JP5734431B2 - 太陽電池専用の表面凹凸付き導電ガラスとその製造方法及び応用 - Google Patents
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Description
1)マグネトロンスパッタリング法により製造される酸化インジウムスズ(ITO)導電ガラス;
2)マグネトロンスパッタリング法により製造される酸化亜鉛アルミニウム(AZO)導電ガラス;
3)常圧化学気相堆積法により製造されるフッ素をドープした酸化スズ(FTO)導電ガラス;及び
4)低圧化学気相堆積法により製造されるホウ素をドープした酸化亜鉛(BZO)または酸化亜鉛アルミニウム(アルミニウムをドープした酸化亜鉛)(AZO)導電ガラス。
1)マグネトロンスパッタリング後に、塩酸ウェットエッチングにより製造された酸化亜鉛アルミニウム(AZO)導電ガラスの表面凹凸型(図2に示す)、
2)常圧化学気相堆積法により製造されたフッ素をドープした酸化スズ(FTO)導電ガラスの表面凹凸型(図3に示す)、
3)低圧化学気相堆積法により製造されたホウ素をドープした酸化亜鉛(BZO)または酸化亜鉛アルミニウム(AZO)導電ガラスの表面凹凸型(図4に示す)。
太陽電池専用の表面凹凸付き導電ガラスにおいて、その構造と構成は、ガラス基板に透明導電膜をメッキし、透明導電膜の上表面はナノレベルのU字形表面凹凸度を有する表面凹凸形状であり、
前記透明導電膜の厚さは100〜5000ナノメートルであり、
前記透明導電膜は酸化インジウムスズ(ITO)、または、酸化亜鉛アルミニウム(AZO)または他の透明導電薄膜材料(等電点が3より大きい)の1種である。
(1)マグネトロンスパッタリング方式を用いてガラス基板に透明導電膜をメッキして、導電ガラスAを得る手順と、
(2)単分散のナノ/マイクロボールの懸濁液を取って、そのpH値が3〜7になるように該懸濁液を調節し、導電ガラスAを懸濁液に2〜15分間浸漬し、取り出して、水で洗浄し、導電ガラスBを得る手順と、
そこで、ITO、AZOなどの透明導電膜の等電点(isoelectric point)が比較的大きく、通常は6〜10で、シリカまたはポリスチレンナノ/マイクロボールの等電点が比較的小さく、通常は2〜4であるため、導電ガラスをナノ/マイクロボールの中性(PH値が7)または弱酸性(PH値が3〜6)の懸濁液に浸漬するとき、透明導電膜の表面が負に帯電し、ナノ/マイクロボールの表面が正に帯電し、これにより、2種類の材料の間で相互の静電吸引を起こし、一定時間経過した後、透明導電膜のほぼ全ての表面がナノ/マイクロボールにより吸着されており、ナノ/マイクロボールの導電ガラスでの被覆面積比率がナノ/マイクロボールの懸濁液の濃度、pH値と浸漬メッキ時間に従って変化しており、
(3)ナノ/マイクロボールを用いてマスクにし、導電ガラスBにマグネトロンスパッタリング方式で透明導電膜をメッキして、導電ガラスCを得る手順と、
そこで、新しくメッキされた膜の厚さがナノ/マイクロボールの直径を超えず、透明導電膜の総厚さが100〜5000ナノメートルであり、
第2回目にマグネトロンスパッタリングメッキ膜を使用する原因は、マグネトロンスパッタリング過程でメッキ膜材料がナノ/マイクロボールの側下方に入って、稜角を有しないU字形表面形状(図7に示す)を形成するためであり、
(4)透明導電膜の表面に堆積されたナノ/マイクロボールを超音波洗浄し、それにより、導電ガラスC表面にU字形ナノ/マイクロサイズの表面凹凸度が形成され、太陽電池専用の表面凹凸付き導電ガラスを得る手順と、を含む。
該導電ガラスは可視光帯域の透過率が80%以上で、表面電気抵抗が10オームより小さい。
手順(2)に記載のナノ/マイクロボールの直径が10ナノメートル〜100マイクロメートルであり、
手順(2)に記載のナノ/マイクロボールの材質はシリカまたはポリスチレンの1種であり、
手順(2)に記載の懸濁液でのナノ/マイクロボールの質量体積濃度が0.01〜1%であり、
手順(2)に記載の懸濁液の溶剤が水、メタノールまたはエタノールの1種であり、
手順(2)に記載の導電ガラスの懸濁液での浸漬時間が8〜10分間が好ましく、
前記太陽電池専用の表面凹凸付き導電ガラスは太陽電池の透明電極または基板として用いられることができる。
本発明は従来技術に比べて下記のような特徴及び効果を有する。
太陽電池専用の表面凹凸付き導電ガラスの製造方法において、その手順(図6に示す)は、
(1)マグネトロンスパッタリング方式を用いてガラス基板にAZO透明導電膜をメッキして、導電ガラスAを得る手順と、
そこで、マグネトロンスパッタリングを行うための条件は、基礎真空度が0.8×10-5Torrで、作業気圧が1mTorrで、作業ガスがAr+O2で、スパッタリング源における直流または無線周波が13.56MHzで、動力が1000Wで、基板温度が20℃で、堆積速度が100nm/minであり、
(2)ポリスチレンのナノボール(直径が1000ナノメートル)の水中での懸濁液(質量体積濃度が0.25%)を取って、pH値が4になるように該懸濁液を調節し、導電ガラスAを懸濁液に2分間浸漬し、取り出して、水で軽く洗浄し、導電ガラスBを得る手順と、
そこで、図8に示されたように、導電ガラスBにはナノメートルボールが浸漬メッキされており、
(3)ナノボールを用いてマスクにし、導電ガラスBにマグネトロンスパッタリング手段を用いてAZO透明の導電性膜(マグネトロンスパッタリングを行う条件は手順(1)と同様)をメッキして、導電ガラスCを得る手順と、
そこで、新しくメッキされた膜の厚さがナノボールの半径を超えず、透明導電膜の総厚さが2000ナノメートルになり、
(4)透明導電膜の表面に堆積されたナノボールを超音波洗浄し、太陽電池専用の表面凹凸付き導電ガラスを得る手順と、を含む。
ナノボールを除去した後の導電ガラスの表面形状が図14と図15に示されたように、表面凹凸形状の凹部領域率が比較的大きくなり、U字形が鮮明に形成され、かつ導電ガラス表面での分布が均一になり、該導電ガラスの可視光帯域の透過率が82%で、表面電気抵抗が3オームで、太陽電池の透明電極または基板として用いられることができる。
太陽電池専用の表面凹凸付き導電ガラスの製造方法において、その手順(図6に示す)は、
(1)マグネトロンスパッタリング方式を用いてガラス基板にAZO透明導電膜をメッキして、導電ガラスAを得る手順と、
そこで、マグネトロンスパッタリングを行う条件は、基礎真空度が0.7×10-5Torrで、作業気圧が10mTorrで、作業ガスがAr+O2で、スパッタリング源における直流または無線周波が13.56MHzで、動力が100Wで、基板温度が500℃で、堆積速度が10nm/minであり、
(2)エタノール中にシリカのナノボール(直径が1000ナノメートル)を有する懸濁液(質量体積濃度が0.5%)を取って、pH値が7になるように該懸濁液を調節し、導電ガラスAを懸濁液に4分間浸漬し、取り出して、水で軽く洗浄し、導電ガラスBを得る手順と、
そこで、図9に示されたように、導電ガラスBにはナノボールがメッキされており、
(3)ナノ/マイクロボールを用いてマスクにし、導電ガラスBにマグネトロンスパッタリング方式でAZO透明導電膜(マグネトロンスパッタリングを行う条件は手順(1)と同様)をメッキして、導電ガラスCを得る手順と、
そこで、新しくメッキされた膜の厚さがナノ/マイクロボールの半径を超えず、透明導電膜の総厚さが3000ナノメートルになり、
(4)透明導電膜の表面に堆積されたナノ/マイクロボールを超音波洗浄し、これにより、導電ガラス表面CにU字形ナノ/マイクロメートルサイズの表面凹凸形状が形成され、太陽電池専用の表面凹凸付き導電ガラスを得る手順と、を含む。
該導電ガラスの可視光帯域の透過率が83%で、表面電気抵抗が4オームで、太陽電池の透明電極または基板として用いられることができる。
太陽電池専用の表面凹凸付き導電ガラスの製造方法において、その製造手順(図6に示す)は、
(1)マグネトロンスパッタリング方式を用いてガラス基板にITO透明導電膜をメッキして、導電ガラスAを得る手順と、
そこで、マグネトロンスパッタリングを行う条件は、基礎真空度が0.9×10-5Torrで、作業気圧が4mTorrで、作業ガスがAr+O2で、スパッタリング源における直流または無線周波が13.56MHzで、動力が800Wで、基板温度が100℃で、堆積速度が80nm/minであり、
(2)水中にポリスチレンのナノボール(直径が1000ナノメートル)を有する懸濁液(質量体積濃度が0.1%)を取って、pH値が6になるように該懸濁液を調節し、導電ガラスAを懸濁液に6分間浸漬し、取り出して、水で軽く洗浄し、導電ガラスBを得る手順と、
そこで、図10に示されたように、導電ガラスBにはナノボールがメッキされており、
(3)ナノ/マイクロボールを用いてマスクにし、導電ガラスBにマグネトロンスパッタリング方式でITO透明導電膜(マグネトロンスパッタリングを行う条件は手順(1)と同様)をメッキして、導電ガラスCを得る手順と、
そこで、新しくメッキされた膜の厚さがナノ/マイクロボールの半径を超えず、透明導電膜の総厚さが1000ナノメートルになり、
(4)透明導電膜の表面に堆積されたナノ/マイクロボールを超音波洗浄し、それにより、導電ガラスC表面にU字形ナノ/マイクロメートルサイズの表面凹凸形状が形成され、太陽電池専用の表面凹凸付き導電ガラスを得る手順と、を含む。
該導電ガラスの可視光帯域の透過率が81%で、表面電気抵抗が2オームで、太陽電池の透明電極または基板として用いられることができる。
太陽電池専用の表面凹凸付き導電ガラス製造方法において、その製造手順(図6に示す)は、
(1)マグネトロンスパッタリング方式を用いてガラス基板にAZO透明導電膜をメッキして、導電ガラスAを得る手順と、
そこで、マグネトロンスパッタリングを行う条件は、基礎真空度が0.5×10-5Torrで、作業気圧が6mTorrで、作業ガスがAr+O2で、スパッタリング源における直流または無線周波が13.56MHzで、動力が200Wで、基板温度が400℃で、堆積速度が40nm/minであり、
(2)水中にポリスチレンのナノボール(直径が1000ナノメートル)を有する懸濁液(質量体積濃度が0.75%)を取って、pH値が3になるように該懸濁液を調節し、導電ガラスAを懸濁液に8分間浸漬し、取り出して、水で軽く洗浄し、導電ガラスBを得る手順と、
そこで、図11に示されたように導電ガラスBにはナノボールがメッキされ、その被覆率が90%以上を達成しており、
(3)ナノ/マイクロボールを用いてマスクにし、導電ガラスBにマグネトロンスパッタリング方式でAZO透明導電膜(マグネトロンスパッタリングを行う条件は手順(1)と同様)をメッキして、導電ガラスCを得る手順と、
そこで、新しくメッキされた膜の厚さがナノ/マイクロボールの直径を超えず、透明導電膜の総厚さが100ナノメートルになり、
(4)透明導電膜の表面に堆積されたナノ/マイクロボールを超音波洗浄し、それにより、導電ガラスC表面にU字形ナノ/マイクロサイズの表面凹凸形状が形成され、太陽電池専用の表面凹凸付き導電ガラスを得る手順と、を含む。
該導電ガラスの可視光線帯域の透過率が84%で、表面電気抵抗が5オームで、太陽電池の透明電極または基板として用いられることができる。
太陽電池専用の表面凹凸付き導電ガラスの製造方法において、その製造手順(図6に示す)は、
(1)マグネトロンスパッタリング方式を用いてガラス基板にAZO透明導電膜をメッキして、導電ガラスAを得る手順と、
そこで、マグネトロンスパッタリングを行う条件は、基礎真空度が0.6×10-5Torrで、作業気圧が8mTorrで、作業ガスがAr+O2で、スパッタリング源における直流または無線周波が13.56MHzで、動力が400Wで、基板温度が300℃で、堆積速度が20nm/minであり、
(2)メタノール中にポリスチレンのナノボール(直径が1000ナノメートル)を有する懸濁液(質量体積濃度が1%)を取って、pH値が3になるように該懸濁液を調節し、導電ガラスAを懸濁液に10分間浸漬し、取り出して、水で軽く洗浄し、導電ガラスBを得る手順と、
そこで、図12に示されたように導電ガラスBにはナノボールがメッキされ、その被覆率が90%以上をに達成しており、
(3)ナノ/マイクロボールを用いてマスクにし、導電ガラスBにマグネトロンスパッタリング方式でAZO透明導電膜(マグネトロンスパッタリングを行う条件は手順(1)と同様)をメッキして、導電ガラスCを得る手順と、
新しくメッキされた膜の厚さがナノ/マイクロボールの直径を超えず、透明導電膜の総厚さが5000ナノメートルになり、
(4)透明導電膜表面に堆積されたナノ/マイクロボールを超音波洗浄し、それにより、導電ガラスC表面にU字形ナノ/マイクロサイズの表面凹凸形状が形成され、太陽電池専用の表面凹凸付き導電ガラスを得る手順と、を含む。
該導電ガラス可視光帯域の透過率が82%で、表面電気抵抗が3オームで、太陽電池の透明電極または基板として用いられることができる。
太陽電池専用の表面凹凸付き導電ガラスの製造方法において、その製造手順(図6に示す)は、
(1)マグネトロンスパッタリング方式を用いてガラス基板にAZO透明導電膜をメッキして、導電ガラスAを得る手順と、
そこで、マグネトロンスパッタリングを行う条件は、基礎真空度が0.4×10-5Torrで、作業気圧が2mTorrで、作業ガスがAr+O2で、スパッタリング源における直流または無線周波が13.56MHzで、動力が600Wで、基板温度が200℃で、堆積速度が60nm/minであり、
(2)メタノール中にポリスチレンのナノボール(直径が1000ナノメートル)を有する懸濁液(質量体積濃度が0.01%)を取って、pH値が4になるように該懸濁液を調節し、導電ガラスAを懸濁液に15分間浸漬し、取り出して、水で軽く洗浄し、導電ガラスBを得る手順と、
そこで、図13に示されたように導電ガラスBにはナノボールがメッキされており、
(3)ナノ/マイクロボールを用いてマスクにし、導電ガラスBにマグネトロンスパッタリング方式でAZO透明導電膜(マグネトロンスパッタリングを行う条件は手順(1)と同様)をメッキして、導電ガラスCを得る手順と、
新しくメッキされた膜の厚さがナノ/マイクロボールの直径を超えず、透明導電膜の総厚さが4000ナノメートルになり、
(4)透明導電膜表面に堆積されたナノ/マイクロボールを超音波洗浄し、それにより、導電ガラスC表面にU字形ナノ/マイクロサイズの表面凹凸形状が形成され、太陽電池専用の表面凹凸付き導電ガラスを得る手順と、を含む。
該導電ガラス可視光帯域の透過率が82%で、表面電気抵抗が3オームで、太陽電池の透明電極または基板として用いられることができる。
Claims (6)
- 太陽電池専用の表面凹凸付き導電ガラスの製造方法において、
(1)マグネトロンスパッタリング方式を用いてガラス基板に透明導電膜をメッキして、導電ガラスAを得る手順と、
(2)ナノ/マイクロボールの懸濁液を取って、pH値が3〜7になるように該懸濁液を調節し、導電ガラスAを懸濁液に2〜15分間浸漬し、取り出して、水で洗浄し、導電ガラスBを得る手順と、
(3)ナノ/マイクロボールをマスクにし、マグネトロンスパッタリング方式で導電ガラスBに透明導電膜をメッキして、導電ガラスCを得る手順と、
そこで、新しくメッキされた膜の厚さがナノ/マイクロボールの直径を超えず、透明導電膜の総厚さが100〜5000ナノメートルであり、
(4)透明導電膜表面に堆積されたナノ/マイクロボールを超音波洗浄して、太陽電池専用の表面凹凸付き導電ガラスを得る手順と、を含むことを特徴とする太陽電池専用の表面凹凸付き導電ガラスの製造方法。
- 手順(1)と手順(3)に記載のマグネトロンスパッタリングを行う条件は、基礎真空度<1×10-5Torrで、作業気圧が1〜10mTorrで、作業ガスがAr+O2で、スパッタリング源における直流または無線周波が13.56MHzで、動力が100〜1000Wで、基板温度が20〜500℃で、堆積速度が10〜100nm/minであることを特徴とする請求項1に記載の太陽電池専用の表面凹凸付き導電ガラスの製造方法。
- 手順(2)に記載のナノ/マイクロボールの直径が10ナノメートル〜100マイクロメートルであることを特徴とする請求項1に記載の太陽電池専用の表面凹凸付き導電ガラスの製造方法。
- 手順(2)に記載のナノ/マイクロボールの材質は、シリカまたはポリスチレンの中の1種であることを特徴とする請求項1に記載の太陽電池専用の表面凹凸付き導電ガラスの製造方法。
- 手順(2)に記載の懸濁液でのナノ/マイクロボールの質量体積濃度が0.01〜1%であり、手順(2)に記載の懸濁液の溶剤は水、メタノールまたはエタノールの中の1種であることを特徴とする請求項1に記載の太陽電池専用の表面凹凸付き導電ガラスの製造方法。
- 手順(2)に記載の導電ガラスの懸濁液での浸漬時間が8〜10分間であることを特徴とする請求項1に記載の太陽電池専用の表面凹凸付き導電ガラスの製造方法。
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