JP5695427B2 - 半導体ウエハの割断方法及び割断装置 - Google Patents
半導体ウエハの割断方法及び割断装置 Download PDFInfo
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Description
11 分割予定ライン
12 半導体チップ
13 弾性保護フィルム
14 半導体ウエハ割断装置
15 フィルム固定保持部材
16 真空載置台
17 真空吸着台支持部材
18 真空吸着台撓ませ機構
19 半導体チップ離間部材
20 吸着板部
20a 吸着面
21 溝
22 ブロック
23 吸気孔
24 押圧台
25 突き出し及び回動体
26 エアシリンダ
27 エアシリンダ
28 x軸制御部材
29 y軸制御部材
30 位置決め皿
Claims (7)
- 半導体ウエハを分割予定ラインに沿って割断し、複数の半導体チップに分割する半導体ウエハの割断方法において、
表面に前記ウエハを全面吸着する連続した吸着平面を持ち、裏面にはチップサイズに応じて間隔を空けて区画化された複数のブロックを持ち、前記吸着平面上に各ブロックに対応して該各ブロックの領域内に配置された吸気孔を持ち、前記吸着平面全体が一枚の板からなる真空吸着台に、前記ウエハを載せ置く工程と、
前記真空吸着台の吸着平面を減圧して前記ウエハを前記各ブロック領域内の該吸着平面に全面吸着する工程と、
前記吸着平面に沿って吸着させた前記ウエハを前記真空吸着台ごと折り曲げるように撓ませ、前記分割予定ラインで一様に前記ウエハを割断する工程と、
からなる半導体ウエハの割断方法。 - 半導体ウエハを分割予定ラインに沿って割断し、複数の半導体チップに分割する半導体ウエハの割断方法において、
前記ウエハの裏面に対してエキスパンド可能な弾性保護フィルムを貼り付ける工程と、
表面に前記ウエハを全面吸着する連続した吸着面を持ち、裏面にはチップサイズに応じて間隔を空けて区画化された複数のブロックを持ち、前記吸着平面上に各ブロックに対応して該ブロックの領域内に配置された吸気孔を持ち、前記吸着平面全体が一枚の板からなる真空吸着台に前記ウエハを載せ置く工程と、
前記弾性保護フィルムを貼り付けた前記ウエハを、前記真空吸着台に平面的に吸着する工程と、
前記吸着平面に沿って吸着させた前記ウエハを前記真空吸着台ごと折り曲げるように撓ませて、前記分割予定ラインに沿って一様に前記ウエハを割断する工程と、
割断後、前記弾性保護フィルムに張力をかけて前記複数の半導体チップに離間する工程と、
からなることを特徴とする半導体ウエハの割断方法。 - 上記弾性保護フィルムが通気性を有するフィルムでなることを特徴とする請求項2記載の半導体ウエハの割断方法。
- 半導体ウエハを分割予定ラインに沿って割断し、複数の半導体チップに分割する半導体ウエハの割断装置において、
減圧して前記ウエハを全面吸着する連続した吸着平面を有する吸着板を持ち、前記吸着板の裏側に設けられ、チップサイズに応じて間隔を空けて配された複数個のブロックを持ち、前記吸着平面上には各ブロックに対応して該各ブロックの領域内に配置された吸気孔が設けられ、前記吸着平面全体が一枚の板からなる真空吸着台と、
前記ウエハを前記吸着平面に沿って吸着保持した前記真空吸着台を折り曲げるように撓ませて該ウエハの割断を行う真空吸着台撓ませ機構と、
を備えることを特徴とする半導体ウエハの割断装置。 - 半導体ウエハを分割予定ラインに沿って割断し、複数の半導体チップに分割する半導体ウエハの割断装置において、
減圧して前記ウエハを全面吸着する連続した吸着平面を持ち、該吸着平面の裏側には該ウエハの切断予定ライン位置に対応して一定の深さまで形成された複数本の溝を持ち、前記吸着面上には前記溝に区画されると共にチップサイズに応じて間隔を空けて配された複数のブロックに対応して各ブロックの領域内に配置された吸気孔を持ち、前記吸着平面全体が一枚の板からなる真空吸着台と、
前記ウエハを前記吸着平面に沿って吸着保持した前記真空吸着台を折り曲げるように撓ませて該ウエハの割断を行う真空吸着台撓ませ機構と、
を備えることを特徴とする半導体ウエハの割断装置。 - 上記半導体ウエハは、エキスパンド可能な弾性保護フィルムを貼り付けたウエハであることを特徴とする請求項4または5記載の半導体ウエハの割断装置。
- 上記弾性保護フィルムは、通気性を有するフィルムでなることを特徴とする請求項6記載の半導体ウエハの割断装置。
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