JP5727401B2 - 光導波路及びその作製方法 - Google Patents
光導波路及びその作製方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5727401B2 JP5727401B2 JP2012036835A JP2012036835A JP5727401B2 JP 5727401 B2 JP5727401 B2 JP 5727401B2 JP 2012036835 A JP2012036835 A JP 2012036835A JP 2012036835 A JP2012036835 A JP 2012036835A JP 5727401 B2 JP5727401 B2 JP 5727401B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- core
- film
- optical waveguide
- sno
- geo
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Description
従って、コア膜やクラッド層の堆積技術と微細加工技術の組み合わせで光回路の光学特性が決定されることになる。近年は特に既存デバイスの高性能化、高機能化の開発が進められている。
まず、Si基板上にFHD法でSiO2アンダークラッド層を15μm堆積し、続いて、スパッタ成膜法によってコア膜として5%−ΔSiO2−SnO2−GeO2膜を2.3μm堆積した。成膜はターゲットにSi、SnO2、Geを用いた反応性スパッタで、ガスはAr、O2を使用した。ここで成分比(mol%)はSiO2:SnO2:GeO2=77.7:10.8:11.5となるようにした。
PLCデバイス作製の後工程において、より厳密にΔ調整精度が求められる場合に次のような工程で光導波路を作製した。実施例1と同様に、まずSi基板上にFHD法でSiO2アンダークラッド層を15μm堆積し、続いて、SiO2にGeO2が0.1mol%、SnO2が30mol%ドープされている焼結体ターゲットとSiO2ターゲットを用いて、共スパッタ成膜法によってコア膜として5%−ΔSiO2−SnO2−GeO2膜を2.3μm堆積した。
1−2 アンダークラッド層
1−3 コア膜
1−4 コア
1−5 オーバークラッド層
Claims (3)
- Si基板上に積層されたコアとクラッドからなる光導波路であって、
前記コアは、SiO2−GeO2を主成分とし、負の熱膨張係数を有する物質を少なくとも一種類以上ドープした混合成分で構成されていて、石英ガラスからなる前記クラッドに対して比屈折率差Δが5%以上でありながら、圧縮応力を有し、
前記負の熱膨張係数を有する物質は、SnO 2 、HfO 2 の少なくとも一方であり、前記コアへのSnO 2 のドープ成分比は、0mol%より大きく30.0mol%以下であり、前記コアへのHfO 2 のドープ成分比は、0mol%より大きく8.3mol%以下であることを特徴とする光導波路。 - Si基板上に石英系ガラスからなるアンダークラッド層を堆積させるステップと、
前記アンダークラッド層上に、SiO2−GeO2を主成分とし、負の熱膨張係数を有する物質を少なくとも一種類以上ドープした混合成分で構成されていて、前記アンダークラッド層に対して比屈折率差Δが5%以上でありながら圧縮応力を有するコア膜を堆積させるステップと、
前記コア膜を光導波路パターンコアに加工するステップと、
前記加工されたコア膜を埋め込むオーバークラッド層を堆積させるステップと
を有し、
前記負の熱膨張係数を有する物質は、SnO 2 、HfO 2 の少なくとも一方であり、
前記コア膜へのSnO 2 のドープ成分比は、0mol%より大きく30.0mol%以下であり、前記コア膜へのHfO 2 のドープ成分比は、0mol%より大きく8.3mol%以下であることを特徴とする光導波路作製方法。 - 前記コア膜を堆積させるステップ後で、前記加工するステップ前の前記コア膜は、0MPaより大きく250MPaより小さい圧縮応力を有することを特徴とする請求項2に記載の光導波路作製方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012036835A JP5727401B2 (ja) | 2012-02-22 | 2012-02-22 | 光導波路及びその作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012036835A JP5727401B2 (ja) | 2012-02-22 | 2012-02-22 | 光導波路及びその作製方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013171261A JP2013171261A (ja) | 2013-09-02 |
JP5727401B2 true JP5727401B2 (ja) | 2015-06-03 |
Family
ID=49265194
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012036835A Active JP5727401B2 (ja) | 2012-02-22 | 2012-02-22 | 光導波路及びその作製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5727401B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018120049A (ja) * | 2017-01-24 | 2018-08-02 | Tdk株式会社 | 光結合装置及びその製造方法 |
JP2020098283A (ja) * | 2018-12-18 | 2020-06-25 | 日本電信電話株式会社 | 光導波路とその製造方法 |
US12044883B2 (en) | 2019-05-27 | 2024-07-23 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Optical waveguide and manufacturing method thereof |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08286050A (ja) * | 1995-04-11 | 1996-11-01 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光導波路型回折格子及びその作製方法 |
JPH09243846A (ja) * | 1996-03-04 | 1997-09-19 | Hitachi Cable Ltd | 高比屈折率差光導波路の製造方法 |
JP2002303747A (ja) * | 2001-04-05 | 2002-10-18 | Hitachi Cable Ltd | 光導波路 |
JP2002258083A (ja) * | 2001-12-25 | 2002-09-11 | Mitsubishi Electric Corp | 光導波路型グレーティングおよび前記光導波路型グレーティングを備えた光フィルタを用いた波長多重光伝送システム |
JP2004029600A (ja) * | 2002-06-28 | 2004-01-29 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 光導波路およびその製造方法 |
JP4647256B2 (ja) * | 2003-07-28 | 2011-03-09 | 株式会社オハラ | ガラスセラミックス |
JP2005062538A (ja) * | 2003-08-14 | 2005-03-10 | Fujitsu Ltd | 光導波路及びその製造方法 |
JP2005089838A (ja) * | 2003-09-18 | 2005-04-07 | Hitachi Cable Ltd | 超低屈折率ガラス膜及びそれを用いた導波路の製造方法 |
JP2005234319A (ja) * | 2004-02-20 | 2005-09-02 | Nec Corp | 光結合器及び光結合器の製造方法 |
JP5169163B2 (ja) * | 2006-12-01 | 2013-03-27 | 旭硝子株式会社 | 予備研磨されたガラス基板表面を仕上げ加工する方法 |
-
2012
- 2012-02-22 JP JP2012036835A patent/JP5727401B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013171261A (ja) | 2013-09-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5727401B2 (ja) | 光導波路及びその作製方法 | |
US20060193584A1 (en) | Optical waveguide and method of fabricating the same | |
JP3551895B2 (ja) | 石英系光導波路及びその製造方法 | |
JP2019015816A (ja) | 光導波路 | |
US6339667B1 (en) | Optical waveguide and method for fabricating the same | |
CN104090334A (zh) | 平面光波导器件芯层薄膜的制备方法 | |
JP3840835B2 (ja) | 石英系ガラス導波路素子の製造方法 | |
JP2011043576A (ja) | 石英系光導波路の作製方法 | |
JP3575342B2 (ja) | 石英ガラス系光導波路の製造方法 | |
JP5718215B2 (ja) | 光導波路及びその作製方法 | |
JP2000147293A (ja) | 基板型光導波路およびその製造方法 | |
JP2004126399A (ja) | 光導波路および光導波回路 | |
WO2020129664A1 (ja) | 光導波路とその製造方法 | |
JPH05181031A (ja) | 光導波路及びその製造方法 | |
JPH05257021A (ja) | 光導波路の製造方法 | |
KR20020040551A (ko) | 광도파로 및 그 제조방법 | |
JP2016045440A (ja) | 光導波路の作製方法 | |
JP2001215352A (ja) | 三次元コア導波路を有する石英系ガラス導波路の製造方法 | |
JP2006113506A (ja) | 光機能デバイス | |
KR100219751B1 (ko) | 다량의 붕소첨가로 실리카 평판도파박막 및 평판도파로의 복굴절을 줄이는 방법 | |
JPH09243846A (ja) | 高比屈折率差光導波路の製造方法 | |
JP2011203459A (ja) | 光導波路の製造方法 | |
JP2004210611A (ja) | ガラス薄膜、それを用いたフォトニック結晶およびガラス薄膜の製造方法 | |
JP2004287173A (ja) | 光導波路の製造方法 | |
JP2002196171A (ja) | 光導波路およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140109 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140819 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140820 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141006 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150106 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150309 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150331 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150402 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Ref document number: 5727401 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |