JP5692425B2 - 有機エレクトロルミネッセンス素子 - Google Patents
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Description
2.前記一般式(14)で表される電荷輸送材料が、それぞれ、下記一般式(16)または(17)で表されることを特徴とする第1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
一般式(17): Ar3−(Q3)n
(式中、Q3は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい1,5−ナフチリジン残基を表す。L3は、二価の連結基を表す。Ar3は、置換基を有してもよい単環の芳香族炭化水素環もしくは置換基を有してもよい単環の芳香族複素環を表す。nは、1以上の整数を表す。)
3.前記一般式(14)、(16)又は(17)において、前記置換基の分子量が240以下であることを特徴とする第1項又は第2項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
本発明に係る電子輸送材料含有層は、一般式(1)で表される電荷輸送材料を含み、且つ、金属、該金属の塩及び電子供与性化合物の群から選択される少なくとも一つを含有することが特徴である。
電子輸送材料含有層の形成方法(成膜方法ともいう)は、従来公知のいかなる薄膜形成法を適用してもよく、例えば、蒸着法やスパッタ法が使用できる。また、溶液からの塗布で薄膜形成が可能な場合には、スピンコーティング法、ディップコーティング法、インクジェット等のような、溶液を用いての塗布法が使用できる。この場合、混合される、金属、該金属の塩又は電子供与性化合物と、電子輸送性材料は、不活性なポリマー中に分散して用いてもよい。
電子輸送材料含有層の厚み(膜厚)は、特に限定されないが、均一な膜の形成や駆動電圧低下の観点から、1nm〜200nmの範囲が好ましく、特に好ましくは、20nm〜80nmの範囲に調整することである。
本発明に係る電子輸送材料含有層に含有させる金属としては、アルカリ金属(例えば、Li、Na、K、Rb、Cs、Fr等)、アルカリ土類金属(Be、Mg、Ca、Sr、Ba等)が好ましいが、更に好ましくは、リチウム、カリウム、ナトリウム、セシウム、バリウム、カルシウム、ストロンチウムであり、最も好ましくは、セシウムである。
本発明では、電子注入の際にエネルギー障壁を低下させる一方、陰極近傍での電子授受を担う有機材料濃度を維持し電子注入効率を上げる観点から、電子材料含有層における金属又は該金属の塩の濃度は、0.1質量%〜99.0質量%であることが好ましく、1.0質量%〜80.0質量%の範囲に調整されていることが更に好ましい。
金属又は該金属の塩と、後述する電子輸送性有機材料との質量比は、0.1:99.9〜99:1が好ましく、1:99〜80:20がより好ましい。
本発明に係る無機金属塩は、上記のアルカリ金属又はアルカリ土類金属の金属酸化物等と併用してもよく、前記金属酸化物としては、例えば、Li2O、Na2O、K2O、Rb2O、Cs2O、MgO、CaO等が挙げられる。
本発明に係る電子輸送材料含有層は、下記一般式(1)で表される電子輸送材料を含有する。
一般式(1)において、X5〜X8はC−R1もしくは窒素原子を表す。R1はそれぞれ独立に水素もしくは置換基を表し、また、ここにおいて、置換基とは、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等)、シクロアルキル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基等)、アルキニル基(例えば、エチニル基、プロパルギル基等)、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、芳香族複素環基(例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、キナゾリニル基、フタラジニル基等)、複素環基(例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等)、シクロアルコキシ基(例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等)、シクロアルキルチオ基(例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等)、スルファモイル基(例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、アシル基(例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等)、アミド基(例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、2−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等)、カルバモイル基(例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、ウレイド基(例えば、メチルウレイド基、エチル
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一般式(2)において、R15〜R18はそれぞれ独立に水素もしくは置換基を表し、R15〜R18はお互いに結合して環を形成してもよい。ここにおいて、置換基R15〜R18は、前記一般式(1)における置換基R1と同義である。
式中、R21、R22はそれぞれ独立に水素もしくは置換基を表し、Z1は置換基を有してもよい芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を形成するに必要な原子団を表す。R21、R22で表される置換基は、前記一般式(1)における置換基R1と同義である。
前記一般式(4)において、R31〜R36はそれぞれ独立に水素もしくは置換基を表し、お互いに結合して環を形成してもよい。R31〜R36で表される置換基は、前記一般式(1)における置換基R1と同義である。
一般式(6):Ar1−(Q1)n
〔式中、Q1はそれぞれ独立に置換基を有してもよいピリミジン、キナゾリン、ベンゾキナゾリン残基を表し、L1は二価の連結基もしくは直接結合を表す。また、Ar1は芳香族炭化水素環残基もしくは芳香族複素環残基を表す。ここにおいてnは0以上の整数を表す。〕
一般式(5)又は(6)において、Q1はそれぞれ独立に置換基を有してもよいピリミジン、キナゾリン、ベンゾキナゾリン残基を表し、L1は二価の連結基もしくは直接結合を表す。また、Ar1は芳香族炭化水素環残基もしくは芳香族複素環残基を表す。ここにおいてnは0以上、好ましくは6以下の整数を表す。
一般式(13):Ar2−(Q2)n
式中、Q2はそれぞれ独立に置換基を有してもよいピリダジン、シンノリン、フタラジン、ベンゾシンノリン、ベンゾフタラジン残基を表す。L2は二価の連結基もしくは直接結合を表す。Ar2は芳香族炭化水素環残基もしくは芳香族複素環残基を表す。nは0以上、好ましくは6以下の整数を表す。
Q3−L3−Q3
一般式(17)
Ar3−(Q3)n
式中、Q3はそれぞれ独立に置換基を有してもよいナフチリジン、ベンゾナフチリジン残基を表す。L3は二価の連結基もしくは直接結合を表す。Ar3は芳香族炭化水素環残基もしくは芳香族複素環残基を表す。nは0以上、好ましくは6以下の整数を表す。
本発明に係る電子供与性化合物としては、芳香族アミン化合物、チオフェン化合物、フルバレン化合物が好ましい化合物としてあげられる。
本発明に係る電子輸送性材料含有層には、上記の電荷輸送材料、金属又は金属塩、電子供与性化合物以外にも、以下のような化合物を併用して用いることが出来る。
本発明の有機EL素子の構成層について説明する。
(i)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送材料含有層/陰極(ii)陽極/電子阻止層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/電子輸送材料含有層/陰極(iii)陽極/正孔輸送層/電子阻止層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/電子輸送材
料含有層/陰極
(iv)陽極/正孔輸送層/電子阻止層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/電子輸送材料含有層/陰極
(v)陽極/正孔輸送層/電子阻止層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/電子輸送材料含有層/陰極バッファー層/陰極
(vi)陽極/陽極バッファー層/正孔輸送層/電子阻止層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/電子輸送材料含有層/陰極バッファー層/陰極
(vii)陽極/陽極バッファー層/正孔輸送層/電子阻止層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/電子輸送材料含有層/陰極バッファー層/陰極
(viii)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/拡散防止層/電子輸送材料含有層/陰極
(ix)陽極/陽極バッファー層/正孔輸送層/電子阻止層/拡散防止層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/電子輸送材料含有層/拡散防止層/陰極バッファー層/陰極
《発光層》
本発明に係る発光層は、電極又は電子輸送層、正孔輸送層から注入されてくる電子及び正孔が再結合して発光する層であり、発光する部分は発光層の層内であっても発光層と隣接層との界面であってもよい。
本発明の有機EL素子の発光層に含まれるホスト化合物とは、室温(25℃)におけるリン光発光のリン光量子収率が、0.1未満の化合物と定義される。好ましくはリン光量子収率が0.01未満である。また、発光層に含有される化合物の中で、その層中での質量比が20%以上であることが好ましい。
本発明の有機EL素子の発光層に含まれる発光ドーパントについて説明する。
燐光発光体は、励起三重項からの発光が観測される化合物であり、具体的には、室温(25℃)にてリン光発光する化合物であり、リン光量子収率が、25℃において0.01以上の化合物であると定義されるが、好ましいリン光量子収率は0.1以上である。
蛍光発光体(蛍光性ドーパント)の代表例としては、クマリン系色素、ピラン系色素、シアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、オキソベンツアントラセン系色素、フルオレセイン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム系色素、ペリレン系色素、スチルベン系色素、ポリチオフェン系色素、又は希土類錯体系蛍光体等が挙げられる。
本発明に係る阻止層(例えば、電子阻止層、正孔阻止層)について説明する。
正孔阻止層とは広い意味では電子輸送層の機能を有し、電子を輸送する機能を有しつつ正孔を輸送する能力が著しく小さい材料からなり、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。
一方、電子阻止層とは広い意味では正孔輸送層の機能を有し、正孔を輸送する機能を有しつつ電子を輸送する能力が著しく小さい材料からなり、正孔を輸送しつつ電子を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、後述する正孔輸送層の構成を必要に応じて電子阻止層として用いることが出来る。
正孔輸送層とは正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなり、広い意味で正孔注入層、電子阻止層も正孔輸送層に含まれる。正孔輸送層は単層又は複数層設けることができる。
電子輸送層とは電子を輸送する機能を有する材料からなり、広い意味で電子注入層、正孔阻止層も電子輸送層に含まれる。電子輸送層は単層又は複数層設けることができる。
本発明に係る拡散防止層とは、広くはEL素子の発光効率の低下又は発光寿命の低減を引き起こす原因となるEL素子を構成する、各構成中の有機材料(例えば、電子輸送材料、電子供与性化合物等)・無機材料(例えば、金属、該金属の塩等)、又は前記有機・無機材料中の混入物が(隣接層から)発光層内へ拡散すること、又は発光層内での拡散を防止する役割を有するものを指す。この様な役割を有していれば、陽極バッファー層、正孔輸送層、発光層、正孔阻止層、電子輸送層、陰極バッファー層等、他の層と兼用しても構わない。
注入層は必要に応じて設け、電子注入層と正孔注入層があり、上記のごとく陽極と発光層又は正孔輸送層の間、及び、陰極と発光層又は電子輸送層との間に存在させてもよい。
本発明の有機EL素子に係る陽極としては、仕事関数の大きい(4eV以上)金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。このような電極物質の具体例としてはAu等の金属、CuI、インジウムチンオキシド(ITO)、SnO2、ZnO等の導電性透明材料が挙げられる。また、IDIXO(In2O3−ZnO)等非晶質で透明導電膜を作製可能な材料を用いてもよい。陽極は、これらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により、薄膜を形成させ、フォトリソグラフィー法で所望の形状のパターンを形成してもよく、あるいはパターン精度をあまり必要としない場合は(100μm以上程度)、上記電極物質の蒸着やスパッタリング時に所望の形状のマスクを介してパターンを形成してもよい。この陽極より発光を取り出す場合には、透過率を10%より大きくすることが望ましく、また、陽極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましい。さらに膜厚は材料にもよるが、通常10nm〜1000nm、好ましくは10nm〜200nmの範囲で選ばれる。
一方、本発明に係る陰極としては、仕事関数の小さい(4eV以下)金属(電子注入性金属と称する)、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが用いられる。このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム/銅混合物、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al2O3)混合物、アルミニウム、インジウム、リチウム/アルミニウム混合物、希土類金属等が挙げられる。これらの中で、電子注入性及び酸化等に対する耐久性の点から、電子注入性金属とこれより仕事関数の値が大きく安定な金属である第二金属との混合物、例えばマグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al2O3)混合物、リチウム/アルミニウム混合物、アルミニウム等が好適である。陰極は、これらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により、薄膜を形成させることにより、作製することができる。また、陰極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましく、膜厚は通常10nm〜1000nm、好ましくは50nm〜200nmの範囲で選ばれる。なお、発光を透過させるため、有機EL素子の陽極又は陰極のいずれか一方が、透明又は半透明であれば発光輝度が向上し好都合である。
本発明の有機EL素子に係る基体としては、ガラス、プラスチック等の種類には特に限定はなく、また、透明のものであれば特に制限はないが、好ましく用いられる基板としては例えばガラス、石英、光透過性樹脂フィルムを挙げることができる。特に好ましい基体は、有機EL素子にフレキシブル性を与えることが可能な樹脂フィルムである。
本発明の有機EL素子の作製方法の一例として、陽極/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/電子輸送材料含有層/陰極からなる有機EL素子の作製法について説明する。
本発明の有機EL素子の発光の光取り出し方向は、支持基板(支持体ともいう)側から発光を取り出す、いわゆる、ボトムエミッション型でも、陰極側から発光を取り出す、トップエミッション型でもよいが、アクティブ型の素子のように支持基板側にTFT(薄膜トランジスタ)等を設置する(複合化ともいう)場合は、素子の発光部分の割合(発光面積率ともいう)をできるだけ大きくするためには、TFTが設置されていない側、つまり、陰極側から発光を取り出す、トップエミッション型が好ましい。
本発明の有機EL素子は、空気よりも屈折率の高い(屈折率が1.6〜2.1程度)層の内部で発光し、発光層で発生した光のうち15%から20%程度の光しか取り出せないことが一般的に言われている。これは、臨界角以上の角度θで界面(透明基板と空気との界面)に入射する光は、全反射を起こし素子外部に取り出すことができないことや、透明電極ないし発光層と透明基板との間で光が全反射を起こし、光が透明電極ないし発光層を導波し、結果として、光が素子側面方向に逃げるためである。
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子は、支持基板(基板)の光取出し側に、例えばマイクロレンズアレイ上の構造を設けるように加工したり、あるいは、所謂集光シートと組み合わせることにより、特定方向、例えば素子発光面に対し正面方向に集光することにより、特定方向上の輝度を高めることができる。
本発明の表示装置について説明する。
本発明の照明装置について説明する。
素、青領域の画素を、適宜、同一基板上に並置することによって、フルカラー表示が可能となる。
《有機EL素子1−1〜1−22の作製》
陽極として100mm×100mm×1.1mmのガラス基板上にITO(インジウムチンオキシド)を100nm製膜した基板(NHテクノグラス社製NA45)にパターニングを行った後、このITO透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、UVオゾン洗浄を5分間行なった。この透明支持基板を市販の真空蒸着装置の基板ホルダーに固定した。
各有機EL素子を2.5mA/cm2の一定電流で駆動したときに、輝度が発光開始直後の輝度(初期輝度)の半分に低下するのに要した時間を測定し、これを半減寿命時間(τ0.5)として寿命の指標とした。なお測定には分光放射輝度計CS−1000(ミノルタ(株)製)を用いた。
各有機EL素子を2.5mA/cm2の一定電流で駆動したときの電圧を測定し、
電圧評価値=有機EL素子1−1〜1−21の駆動電圧/有機EL素子1−22の駆動電圧×100でそれぞれ表した。値が小さい方が比較に対して駆動電圧が低いことを示している。
陽極として100mm×100mm×1.1mmのガラス基板上にITO(インジウムチンオキシド)を100nm製膜した基板(NHテクノグラス社製NA45)にパターニングを行った後、このITO透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、UVオゾン洗浄を5分間行なった。この透明支持基板を市販の真空蒸着装置の基板ホルダーに固定した。
実施例3において、N−30を、それぞれ表1に使用した電荷輸送材料に代え試験を行ったが、実施例3と同様の効果が確認された。
3 画素
5 走査線
6 データ線
7 電源ライン
10 有機EL素子
11 スイッチングトランジスタ
12 駆動トランジスタ
13 コンデンサ
A 表示部
B 制御部
Claims (13)
- 支持基板上に少なくとも陽極、陰極及び該陽極と該陰極間に少なくとも一つの有機化合物層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、該有機化合物層の少なくとも一つが、下記一般式(14)で表される電荷輸送材料を含み、且つ、金属、該金属の塩及び電子供与性化合物の群から選択される少なくとも一つを含有する電子輸送材料含有層であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記一般式(14)で表される電荷輸送材料が、それぞれ、下記一般式(16)または(17)で表されることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
一般式(16): Q3−L3−Q3
一般式(17): Ar3−(Q3)n
(式中、Q3は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい1,5−ナフチリジン残基を表す。L3は、二価の連結基を表す。Ar3は、置換基を有してもよい単環の芳香族炭化水素環もしくは置換基を有してもよい単環の芳香族複素環を表す。nは、1以上の整数を表す。) - 前記一般式(14)、(16)又は(17)において、前記置換基の分子量が240以下であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記金属が、アルカリ金属及びアルカリ土類金属から選ばれることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記金属の塩が、アルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩から選ばれることを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記アルカリ金属及びアルカリ土類金属から選ばれる金属が、リチウム、カリウム、ナトリウム、セシウム、バリウム、カルシウム又はストロンチウムであることを特徴とする請求項4に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記アルカリ金属から選ばれる金属が、セシウムであることを特徴とする請求項6に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記アルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩が、リチウム塩、カリウム塩、ナトリウム塩、セシウム塩、バリウム塩、カルシウム塩及びストロンチウム塩から選ばれることを特徴とする請求項5に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記アルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩の対アニオンが、フッ素イオンであることを特徴とする請求項5又は請求項8に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記アルカリ金属塩が、フッ化セシウムであることを特徴とする請求項9に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記電子供与性化合物が、芳香族アミン化合物、チオフェン化合物又はフルバレン化合物であることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 構成層として拡散防止層を有し、該拡散防止層が、金属又は該金属のイオンの拡散を防止又は抑制することを特徴とする請求項1から請求項11までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 燐光発光体が、含まれていることを特徴とする請求項1から請求項12までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
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