JP5686348B2 - 光誘起キャリアライフタイム測定方法、光入射効率測定方法、光誘起キャリアライフタイム測定装置、および光入射効率測定装置 - Google Patents
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Description
ただし式(2)中、rは表面反射率、nは光誘起キャリア密度、Gは光強度(フォトン1個のエネルギー)である。
1.第1実施形態「誘起キャリアライフタイム測定装置の構成例」
2.第2実施形態「光誘起キャリアライフタイム測定装置の構成の変形例」
3.第3実施形態「光誘起キャリアライフタイム測定方法の第1例」
4.第4実施形態「光誘起キャリアライフタイム測定方法の第2例」
5.第5実施形態「光誘起キャリアライフタイム測定方法の第3例」
尚、各実施形態において同一の構成要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
図1に、光誘起キャリアライフタイム測定装置および光入射効率測定装置(以下、光誘起キャリアライフタイム測定装置と記す)の概略構成を示す。この図に示す光誘起キャリアライフタイム測定装置は、以降の実施形態で説明する光誘起キャリアライフタイム測定方法および光入射効率測定方法に用いるための装置であり、次のように構成されている。
図2に、光誘起キャリアライフタイム測定装置および光入射効率測定装置(以下、光誘起キャリアライフタイム測定装置と記す)の変形例の概略構成を示す。この図に示す光誘起キャリアライフタイム測定装置が、図1で示した第1実施形態の光誘起キャリアライフタイム測定装置と異なるところは、図1で示されている導光板18に換えて、反射拡散板18’を設けた構成にあり、他の構成は同様である。
次に、光誘起キャリアライフタイム測定方法の第1例を説明する。以下の説明では、図1または図2に示す光誘起キャリアライフタイム測定装置を用いて光誘起キャリアの実効ライフタイムを測定する方法、および実効光入射効率を測定する方法を説明する。
先ず予め、光誘起キャリアライフタイム測定方法に用いるデータテーブルを、次のようにして作成する。
次に、上述の方法で求められた光誘起キャリアの実効ライフタイムから、半導体基体の実効光入射効率を求める光入射効率測定方法を説明する。
[光誘起キャリアライフタイムの測定]
上述の光誘起キャリアライフタイム測定装置を用い、本第3実施形態の光誘起キャリアライフタイム測定方法を適用して、半導体基体における光誘起キャリアの実効ライフタイムを求めた。
[光誘起キャリアライフタイムの測定および光入射効率の測定]
上述の光誘起キャリアライフタイム測定装置を用い、本第3実施形態の光誘起キャリアライフタイム測定方法を適用して、半導体基体における実効ライフタイムを求め、さらに得られた実効ライフタイムから半導体基体における実効光入射効率を求めた。
次に、光誘起キャリアライフタイム測定方法の第2例を説明する。以下の説明では、図1または図2に示す光誘起キャリアライフタイム測定装置を用いて光誘起キャリアの実効ライフタイムを測定する方法、および光入射効率を測定する方法を、図6のフローチャートを用いて説明する。
本第4実施形態で用いた式(8)は、以下のようにして導き出した。
第4実施形態で説明した測定方法で得られた光誘起キャリアの実効ライフタイムから、半導体基体の実効光入射効率を求める光入射効率測定方法は、第3実施形態において説明したと同様に行われる。
[光誘起キャリアライフタイムの測定]
上述の光誘起キャリアライフタイム測定装置を用い、本第4実施形態の光誘起キャリアライフタイム測定方法を適用して、半導体基体における光誘起キャリアの実効ライフタイムを求めた。
次に、光誘起キャリアライフタイム測定方法の第3例を説明する。ここでは、図1または図2に示す光誘起キャリアライフタイム測定装置を用いて、半導体基体における光誘起キャリアの実効ライフタイムの面分布を測定する方法を説明する。
第5実施形態で説明した測定方法で得られた光誘起キャリアの実効ライフタイムから、半導体基体の実効光入射効率を求める光入射効率測定方法は、第3実施形態において説明したと同様に行われる。
[光誘起キャリアライフタイムの測定]
図11には、半導体基体の各領域について算出した実効ライフタイムτeffの分布図を示す。測定には、9.35GHzのマイクロ波を用いた。これにより、空間分解能1cm程度の光誘起キャリアライフタイムの測定が可能であることが確認された。
Claims (11)
- 半導体基体に対して照射時間T1=非照射時間T2とした異なる各周期で光をパルス照射し、
前記各周期毎に前記非照射時間T2において前記半導体基体にマイクロ波を照射し、前記半導体基体を透過するかまたは当該半導体基体で反射した前記マイクロ波を検出し、
前記各非照射時間T2において検出したマイクロ波強度の積分値に対応する光誘起キャリア密度と、前記半導体基板に対して前記光を連続照射した場合においての光誘起キャリア密度の比を算出し、
予め用意された異なる複数の値に仮定した実効ライフタイム毎に前記照射時間T1(=非照射時間T2)と前記光誘起キャリア密度の比との関係をプロットしたデータテーブルに対して、前記各照射時間T1(=非照射時間T2)毎に算出した光励起キャリア密度の比をフィッティングさせることにより、前記半導体基体に発生した光誘起キャリアの実効ライフタイムを得る
光誘起キャリアライフタイム測定方法。 - 半導体基体に対して照射時間T1=非照射時間T2とした異なる各周期で光をパルス照射し、
前記各周期毎に前記照射時間T1および前記非照射時間T2において前記半導体基体に対して連続的にマイクロ波を照射し、前記半導体基体を透過するかまたは当該半導体基体で反射した前記マイクロ波を検出し、
前記非照射時間T2において検出したマイクロ波強度の積分値に基づく光誘起キャリア密度と、前記照射時間T1において検出したマイクロ波強度の積分値に基づく光誘起キャリア密度との比P(T)を算出し、
P(T)=0.859、P(T)=0.615となる前記照射時間T1(=非照射時間T2)をそれぞれ特定し、
下記式(8)を用いて実効ライフタイムτ eff を算出する
光誘起キャリアライフタイム測定方法。
T(P=0.859)は、キャリア密度比P(T)=0.859が得られる時間であって前記それぞれ特定した時間T1=T2の一方であり、
T(P=0.615)は、キャリア密度比P(T)=0.615が得られる時間であって前記それぞれ特定した時間T1=T2の他方である。 - 前記半導体基体の一主面を領域分けし、当該各領域に対して個別に前記マイクロ波を照射することにより、当該各領域について前記光誘起キャリアの実効ライフタイムを個別に得る
請求項1または2に記載の光誘起キャリアライフタイム測定方法。 - 前記光は、照射時間T1および非照射時間T2が、0.01msから10msの範囲内で変化する
請求項1〜3の何れかに記載の光誘起キャリアライフタイム測定方法。 - 前記光は、波長250nm以上、2500nm以下である
請求項1〜4の何れかに記載の光誘起キャリアライフタイム測定方法。 - 請求項1〜5の何れかに記載の光誘起キャリアライフタイム測定方法によって半導体基体に発生した光誘起キャリアの実効ライフタイムτeffを得た後、
下記式(2)から前記半導体基体においての光入射効率(1−r)を求める
光入射効率測定方法。
- 前記キャリア密度は、前記非照射時間T2において検出したマイクロ波強度の積分値に基づいて求められる
請求項6に記載の光入射効率測定方法。 - 試料に光誘起キャリアを発生させるための光をパルス照射する光照射光源と、
前記試料に照射するマイクロ波を発生するマイクロ波発生源と、
前記試料を透過するかまたは当該試料で反射した前記マイクロ波を検出する検出部と、
前記光の周期的な複数回のパルス照射に際しての照射時間T1および非照射時間T2と、前記検出部で検出したマイクロ波の強度の積分値とに基づいて、当該光のパルス照射によって前記試料に発生した光誘起キャリアの実効ライフタイムを算出する演算部とを備え、
前記光照射光源は、前記試料に対して照射時間T1=非照射時間T2とした異なる各周期で光をパルス照射し、
前記マイクロ波発生源は、前記各周期毎に前記非照射時間T2において前記試料にマイクロ波を照射し、
前記演算部は、前記各非照射時間T2において検出したマイクロ波強度の積分値に対応する光誘起キャリア密度と、前記試料に対して前記光を連続照射した場合においての光誘起キャリア密度の比を算出し、
予め用意された異なる複数の値に仮定した実効ライフタイム毎に前記照射時間T1(=非照射時間T2)と前記光誘起キャリア密度の比との関係をプロットしたデータテーブルに対して、前記各照射時間T1(=非照射時間T2)毎に算出した光励起キャリア密度の比をフィッティングさせることにより、前記試料に発生した光誘起キャリアの実効ライフタイムを得る
光誘起キャリアライフタイム測定装置。 - 試料に光誘起キャリアを発生させるための光をパルス照射する光照射光源と、
前記試料に照射するマイクロ波を発生するマイクロ波発生源と、
前記試料を透過するかまたは当該試料で反射した前記マイクロ波を検出する検出部と、
前記光の周期的な複数回のパルス照射に際しての照射時間T1および非照射時間T2と、前記検出部で検出したマイクロ波の強度の積分値とに基づいて、当該光のパルス照射によって前記試料に発生した光誘起キャリアの実効ライフタイムを算出する演算部とを備え、
前記光照射光源は、前記試料に対して照射時間T1=非照射時間T2とした異なる各周期で光をパルス照射し、
前記マイクロ波発生源は、前記各周期毎に前記照射時間T1および前記非照射時間T2において前記試料に対して連続的にマイクロ波を照射し、
前記演算部は、前記非照射時間T2において検出したマイクロ波強度の積分値に基づく光誘起キャリア密度と、前記照射時間T1において検出したマイクロ波強度の積分値に基づく光誘起キャリア密度との比P(T)を算出し、
P(T)=0.859、P(T)=0.615となる前記照射時間T1(=非照射時間T2)をそれぞれ特定し、
下記式(8)を用いて実効ライフタイムτ eff を算出する
光誘起キャリアライフタイム測定装置。
T(P=0.859)は、キャリア密度比P(T)=0.859が得られる時間であって前記それぞれ特定した時間T1=T2の一方であり、
T(P=0.615)は、キャリア密度比P(T)=0.615が得られる時間であって前記それぞれ特定した時間T1=T2の他方である。 - 前記マイクロ波発生源から発生したマイクロ波を、前記試料の一主面を領域分けした各領域に対して選択的に照射するための位置合わせ手段を備えた
請求項8または9に記載の光誘起キャリアライフタイム測定装置。 - 請求項8〜10の何れかに記載の光誘起キャリアライフタイム測定装置を用いた光入射効率測定装置であって、
前記演算部は、算出した前記実効ライフタイムτ eff に基づいて、下記式(2)から前記試料においての光入射効率(1−r)を求める
光入射効率測定装置。
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