度に十分に強く、かつ、連続する試験の間にファントム・ヘッドとEUTの位置を維持する程度に十分に堅固でなければならない。試験台118による高周波電界の妨害を制限するためには、試験台118に使用する材料をできるだけ少なくするという競合する要求がある。
無響室100内には、U字形のスウィング・アーム124が配置される。スウィング・アーム124は、水平方向ビーム126を備えている。水平方向ビーム126はその両端で第1の径方向アーム128および第2の径方向アーム(図1では見えない)に垂直に接続される。水平方向ビーム126は、内部包囲体110の左側の壁114の第1のアーチ形のスロット130および内部包囲体110の右側の壁116の対応するよう形成された第2のアーチ形のスロット132を通って延びる。第1の径方向アーム128は、内部包囲体110の右側の壁116と外板102の壁108との間に配置される。同様に、第2の径方向アーム(第1の径方向アームと平行であるが、図1では見えない)は、内部包囲体110の左側の壁114と外板102の間に配置される。水平方向ビーム126から離れた2つの径方向アームの両端は、仮想ピボット軸134まで延び、スウィング・アーム124はピボット軸134の周囲を回転する。仮想ピボット軸134は、試験台118を通る軸135と交差する。仮想ピボット軸134において、第1の径方向アーム128は第1のシャフト136に接続され、また、第2の径方向アーム(図示しない)は第2のシャフト(図示しない)に結合される。第1のシャフト136は外板102を通って延び、ベアリング138により支持される。第2のシャフト(図示しない)は適切に同様に支持される。第1のシャフト136はステッパ・モータ140に結合され、ステッパ・モータ140はスウィング・アーム124を回転させ、かつそれによってEUT122に対す
る水平方向ビーム126の極角を制御するために使用される。
水平方向ビーム126は、EUT122から信号を受け取るために通常使用される測定アンテナ142を支持する。測定アンテナ142は、試験台118に装着されたEUT122の周囲を極角の範囲で回転することができる。スウィング・アーム124が回転可能な極角の範囲は、試験台118の有限の横方向(深さ)の寸法による大きな極角に限定されることに留意する。しかしながら、図2〜8を参照しながら以下により詳しく説明する試験台118の設計により、スウィング・アーム124は大きな極角を回転することが可能であり、それによりEUT周囲の立体角の実質的部分の高周波測定が可能になる。
図1には示されていないが、試験台118は内部包囲体110の床112に配置された回転装置504(図5)上に適切に支持され、EUT122を担持する試験台118の方位が測定アンテナ142に対して変えられ得るようになっている。したがって、ある極角および方位角の範囲にわたって放出される高周波信号を無響室100で測定することが可能である。
高周波計器144は無響室100の外に位置する。高周波計器144は適切には、スペクトル・アナライザまたは高周波出力測定を行うのに適した他の機器を備えている。高周波計器144は、スウィング・アーム124に沿って走行するケーブル(図示しない)を通じて測定アンテナ142に結合される。高周波計器144および/またはマスタ制御装置146は、代替的には、試験台118を通って走行する別のケーブル(図示しない)を通じてEUT122に結合される。
マスタ制御装置146(例えばハードウェアおよびソフトウェアと接続する試験器具を具備するパーソナルコンピュータ)は、高周波計器144、ステッパ・モータ140、および試験台118の方位を制御する回転装置504(図5)に結合される。マスタ制御装置146は、必須ではないが、試験が自動的になされることを可能にする。
図2は図1に示した高周波無響試験室100で使用される試験台118の部分X線の図であり、図3は図2に示した試験台118の組立分解図である。図2−3を参照すると、試験台118は、下部の垂直支柱202、中央の垂直支柱204、および上部の支持部材206を備えている。試験台118を構成する3つの主要な要素202,204,206の各々は、特定の性能要求を満たさなければならない。
下部垂直支柱202は、試験台118を方位回転装置504(図5)に機械的に結合する。下部垂直支柱202は、方位回転装置504(図5)によって生成されるトルクに耐えなければならない。下部垂直支柱202は最も高いトルクと重量負荷を受ける。このように応力が潜在的に高いレベルであることは、下部垂直支柱202を機械的に丈夫にするために一定のバルク材料が使用されることを示している。他方、下部垂直支柱202の横方向(深さ)の寸法は、試験台118による機械的干渉がスウィング・アーム124の極角の範囲を制限するように、小さくすることが望ましい。横方向の寸法を減小させると、下部垂直支柱202による重量軸受およびトルク軸受能力が低下する傾向がある。これは、下部支柱202に、より厚い断面の壁材料を使用することにより補うことができるが、そうすると、回避すべきバルクが増してしまう。下部支柱202の断面は適切には円形であるが、代替的には、異なる断面形状を有する。試験台118の高さ調整機能は、下部垂直支柱202にも組み込まれる。高さ調整機能は、種々の高さのEUTおよび関連機器(例えば、ファントム・ヘッド120やファントム・トルソ(非図示))が、スウィング・アーム124の仮想ピボット軸134と整列することを可能にする。高さ調整機能を追加することにより、試験台118の質量も増すが、これは無響室100での高周波電界の妨害を回避するように制限されるべきである。しかしながら、高さ調整機能を下部垂直支柱202に組み込み、下部垂直支柱202をEUT122まではずっと延ばさないことにより、高周波電界の妨害は非常に有効に低減される。下部垂直支柱202は、測定アンテナ142の利得が高い角度の範囲を定めることは通常なく、EUTから放射された電波の反射を引き起こさないようにEUT122から十分に遠く離れている。
前述の高さ調整機能は、下部垂直支柱202を伸縮性に形成することにより得られる。下部垂直支柱202は下側チューブ208および上側チューブ210を有する。下側チューブ208の底端212は複数のガセット216の支援により取付フランジ214に取り付けられる。下側チューブ208、取付フランジ214およびガセット216を結合するために接着剤が適宜使用される。上側チューブ210は下側チューブ208に嵌まる大きさになっている。誘電体カラー218は、下側チューブ208への上側チューブ210の挿入深さを設定し、それによって試験台118の高さを設定するように機能する。カラー218は複数のプレーン・ホール302を有し、上側チューブ210は対応する複数のねじ孔304のセットを有する。誘電体のねじ220がプレーン・ホール302を通って、ねじ孔304のセットの一つにねじ込まれ、試験台118の高さがセットされる。
無響室100に裏打ちするために使用されるタイプのピラミッド形の吸収材205は、下側チューブ208内に嵌まるよう底部で切って整えられ、下側チューブ208内に位置する。下部垂直支柱202のピラミッド形の吸収材205は、EUT122と試験室100の外板102の床106との間の相互作用を抑制する役割を果たす。この相互作用は、抑制されなければ、無響室100のリップル性能を低下させる恐れがある。
中央の垂直支柱204に下部垂直支柱202を結合するのに使用される第1の接続部材306は、下部垂直支柱202の上側チューブ210の上端308に取り付けられる。第1の接続部材306は、内側リム310と、内側リム310から径方向外側に延びる第1の複数の指状部材312とを備えている。第1の複数の指状部材312の各々には、軸方向のねじ孔314が存在する。
中央の垂直支柱204は大径の薄壁の誘電体チューブ222を備えている。誘電体チューブ222は下部垂直支柱202の上側チューブ210および下側チューブ208より直径が大きく、薄い壁を有する。図に示されている場合には誘電体チューブ222は円形の断面形状を有しているが、代替的には誘電体チューブ222は異なる断面形状を有する。試験台118(中央垂直支柱204を含む)を構成するのに適した実際の誘電体材料は、試験室100で高周波電界における妨害を潜在的に引き起こし、かつ試験室100のリップル特性を低下させるのに十分な程度だけ単位元を超える比誘電率を高周波にて有する。発明者は、非常に薄い壁チューブ222の使用により、中央垂直支柱204に関連する高周波の反射が減小されることを見出した。薄壁チューブ222は、厚さ1.5mm未満(またはEUT122によって放射される電波の空きスペース波長の2%未満)である壁を好ましくは有する。EUT122と任意の関連機器(例えばファントム・ヘッド120またはファントム・トルソ(非図示))を支持するのに必要な強度およびスチフネスを維持するために、薄壁チューブ222の直径は増加される。薄壁チューブ222の直径は好ましくは少なくとも30センチメートルである。薄壁チューブは適切には繊維ガラスで作られる。しかしながら、薄壁チューブ222の直径を増加させると、薄壁チューブ222がスウィング・アーム124の大きな極角で測定アンテナ142とEUT122の間の直接の視線に置かれることとなり、これは試験室100のリップルを低下させる傾向がある。この低下は、高い極角でEUTによって放せられた電波を薄壁チューブが部分的に反射するという事実によると考えられている。
中央垂直支柱204はまた、薄壁チューブ222の内側の円筒形表面325に沿って、チューブの形へ巻き上げられ、薄壁チューブ222の内部に嵌められる、高周波吸収材224のシートを備えている。図4は、広げられた状態の吸収材224のシートを示す。図4に示すように、吸収材224は材料402から成る堅い下部バンドと、材料402から成る堅いバンドから上方に延びる一連のテーパ状部分406を有する上部エッジ404とを備えている。図4で示した実施形態では、テーパ状部分406は三角形である。代替的には、非線形のテーパ状部分が提供される。吸収材224の高さは適切には薄壁チューブ222の高さの半分から3分の2である。吸収材224を備えると大きな極角(EUTに対する吸収材料の方向に近い角度)でEUTにより発せられる高周波が優先的に吸収され、それによってリップル性能が低下するであろうことが合理的に期待されるが、実際に、中央垂直支柱204に含まれる吸収材224はリップル性能を改善する。図2−4に示した吸収材224の設計は、リップルに対する2つの物理的影響のバランスをとる。第1の物理的影響は、吸収材224が備わると大きな極角で向けられた電波が減ずる傾向があることである。第2の物理的影響は、吸収材224を備えることに相反するように見えるだろう。第2の物理的影響は、第1の物理的影響にかかわらず吸収材によって得られるリップル性能の改善を説明すると考えられるが、吸収材224が中央垂直支柱204に関連する電磁波の反射を軽減することである。このような反射はリップル性能を低下させる。しかしながら、吸収材があまりに多いと第1の物理的影響が増加して、リップル性能が低下するだろう。図2−4に示したテーパ状デザインは、これらの競合する影響の間の良好なバランスを与えることがわかっている。中央の垂直支柱204に沿った高さの関数として吸収材の量または強度を減小させる他のデザインが、代替的に使用される。代替の例は、密度(単位面積当たりの数)を減少させるドット・パターンまたは他の形、もしくはサイズを減少させるドット・パターンまたは他の形を含んでいる。吸収材224は、炭素で充填された開放気泡発泡体または別のタイプの高周波吸収材のカット・シートで適切に作られている。代替的には、自耐シートの代わりに、高周波吸収材のコーティングが使用される。本発明に関する特別の作用理論をここに示しているが、本発明はそのような特定の理論によって限定されるよう解釈されるべきでない。
薄壁チューブ222は、EUT122に/から信号を結合することが望ましい試験設定用ケーブルを走行させるために使用することが可能な、複数の開口部226を有する。
下部垂直支柱202を中央垂直支柱204に結合するのに使用される第2の接続部材316は、中央垂直支柱204の薄壁チューブ222の下端318に取り付けられる。第2の接続部材316は、外側リム320と、外側リム320から径方向内側に延びる第2の複数の指状部材322とを備えている。第2の複数の指状部材322の各々には、軸方向のプレーン・ホール324が存在する。下部垂直支柱202を中央垂直支柱204に結合するために、複数の誘電体ボルト326が、第2の接続部材316のプレーン・ホール324に通され、第1の接続部材306のねじ孔314にねじ込まれる。2つの接続部材306,316は誘電体であり、適切には、強い接着剤を使用してそれぞれの垂直支柱202,204に接続される。接続部材306,316が接続されると、内側リム310、外側リム320およびオーバラップする第1の複数の指状部材312および第2の複数の指状部材322の間に複数の環状スロットが形成される。
上部支持部材206はEUT122に最も近く、EUTによって放射された電界を妨害するかまたは無響室100のリップル性能を低下させる最も大きな潜在能力を有する。しかしながら、上部支持部材206は適切には比較的短いため、EUTおよび関連機器のアンバランスな負荷に耐えるために要求される曲げ強度とスチフネスは、あまり重要ではない。上部支持部材206のそのような要求を満たし得る材料は、発泡ポリスチレンである。発泡ポリエチレンは、試験室100の高周波電界に比較的小さな妨害効果を及ぼす程度に単位元に近い比誘電率を有し、上部支持部材206の長さがEUT122および関連機器(例えばファントム・ヘッド120またはファントム・トルソ(非図示))の重量をサポートするだけの短さであると仮定しても、十分な構造的完全性を有する。図2−3で示すように、上部支持部材206は六面体の形をしている。代替的には、上部支持部材206は異なる形を有する。
図5は、図2−3に示した試験台118を、高周波無響試験室100の測定アンテナ142の支持に使用されるU字形のスウィング・アーム124の半分と共に示す部分X線の側面図である。測定アンテナ142の極の利得パターンは、符号502に概略的に示される。図5に示されるように、スウィング・アーム124は大きな極角θに回転する。図5に見られるように、スウィング・アーム124が高い極角で回転すると、中央垂直支柱204は、測定アンテナ142の利得が高い測定アンテナ142の周囲の立体角の範囲を定める。さらに、中央垂直支柱204は、EUT122と測定アンテナ142の間の直接の視線上にある。それにもかかわらず、良好なリップル性能がここで説明したように構成した試験台118を使用して得られることが見出された。
試験台118は、概略的に表わされた方位回転装置504上に支持された状態で、図5に示されている。
図6は様々な試験台のリップル測定値を示すグラフである。グラフでは、横座標は極角を示し、10度の間隔でマークされている。縦座標は測定アンテナ142によって測定される信号のレベルを示し、0.5dBの間隔でマークされている。先に言及したように、リップルの測定は、極角の関数として一様に放射するように設計された送信アンテナにより行われる。グラフで、プロット602は、下部垂直支柱202のピラミッド形の吸収材205がなく、かつ中央垂直支柱204の吸収材224のない試験台118に対するリップル測定である。信号レベルは0度における最高値の約2.5dBから、150度における最低値0.8dBまで変化し、ピーク・トゥー・ピーク・リップルは約1.7dBである。プロット604は、ピラミッド形の吸収材205があるが吸収材224のない試験台118に対するリップル測定である。信号レベルは、150度における最低値の0.95dBから165度における最高値の2.75dBまで急激に変化し、ピーク・トゥー・ピーク・リップルはより悪い1.8dBである。プロット606は、下部垂直支柱202のピラミッド形の吸収材205および中央垂直支柱204の吸収材224の両方がある試験台118に対するリップル測定である。この場合、信号レベルは、160度における最高値の2.4dBから165度における最低値の1.05dBまで変化し、ピーク・トゥー・ピーク・リップル測定値は改善された1.35dBである。
図7は、代替実施形態による、図2,3,5に示した試験台118の八角形のプリズム形の上部支持部材702である。
図8は、代替実施形態による、図2,3,5に示した試験台の薄壁チューブ802である。高周波吸収材の円形パッチ806のパターン804が、薄壁チューブ802上で支持されている。パターン804では、単位高さ当たりの吸収材の量は、高さの関数として円形パッチ806のサイズを減少させることにより減少する。
本発明の好ましい実施形態および他の実施形態を図示し、説明してきたが、本発明がそのように限定されないことは明らかだろう。当業者には、以下の特許請求の範囲によって定義される本発明の精神および範囲から逸脱することなく、多くの修正物、変更物、変形物、置換物および均等物が、思い付くであろう。
θ…極角、100…無響室、118…試験台、122…EUT、124…スウィング・アーム、142…測定アンテナ、205,224…吸収材、222…中空管状部材としてのチューブ、306…第2の接続部材、308…第2の垂直支柱の上端、310…第2のリム、312…第2の指状部材、316…第1の接続部材、318…第1の垂直支柱の下端、320…第1のリム、322…第2の指状部材、404…エッジ、406…テーパ状部分。

Claims (12)

  1. 試験台(118)を有する高周波無響室(100)であって、
    前記試験台(118)は、
    中空の管状部材(802)を有する第1の垂直支柱(204)と;
    前記管状部材(802)の外側又は内側に配置される、円形パッチ(806)のパターン(804)を有する高周波吸収材と
    を備え、
    前記パターン(804)では、前記第1の垂直支柱(204)の単位高さ当たりの前記高周波吸収材の量は、前記高さの関数として前記円形パッチ(806)のサイズを減少させることにより減少することを特徴とする、高周波無響室。
  2. 前記円形パッチ(806)は、炭素で充填された開放気泡発泡体を含む、
    請求項1記載の高周波無響室。
  3. 前記円形パッチ(806)は、高周波吸収材料の層から成る、
    請求項1記載の高周波無響室。
  4. 前記管状部材(802)の断面は、円形である、
    請求項1記載の高周波無響室。
  5. 管状部材(802)は、繊維ガラス管から成る、
    請求項1記載の高周波無響室。
  6. 繊維ガラス管は、少なくとも30センチメートルの直径および1.5ミリメートル未満の壁厚を有する、
    請求項記載の高周波無響室。
  7. 前記試験台は、前記第1の垂直支柱を支持する、前記第1の垂直支柱の下に配置された第2の垂直支柱を有し、
    前記第1の垂直支柱は、第1の横方向の寸法によって特徴付けられると共に前記第2の垂直支柱は、第2の横方向の寸法によって特徴付けられ、
    前記第2の横方向の寸法は、第1の横方向の寸法よりも小さく、それによって前記第1の垂直支柱は、前記第2の垂直支柱の上にり出している、
    請求項1記載の高周波無響室。
  8. 前記高周波無響室はさらに、測定アンテナを支持し且つ前記試験台を通る軸と交差する第1の軸の回りを極角の範囲で回転するように適合されたスウィング・アームを備え、
    大きな極角では前記スウィング・アームは、前記第2の垂直支柱の付近に来て、そのような配置では、EUTアンテナが前記第1の垂直支柱の上に配置されて見えるように前記測定アンテナを配置し、前記測定アンテナと前記EUTアンテナとの間の視線は、前記第1の垂直支柱と交差する、
    請求項記載の高周波無響室。
  9. 前記第1の垂直支柱の上に配置され、かつ前記第1の垂直支柱に支持された第3の垂直支持体をさらに有する、
    請求項記載の高周波無響室。
  10. 前記第3の垂直支持体は、発泡ポリスチレンを含む、
    請求項記載の高周波無響室。
  11. 前記高周波無響室はさらに、前記第3の垂直支持体の上に配置され且つ前記第3の垂直支持体に支持された高周波試験モデルを有する、
    請求項記載の高周波無響室。
  12. 前記高周波無響室はさらに、
    前記第1の垂直支柱の下端に取り付けられた第2のリムと、前記第2のリムから径方向内側に延びる複数の第2指状部材とを有する第2の接続部材と;
    前記第2の垂直支柱の上端に取り付けられた第1のリムと、前記第1のリムから径方向外側に延びる複数の第1指状部材とを有する第1の接続部材と
    を有し、
    前記第1指状部材それぞれと前記第2指状部材それぞれは互いに、オーバラップした関係で配置されている、
    請求項記載の高周波無響室。
JP2012134386A 2004-03-22 2012-06-14 改良型試験台を備えた高周波無響室 Expired - Fee Related JP5736347B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/805,996 2004-03-22
US10/805,996 US7102562B2 (en) 2004-03-22 2004-03-22 Radio frequency anechoic chamber with improved test stand

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005078934A Division JP5203553B2 (ja) 2004-03-22 2005-03-18 改良型試験台を備えた高周波無響室

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012194187A JP2012194187A (ja) 2012-10-11
JP5736347B2 true JP5736347B2 (ja) 2015-06-17

Family

ID=34862027

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005078934A Expired - Fee Related JP5203553B2 (ja) 2004-03-22 2005-03-18 改良型試験台を備えた高周波無響室
JP2012134386A Expired - Fee Related JP5736347B2 (ja) 2004-03-22 2012-06-14 改良型試験台を備えた高周波無響室

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005078934A Expired - Fee Related JP5203553B2 (ja) 2004-03-22 2005-03-18 改良型試験台を備えた高周波無響室

Country Status (6)

Country Link
US (1) US7102562B2 (ja)
EP (1) EP1580566B1 (ja)
JP (2) JP5203553B2 (ja)
KR (1) KR100713043B1 (ja)
DE (1) DE602005011351D1 (ja)
TW (1) TWI354106B (ja)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7190301B2 (en) * 2004-12-22 2007-03-13 Motorola, Inc. Radio frequency anechoic chamber with nonperturbing wireless signalling means
US7688246B2 (en) * 2005-05-10 2010-03-30 Fuji Xerox Co., Ltd. Radio wave absorber, electromagnetic field measurement system and radiated immunity system
DE102006056998A1 (de) * 2005-11-30 2007-06-14 Eads Astrium Gmbh Hochfrequenzmesshalle zur Vermessung von großen Messobjekten
CN101039534B (zh) * 2006-03-15 2012-06-20 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 声音检测设备和自动传送装置
CN1964547A (zh) * 2006-11-30 2007-05-16 中兴通讯股份有限公司 确定天线最小测试距离的方法
US7880670B2 (en) * 2007-06-18 2011-02-01 AGC Automotive Signal measurement system and method for testing an RF component
US7830296B2 (en) * 2007-07-11 2010-11-09 Finisar Corporation Anechoic structures for absorbing electromagnetic interference in a communications module
CN102269783A (zh) * 2010-06-02 2011-12-07 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 全电波暗室
FR2965930B1 (fr) * 2010-10-08 2013-05-10 Satimo Ind Dispositif de test electromagnetique d'un objet
US20130099956A1 (en) * 2011-10-24 2013-04-25 Lsi Corporation Apparatus to reduce specific absorption rate
DE102013004774B3 (de) * 2013-03-20 2014-09-25 Cetecom Gmbh Zirkular polarisierte Breitbandantenne und Anordnung derselben in einem reflektionsarmen Raum
RU2626049C1 (ru) * 2016-03-09 2017-07-21 государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Первый Санкт-Петербургский государственный медицинский университет имени академика И.П. Павлова" Министерства здравоохранения Российской Федерации Способ измерения плотности потока энергии электромагнитного излучения от мобильного телефона
US20180115065A1 (en) 2016-10-26 2018-04-26 International Business Machines Corporation In-field millimeter-wave phased array radiation pattern estimation and validation
KR101935259B1 (ko) * 2017-02-10 2019-01-07 한국전자통신연구원 전자파 잔향실
WO2020124979A1 (en) * 2018-12-21 2020-06-25 Huawei Technologies Co., Ltd. A portable, integrated antenna test bed with built-in turntable
US11959955B2 (en) 2020-09-21 2024-04-16 Argo AI, LLC Enhanced anechoic chamber

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3806943A (en) * 1972-10-02 1974-04-23 A Holloway Anechoic chamber
US4274048A (en) * 1978-12-18 1981-06-16 General Dynamics Corporation, Electronics Division Three-dimensional measurement of radiant energy scattering characteristics with a turntable-type scanning interferometer
US4947175A (en) * 1983-12-27 1990-08-07 Lockheed Corporation Radar range
JPS61160067A (ja) * 1985-01-08 1986-07-19 Mitsubishi Electric Corp 空中線試験装置
JPS63185097A (ja) * 1987-01-28 1988-07-30 セイコーインスツルメンツ株式会社 電磁波吸収兼音波吸収ブロツク
JPS63276294A (ja) * 1987-05-08 1988-11-14 Seiko Instr & Electronics Ltd 電磁波吸収エレメント
JP2602872B2 (ja) * 1988-01-20 1997-04-23 株式会社東芝 放射電磁界特性測定装置
US4879560A (en) * 1988-07-06 1989-11-07 Northrop Corporation Radar test device with rotator inside subject-support fixture
JP2574409B2 (ja) * 1988-07-08 1997-01-22 松下電器産業株式会社 Emc試験用電磁波無響室およびそのシールド材
US4990923A (en) * 1989-06-29 1991-02-05 The Boeing Company Test pylon having low radar cross section
US5556501A (en) * 1989-10-03 1996-09-17 Applied Materials, Inc. Silicon scavenger in an inductively coupled RF plasma reactor
US5028928A (en) * 1990-06-26 1991-07-02 Vidmar Robert J Ultra-stable, stressed-skin inflatable target support systems
US5707486A (en) * 1990-07-31 1998-01-13 Applied Materials, Inc. Plasma reactor using UHF/VHF and RF triode source, and process
US5099244A (en) * 1990-08-06 1992-03-24 Lockheed Corporation Support pylon for radar cross-section model testing
JPH0526931A (ja) * 1991-07-19 1993-02-05 Junkosha Co Ltd アンテナの指向特性測定装置
JP3279038B2 (ja) * 1994-01-31 2002-04-30 ソニー株式会社 プラズマ装置およびこれを用いたプラズマ処理方法
ATE251798T1 (de) * 1994-04-28 2003-10-15 Applied Materials Inc Verfahren zum betreiben eines cvd-reaktors hoher plasma-dichte mit kombinierter induktiver und kapazitiver einkopplung
US6252541B1 (en) * 1994-07-11 2001-06-26 Mcdonnell Douglas Corporation Low RCS test mounts
JP3424867B2 (ja) * 1994-12-06 2003-07-07 富士通株式会社 プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
JPH08172292A (ja) * 1994-12-16 1996-07-02 Osaka Gas Co Ltd ゴム系電波吸収材料
US5888413A (en) * 1995-06-06 1999-03-30 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Plasma processing method and apparatus
JP3030453B2 (ja) * 1995-12-27 2000-04-10 道晴 高橋 広帯域電波吸収体
JPH09251935A (ja) * 1996-03-18 1997-09-22 Applied Materials Inc プラズマ点火装置、プラズマを用いる半導体製造装置及び半導体装置のプラズマ点火方法
US5824607A (en) * 1997-02-06 1998-10-20 Applied Materials, Inc. Plasma confinement for an inductively coupled plasma reactor
JPH11118856A (ja) * 1997-10-16 1999-04-30 Tdk Corp アンテナ昇降装置
US5936568A (en) * 1998-02-09 1999-08-10 Mcdonnell Douglas Corporation Low radar cross-section (RCS) support pylon and low RCS measurement system employing same
JP2000013085A (ja) * 1998-06-24 2000-01-14 Pfu Ltd 電波吸収体敷設構造
JP3349689B2 (ja) * 1999-11-08 2002-11-25 株式会社デバイス アンテナ測定器
JP2001174493A (ja) * 1999-12-20 2001-06-29 Toshiba Corp 放射電磁界特性測定装置
US6329953B1 (en) * 2000-09-29 2001-12-11 Rangestar Wireless Method and system for rating antenna performance
JP2002328143A (ja) * 2001-02-27 2002-11-15 Atr Adaptive Communications Res Lab 電波暗箱
US6626188B2 (en) * 2001-06-28 2003-09-30 International Business Machines Corporation Method for cleaning and preconditioning a chemical vapor deposition chamber dome
EP1412766B1 (en) 2001-07-27 2006-06-14 Advantest Corporation Electromagnetic wave measuring apparatus
JP2003057281A (ja) * 2001-08-20 2003-02-26 Murata Mfg Co Ltd 電波暗室、放射電磁波測定システムおよび放射電磁波の測定方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP1580566A1 (en) 2005-09-28
TWI354106B (en) 2011-12-11
EP1580566B1 (en) 2008-12-03
JP2012194187A (ja) 2012-10-11
KR20060044481A (ko) 2006-05-16
KR100713043B1 (ko) 2007-05-02
US7102562B2 (en) 2006-09-05
JP2005274570A (ja) 2005-10-06
DE602005011351D1 (de) 2009-01-15
US20050206550A1 (en) 2005-09-22
TW200617404A (en) 2006-06-01
JP5203553B2 (ja) 2013-06-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5736347B2 (ja) 改良型試験台を備えた高周波無響室
US8072366B2 (en) Radio wave absorber, electromagnetic field measurement system and radiated immunity system
US20150260772A1 (en) Portable Spherical Near-Field Antenna Measurement System
US7190301B2 (en) Radio frequency anechoic chamber with nonperturbing wireless signalling means
Beissner Primary measurement of ultrasonic power and dissemination of ultrasonic power reference values by means of standard transducers
TW201323889A (zh) 電波暗室
US6119808A (en) Transportable acoustic screening chamber for testing sound emitters
CN1693910B (zh) 具有改良测试台的射频消音室
CN103364760B (zh) 一种大孔径立体阵列结构
JP4932482B2 (ja) 調査対象器具の電磁挙動の直接観測のための無響室
JP2000214201A (ja) アンテナ測定方法及び測定装置
JP3436669B2 (ja) 電磁波結合装置
JP2006317188A (ja) 電磁界測定システムおよび放射イミュニティシステム
Foley et al. Low-cost antenna positioning system designed with axiomatic design
KR101949134B1 (ko) 로터리 엔코더를 이용한 전방향 안테나 방사 패턴 측정 장치
Marchiori et al. Design of the high field side antenna of the new reflectometric system for plasma position estimate in RFXmod2
Christensen et al. A light-weight wireless omni-directional sound source for room acoustic measurements
JP3800242B1 (ja) 電磁界プローブ
CN110568269A (zh) 一种测试系统
JP3783728B1 (ja) 電波吸収体および外装体
CN215180865U (zh) 一种户外用测距传感器
CN213455832U (zh) 一种多功能声级计
JPH01280398A (ja) 電波無響室
WO2022178956A1 (zh) 一种小动物磁共振射频线圈及小动物成像装置
CN112763515A (zh) 一种减小暗室反射性能测量误差的方法

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20131004

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20131015

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140115

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140819

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20141119

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20141125

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20141224

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20150331

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150420

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5736347

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

S631 Written request for registration of reclamation of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313631

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees