JPH102859A - プラズマモニタリング方法 - Google Patents
プラズマモニタリング方法Info
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- JPH102859A JPH102859A JP15784496A JP15784496A JPH102859A JP H102859 A JPH102859 A JP H102859A JP 15784496 A JP15784496 A JP 15784496A JP 15784496 A JP15784496 A JP 15784496A JP H102859 A JPH102859 A JP H102859A
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- plasma
- generation chamber
- plasma generation
- laser
- laser light
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 プラズマ生成装置において、レーザ誘起蛍光
法を用いてプラズマの空間分布計測あるいは相対定量計
測を行う方法を提供する。 【解決手段】 プラズマ生成室１に生成するプラズマ５
に対して光学窓１１、１５を介してレーザ光９を照射す
る。このときミラー１５、１６を用いてレーザ光９がプ
ラズマ５の水平方向、垂直方向に異なる部分を通過する
構成とする。このときレーザ光により誘起されプラズマ
１７ａ，１７ｂから発せられる発光１８を光学窓１２を
介して２次元ＣＣＤカメラ１４で受ける。このときの２
次元イメージにはレーザ光の通過した各部分に対応する
蛍光が同時に撮影される。このような構成を用いればプ
ラズマ中の空間的に異なる部分の状態を同時にモニタリ
ングすることができる。
法を用いてプラズマの空間分布計測あるいは相対定量計
測を行う方法を提供する。 【解決手段】 プラズマ生成室１に生成するプラズマ５
に対して光学窓１１、１５を介してレーザ光９を照射す
る。このときミラー１５、１６を用いてレーザ光９がプ
ラズマ５の水平方向、垂直方向に異なる部分を通過する
構成とする。このときレーザ光により誘起されプラズマ
１７ａ，１７ｂから発せられる発光１８を光学窓１２を
介して２次元ＣＣＤカメラ１４で受ける。このときの２
次元イメージにはレーザ光の通過した各部分に対応する
蛍光が同時に撮影される。このような構成を用いればプ
ラズマ中の空間的に異なる部分の状態を同時にモニタリ
ングすることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマ発生装置
のモニタリングに関するものであり、特にレーザ誘起蛍
光法を利用してプラズマ状態をモニタリングする手法に
関するものである。
のモニタリングに関するものであり、特にレーザ誘起蛍
光法を利用してプラズマ状態をモニタリングする手法に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】現在、半導体や液晶デバイスの製造プロ
セスにおいては、薄膜作製、ドーピング、ドライエッチ
ングなど、高周波プラズマを用いた基板の表面処理が広
範囲に行われてきている。これに伴い、プラズマプロセ
スに対する要求は日々高度化しており、各種プラズマ診
断法を用いたプラズマの解析と制御の取り組みが行われ
きた。もし簡便で本質的な手法を確立することができれ
ば、生産装置においてもプラズマのモニタリング・フィ
ードバック制御を行うことが可能となる。
セスにおいては、薄膜作製、ドーピング、ドライエッチ
ングなど、高周波プラズマを用いた基板の表面処理が広
範囲に行われてきている。これに伴い、プラズマプロセ
スに対する要求は日々高度化しており、各種プラズマ診
断法を用いたプラズマの解析と制御の取り組みが行われ
きた。もし簡便で本質的な手法を確立することができれ
ば、生産装置においてもプラズマのモニタリング・フィ
ードバック制御を行うことが可能となる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】プラズマ診断法には種
々の方法があるが、光学的手法は非接触でプラズマ自体
に擾乱を与えることが少なく、プラズマ中の本質的な種
を検出できればモニタリング法としては理想的である。
これまでもプラズマの発光分光法は、プラズマ診断研究
に必須の手法として用いられる他、エッチンッグの終点
検出の目的で簡便な形で用いられてきた。
々の方法があるが、光学的手法は非接触でプラズマ自体
に擾乱を与えることが少なく、プラズマ中の本質的な種
を検出できればモニタリング法としては理想的である。
これまでもプラズマの発光分光法は、プラズマ診断研究
に必須の手法として用いられる他、エッチンッグの終点
検出の目的で簡便な形で用いられてきた。
【０００４】しかしながら、プラズマ発光分光で検出で
きるプラズマ中の種には限りがあり、重要なラジカル種
の検出には、上記のプラズマ発光分光に対してレーザ誘
起蛍光法が用いられているものの、このレーザ誘起蛍光
法はあまり一般的ではない。上記のレーザ誘起蛍光法と
は、ラジカル種に特有の波長のレーザでプラズマを励起
し、ラジカルが励起状態から基底状態に遷移する際に放
出される発光を検出するというものである。そして、こ
のレーザ誘起蛍光法は、比較的高出力の短波長レーザを
必要とするなど取り扱い難い面があったが、近年高出力
の色素レーザや高感度の２次元ＣＣＤカメラが開発され
るに及んで機能性は遥かに向上している。
きるプラズマ中の種には限りがあり、重要なラジカル種
の検出には、上記のプラズマ発光分光に対してレーザ誘
起蛍光法が用いられているものの、このレーザ誘起蛍光
法はあまり一般的ではない。上記のレーザ誘起蛍光法と
は、ラジカル種に特有の波長のレーザでプラズマを励起
し、ラジカルが励起状態から基底状態に遷移する際に放
出される発光を検出するというものである。そして、こ
のレーザ誘起蛍光法は、比較的高出力の短波長レーザを
必要とするなど取り扱い難い面があったが、近年高出力
の色素レーザや高感度の２次元ＣＣＤカメラが開発され
るに及んで機能性は遥かに向上している。
【０００５】このレーザ誘起蛍光法の特徴について更に
説明すると、レーザ誘起蛍光法は、プラズマ中のレーザ
が通過した領域からの発光を検出するもので、基本的に
空間分解能は高く、レーザ光照射領域を動かすことでプ
ラズマ状態の空間分布計測を行うことが基本的に可能で
ある。また、その発光強度はラジカル種の密度と密接に
関連しており、定量性を高めるには、レーザパルスの１
ショット毎の出力、さらには絶対強度の既知な系からの
参照信号をモニタリングすることで相対定量を行うこと
が可能となるというものである。
説明すると、レーザ誘起蛍光法は、プラズマ中のレーザ
が通過した領域からの発光を検出するもので、基本的に
空間分解能は高く、レーザ光照射領域を動かすことでプ
ラズマ状態の空間分布計測を行うことが基本的に可能で
ある。また、その発光強度はラジカル種の密度と密接に
関連しており、定量性を高めるには、レーザパルスの１
ショット毎の出力、さらには絶対強度の既知な系からの
参照信号をモニタリングすることで相対定量を行うこと
が可能となるというものである。
【０００６】しかしながら、上記のレーザ誘起蛍光法
は、レーザパルスの１ショット毎の出力の変動が存在す
るという根本的な課題を有している。
は、レーザパルスの１ショット毎の出力の変動が存在す
るという根本的な課題を有している。
【０００７】従って、プラズマの存在するチャンバー内
のラジカル密度を３次元的に（局所的な分布として）分
析する（空間分布計測機能）場合には、複数のショット
のレーザを照射してもそれらを単に比較すると、誤差が
生じてしまい、正確で３次元的なプラズマモニターを行
うことは困難である。
のラジカル密度を３次元的に（局所的な分布として）分
析する（空間分布計測機能）場合には、複数のショット
のレーザを照射してもそれらを単に比較すると、誤差が
生じてしまい、正確で３次元的なプラズマモニターを行
うことは困難である。
【０００８】また、プラズマ状態が一体どのようになっ
ているかを知るためには、その基準となるリファレンス
が必要となる（相対定量機能）わけであるが、この場合
においても、やはり複数ショットのレーザの照射が必要
となり、やはり正確にプラズマをモニターすることは困
難である。
ているかを知るためには、その基準となるリファレンス
が必要となる（相対定量機能）わけであるが、この場合
においても、やはり複数ショットのレーザの照射が必要
となり、やはり正確にプラズマをモニターすることは困
難である。
【０００９】そこで本発明は、上記問題点に鑑み、プラ
ズマの発生している空間内のプラズマ分布を局所的に正
確に計測できること（空間分布計測機能の向上）、及び
相対定量機能の向上を実現できるプラズマモニタリング
方法を提供することを目的とする。
ズマの発生している空間内のプラズマ分布を局所的に正
確に計測できること（空間分布計測機能の向上）、及び
相対定量機能の向上を実現できるプラズマモニタリング
方法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は上記の目的を達
成するために、本発明は、励起用のレーザパルス光をプ
ラズマ生成室を通過させたのち反射させることによりプ
ラズマ生成室中の異なる領域、あるいはプラズマ生成室
以外の領域を通過させる構成となっている。
成するために、本発明は、励起用のレーザパルス光をプ
ラズマ生成室を通過させたのち反射させることによりプ
ラズマ生成室中の異なる領域、あるいはプラズマ生成室
以外の領域を通過させる構成となっている。
【００１１】そして、プラズマ中の比較すべき２つの領
域に、または、プラズマ中の領域と参照すべき系の領域
に１つのレーザパルスを連続して通過させることでそれ
ぞれ空間分布計測、相対定量計測を行うために比較すべ
き領域からの発光を、２次元のイメージとして、同時に
区別して捉える構成によりモニタリングの機能性を高め
るというものである。
域に、または、プラズマ中の領域と参照すべき系の領域
に１つのレーザパルスを連続して通過させることでそれ
ぞれ空間分布計測、相対定量計測を行うために比較すべ
き領域からの発光を、２次元のイメージとして、同時に
区別して捉える構成によりモニタリングの機能性を高め
るというものである。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下では本発明の実施の形態にお
けるプラズマモリタリング方法について図面を参照しな
がら説明する。
けるプラズマモリタリング方法について図面を参照しな
がら説明する。
【００１３】そこでまず図１に、本発明の実施の形態に
おけるプラズマ発生装置とレーザ誘起蛍光計測システム
の構成図を示す。図１に示すように、本実施の形態にお
ける装置は、高周波電界によりプラズマを生成するプラ
ズマ生成室１を有し、高周波電界が高周波電源２よりマ
ッチング回路３を経て、マルチスパイラルコイル電極４
に印加される、誘導結合方式のプラズマ生成装置であ
る。
おけるプラズマ発生装置とレーザ誘起蛍光計測システム
の構成図を示す。図１に示すように、本実施の形態にお
ける装置は、高周波電界によりプラズマを生成するプラ
ズマ生成室１を有し、高周波電界が高周波電源２よりマ
ッチング回路３を経て、マルチスパイラルコイル電極４
に印加される、誘導結合方式のプラズマ生成装置であ
る。
【００１４】本実施の形態においては、放電ガスとして
ＣＦ4を５０ｓｃｃｍ、５Ｐａ流し、プラズマ５を発生
させるものとし、このうちレーザ誘起蛍光法（以下、Ｌ
ＩＦ法）による検出が可能で重要なラジカルであるＣＦ
またはＣＦ２ラジカルを対象とするものとする。
ＣＦ4を５０ｓｃｃｍ、５Ｐａ流し、プラズマ５を発生
させるものとし、このうちレーザ誘起蛍光法（以下、Ｌ
ＩＦ法）による検出が可能で重要なラジカルであるＣＦ
またはＣＦ２ラジカルを対象とするものとする。
【００１５】本実施の形態のＬＩＦ計測システムにおい
ては、エキシマレーザ６で波長可変の色素レーザ７を励
起し、さらに第２高調波発生器８により発生させた、紫
外域のパルスレーザ光９をプラズマ生成室１に設けられ
た光学窓１１に垂直に入射させるものとする。上記のよ
うに入射したパルスレーザ光８はプラズマ５中を伝搬し
光学窓１２より放出されるが、このときパルスレーザ光
８の波長に対応して、プラズマ５中の通過領域に存在す
るラジカルが励起されその緩和過程において発光が生じ
る。このうち光学窓１２より放出される発光１３をＣＣ
Ｄカメラ１４で２次元イメージとして捉える。図中のシ
ーケンサ１５およびコンピュータ１６は、パルスレーザ
光９とＣＣＤカメラ１４の駆動タイミングならびにデー
タ処理をつかさどるものである。
ては、エキシマレーザ６で波長可変の色素レーザ７を励
起し、さらに第２高調波発生器８により発生させた、紫
外域のパルスレーザ光９をプラズマ生成室１に設けられ
た光学窓１１に垂直に入射させるものとする。上記のよ
うに入射したパルスレーザ光８はプラズマ５中を伝搬し
光学窓１２より放出されるが、このときパルスレーザ光
８の波長に対応して、プラズマ５中の通過領域に存在す
るラジカルが励起されその緩和過程において発光が生じ
る。このうち光学窓１２より放出される発光１３をＣＣ
Ｄカメラ１４で２次元イメージとして捉える。図中のシ
ーケンサ１５およびコンピュータ１６は、パルスレーザ
光９とＣＣＤカメラ１４の駆動タイミングならびにデー
タ処理をつかさどるものである。
【００１６】本実施の形態においては、エキシマレーザ
の媒質にＸｅＣｌを、色素としてクマリン４７を用い、
ＣＦ、ＣＦ2ラジカル励起用としてそれぞれ２３２．６
ｎｍ、２３４．２ｎｍのパルスレーザ光９を発生させ
た。通常のＬＩＦ計測方法は以上のとおりで、プラズマ
状態の空間分布、すなわちラジカル密度の空間分布を計
測するには、パルスレーザ光９の光学窓１２に対する入
射位置を変えるごとにＣＣＤカメラ１４による計測を繰
り返す必要があり、上記したように、パルスレーザ光９
のパルス毎の変動が問題になる。
の媒質にＸｅＣｌを、色素としてクマリン４７を用い、
ＣＦ、ＣＦ2ラジカル励起用としてそれぞれ２３２．６
ｎｍ、２３４．２ｎｍのパルスレーザ光９を発生させ
た。通常のＬＩＦ計測方法は以上のとおりで、プラズマ
状態の空間分布、すなわちラジカル密度の空間分布を計
測するには、パルスレーザ光９の光学窓１２に対する入
射位置を変えるごとにＣＣＤカメラ１４による計測を繰
り返す必要があり、上記したように、パルスレーザ光９
のパルス毎の変動が問題になる。
【００１７】そこで本発明においては、図２の光学系の
一実施の形態に示すように、光学窓１１より出射したパ
ルスレーザ光９をミラー１５、１６を用いて反転させ光
学窓１１よりプラズマ５中に再度入射させる。これによ
りプラズマ５中の異なる通過領域１７ａ、１７ｂより発
光１８ａ、１８ｂが生じ、これらが紙面に対して垂直方
向にずれるようミラー１５、１６を配置すれば、ＣＣＤ
カメラ１４には、図３の２次元イメージの一実施の形態
に示すようにそれぞれの通過領域に対応した発光のイメ
ージが計測される。これらを区別してデータ処理すれば
パルスレーザ光９のパルス毎の変動によらないプラズマ
中のラジカル密度の空間分布に対応した指標が得られる
ことになる。
一実施の形態に示すように、光学窓１１より出射したパ
ルスレーザ光９をミラー１５、１６を用いて反転させ光
学窓１１よりプラズマ５中に再度入射させる。これによ
りプラズマ５中の異なる通過領域１７ａ、１７ｂより発
光１８ａ、１８ｂが生じ、これらが紙面に対して垂直方
向にずれるようミラー１５、１６を配置すれば、ＣＣＤ
カメラ１４には、図３の２次元イメージの一実施の形態
に示すようにそれぞれの通過領域に対応した発光のイメ
ージが計測される。これらを区別してデータ処理すれば
パルスレーザ光９のパルス毎の変動によらないプラズマ
中のラジカル密度の空間分布に対応した指標が得られる
ことになる。
【００１８】すなわち、図２に示す本実施の形態によれ
ば、一旦プラズマ生成室内に入射したレーザを反射させ
て再びプラズマ生成室内に導入しているため、１ショッ
トのレーザを用いて複数箇所のプラズマをモニターする
ことができ、結果として正確で３次元的（空間的）なプ
ラズマのモニターを達成することができる。
ば、一旦プラズマ生成室内に入射したレーザを反射させ
て再びプラズマ生成室内に導入しているため、１ショッ
トのレーザを用いて複数箇所のプラズマをモニターする
ことができ、結果として正確で３次元的（空間的）なプ
ラズマのモニターを達成することができる。
【００１９】上記の図２に示した実施の形態において
は、プラズマ生成室内を通過するレーザ光の奇跡を含む
面は、光検出手段であるＣＣＤからプラズマ生成室内を
見た方向に対して垂直にすることが望ましい。というの
は、レーザ光が反射してＣＣＤにレーザの反射光が入射
するのを防止できるためである。
は、プラズマ生成室内を通過するレーザ光の奇跡を含む
面は、光検出手段であるＣＣＤからプラズマ生成室内を
見た方向に対して垂直にすることが望ましい。というの
は、レーザ光が反射してＣＣＤにレーザの反射光が入射
するのを防止できるためである。
【００２０】さらに図２に示したものと類似の構成を用
いて、相対定量計測を行う場合について説明する。図４
の光学系の一実施の形態に示すように、光学窓１１より
出射したパルスレーザ光９をミラー１５、１６を用いて
反転させプラズマ生成室１外に設けた参照セル１９に入
射させる。これによりプラズマ５中の通過領域２０ａと
参照セル１９中の通過領域、２０ｂより発光２１ａ、２
１ｂが生じ、これらが紙面に対して垂直方向にずれるよ
うミラー１５、１６を配置すれば、ＣＣＤカメラ１４に
は、図５の２次元イメージの一実施の形態に示すように
それぞれの通過領域に対応した発光のイメージが計測さ
れる。これらを区別してデータ処理すればパルスレーザ
光９のパルス毎の変動によらないプラズマ中のラジカル
密度の参照セルに対する相対的な強度に対応した指標が
得られることになる。参照セル１９に入れるガスとして
は、ＮＯ、ＣＯなどのガスを用いることができ、レーザ
誘起蛍光現象のほかレーリー散乱現象も用いることがで
きる。
いて、相対定量計測を行う場合について説明する。図４
の光学系の一実施の形態に示すように、光学窓１１より
出射したパルスレーザ光９をミラー１５、１６を用いて
反転させプラズマ生成室１外に設けた参照セル１９に入
射させる。これによりプラズマ５中の通過領域２０ａと
参照セル１９中の通過領域、２０ｂより発光２１ａ、２
１ｂが生じ、これらが紙面に対して垂直方向にずれるよ
うミラー１５、１６を配置すれば、ＣＣＤカメラ１４に
は、図５の２次元イメージの一実施の形態に示すように
それぞれの通過領域に対応した発光のイメージが計測さ
れる。これらを区別してデータ処理すればパルスレーザ
光９のパルス毎の変動によらないプラズマ中のラジカル
密度の参照セルに対する相対的な強度に対応した指標が
得られることになる。参照セル１９に入れるガスとして
は、ＮＯ、ＣＯなどのガスを用いることができ、レーザ
誘起蛍光現象のほかレーリー散乱現象も用いることがで
きる。
【００２１】すなわち、図４に示す本実施の形態によれ
ば、上記の図２に示した場合と同様に、一旦プラズマ生
成室内に入射したレーザを反射させて再びプラズマ生成
室内に導入しているため、１ショットのレーザを用いて
複数箇所のプラズマをモニターすることができ、結果と
して正確で３次元的（空間的）なプラズマのモニターを
達成することができる。
ば、上記の図２に示した場合と同様に、一旦プラズマ生
成室内に入射したレーザを反射させて再びプラズマ生成
室内に導入しているため、１ショットのレーザを用いて
複数箇所のプラズマをモニターすることができ、結果と
して正確で３次元的（空間的）なプラズマのモニターを
達成することができる。
【００２２】なお、上記の図４に示した場合において
も、図２の場合と同様に、プラズマ生成室内を通過する
レーザ光の奇跡を含む面は、光学分析器であるＣＣＤか
らプラズマ生成室内を見た方向に対して垂直にすること
が望ましい。
も、図２の場合と同様に、プラズマ生成室内を通過する
レーザ光の奇跡を含む面は、光学分析器であるＣＣＤか
らプラズマ生成室内を見た方向に対して垂直にすること
が望ましい。
【００２３】また上記の例では、図２においてはラジカ
ル密度の空間分布に対応した指標を正確に得ており、一
方図４においてはプラズマ中のラジカル密度の参照セル
に対する相対的な強度に対応した指標を正確に得ている
わけであるが、実際にプラズマを用いて加工を行う際に
は、まず図４に示すように、プラズマの相対定量計測を
行った後、図２に示すように、プラズマの３次元的な計
測を行うことが最も正確にプラズマ加工を行うには適し
ている。
ル密度の空間分布に対応した指標を正確に得ており、一
方図４においてはプラズマ中のラジカル密度の参照セル
に対する相対的な強度に対応した指標を正確に得ている
わけであるが、実際にプラズマを用いて加工を行う際に
は、まず図４に示すように、プラズマの相対定量計測を
行った後、図２に示すように、プラズマの３次元的な計
測を行うことが最も正確にプラズマ加工を行うには適し
ている。
【００２４】以上のように２次元ＣＣＤカメラ（２次元
の光検出手段）を駆使し、レーザパルスの通過領域を工
夫することで空間分布計測、相対定量計測を行うために
比較すべき領域からの発光を、同時に区別して捉える構
成によりモニタリングの機能性を高めることができる。
の光検出手段）を駆使し、レーザパルスの通過領域を工
夫することで空間分布計測、相対定量計測を行うために
比較すべき領域からの発光を、同時に区別して捉える構
成によりモニタリングの機能性を高めることができる。
【００２５】
【発明の効果】本発明のプラズマモニタリング方法によ
れば、プラズマ中の重要なラジカル種の空間分布あるい
は相対定量密度を安定に精度良く簡便に計測することが
でき、プラズマ診断研究のみならずプラズマのモニタリ
ング・フィードバック制御に用いることができる効果が
ある。
れば、プラズマ中の重要なラジカル種の空間分布あるい
は相対定量密度を安定に精度良く簡便に計測することが
でき、プラズマ診断研究のみならずプラズマのモニタリ
ング・フィードバック制御に用いることができる効果が
ある。
【図１】本発明の実施の形態におけるプラズマ発生装置
とレーザ誘起蛍光計測システムの構成図
とレーザ誘起蛍光計測システムの構成図
【図２】本発明の実施の形態におけるプラズマモニター
装置の光学系の構成図
装置の光学系の構成図
【図３】本発明の実施の形態におけるレーザ誘起蛍光の
２次元イメージを示す図
２次元イメージを示す図
【図４】本発明の実施の形態におけるプラズマモニター
装置の光学系の構成図
装置の光学系の構成図
【図５】本発明の実施の形態におけるレーザ誘起蛍光の
２次元イメージを示す図
２次元イメージを示す図
１ プラズマ生成室 ２ 高周波電源 ３ マッチング回路 ４ マルチスパイラルコイル電極 ５ プラズマ ６ エキシマレーザ ７ 色素レーザ ８ 第２高調波発生器 ９ パルスレーザ光 １０ 光学窓 １１ 光学窓 １２ 光学窓 １３ 発光 １４ ＣＣＤカメラ １５ シーケンサ １６ コンピュータ １７ａ 通過領域 １７ｂ 通過領域 １８ａ 発光 １８ｂ 発光 １９ 参照セル ２０ａ 通過領域 ２０ｂ 通過領域 ２１ａ 発光 ２１ｂ 発光
Claims (5)
- 【請求項１】プラズマ生成室内のプラズマの状態をレー
ザ誘起蛍光法を用いてモニタリングするプラズマモニタ
リング方法であって、前記プラズマ生成室内に入射する
レーザ光をプラズマ生成室を通過させた後、前記レーザ
光を反射させて前記プラズマ生成室内の異なる領域を通
過させ、前記プラズマ生成室内の前記レーザ光の通過し
た各領域からの発光強度を同時に区別してモニタリング
することを特徴とするプラズマモニタリング方法。 - 【請求項２】プラズマ生成室内のプラズマの状態をレー
ザ誘起蛍光法を用いてモニタリングするプラズマモニタ
リング方法であって、前記プラズマ生成室内に入射する
レーザ光をプラズマ生成室を通過させた後、前記レーザ
光を反射させて前記プラズマ生成室外の領域を通過さ
せ、前記プラズマ生成室内の前記レーザ光の通過した領
域及び前記プラズマ生成室外の前記レーザ光の通過した
領域からの発光強度を同時に区別してモニタリングする
ことを特徴とするプラズマモニタリング方法。 - 【請求項３】プラズマ生成室以外の領域として特定のガ
スを満たしたセルにレーザ光を通過させることを特徴と
するからなる請求項２記載のプラズマモニタリング方
法。 - 【請求項４】レーザ光の奇跡を含む面がレーザ光を計測
する光検出手段から見て垂直であることを特徴とする請
求項１〜３いずれかに記載のプラズマモニタリング方
法。 - 【請求項５】プラズマ生成室内のプラズマの状態をレー
ザ誘起蛍光法を用いてモニタリングするプラズマモニタ
リング方法であって、前記プラズマ生成室内に入射する
レーザ光をプラズマ生成室を通過させた後、前記レーザ
光を反射させて前記プラズマ生成室外の領域を通過さ
せ、前記プラズマ生成室内の前記レーザ光の通過した領
域及び前記プラズマ生成室外の前記レーザ光の通過した
領域からの発光強度を同時に区別してモニタリングする
第１の工程と、前記第１の工程の後、前記プラズマ生成
室内に入射するレーザ光をプラズマ生成室を通過させた
後、前記レーザ光を反射させて前記プラズマ生成室内の
異なる領域を通過させ、前記プラズマ生成室内の前記レ
ーザ光の通過した各領域からの発光強度を同時に区別し
てモニタリングする第２の工程とを有するプラズマモニ
タリング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15784496A JPH102859A (ja) | 1996-06-19 | 1996-06-19 | プラズマモニタリング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15784496A JPH102859A (ja) | 1996-06-19 | 1996-06-19 | プラズマモニタリング方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH102859A true JPH102859A (ja) | 1998-01-06 |
Family
ID=15658596
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15784496A Pending JPH102859A (ja) | 1996-06-19 | 1996-06-19 | プラズマモニタリング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH102859A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006070564A1 (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | プラズマ処理装置 |
| KR100860473B1 (ko) * | 2007-04-18 | 2008-09-26 | 에스엔유 프리시젼 주식회사 | 플라즈마 모니터링장치 |
| JP2011009546A (ja) * | 2009-06-26 | 2011-01-13 | Toppan Printing Co Ltd | 終点検出装置、ドライエッチング装置及びドライエッチング方法 |
| CN104897632A (zh) * | 2015-06-01 | 2015-09-09 | 哈尔滨工业大学 | 一种基于扫描式平面激光诱导荧光成像系统测量瞬态燃烧场oh基浓度三维空间分布的方法 |
-
1996
- 1996-06-19 JP JP15784496A patent/JPH102859A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006070564A1 (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | プラズマ処理装置 |
| KR100860473B1 (ko) * | 2007-04-18 | 2008-09-26 | 에스엔유 프리시젼 주식회사 | 플라즈마 모니터링장치 |
| WO2008130118A1 (en) * | 2007-04-18 | 2008-10-30 | Snu Precision Co., Ltd. | Plasma monitoring device and method |
| US8416293B2 (en) | 2007-04-18 | 2013-04-09 | Snu Precision Co. Ltd. | Plasma monitoring device and method |
| JP2011009546A (ja) * | 2009-06-26 | 2011-01-13 | Toppan Printing Co Ltd | 終点検出装置、ドライエッチング装置及びドライエッチング方法 |
| CN104897632A (zh) * | 2015-06-01 | 2015-09-09 | 哈尔滨工业大学 | 一种基于扫描式平面激光诱导荧光成像系统测量瞬态燃烧场oh基浓度三维空间分布的方法 |
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