JP5657197B2 - 酸化チタン系粒子およびその製造方法 - Google Patents
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Description
また、特許文献1に記載の方法では、球状の酸化チタン系粒子が得られるものの、所望の低屈折率の酸化チタン粒子が得られない場合や、粒子径が小さい場合、得られる酸化チタン粒子が凝集していたり、均一な被覆層を形成することが困難であったりするなど、問題点があった。
[1]シリカ系中空微粒子と、中空微粒子表面の酸化チタン被覆層とからなり、
平均粒子径が5〜100nmの範囲にあり、
屈折率が1.30〜2.00の範囲にあることを特徴とする酸化チタン系粒子。
[2]前記シリカ系中空微粒子の平均粒子径が3〜100nmの範囲にあり、屈折率が1.
15〜1.40の範囲にある[1]の酸化チタン系粒子。
[3]前記酸化チタン被覆層の平均厚さが0.1〜20nmの範囲にある(ただし、被覆層
の厚さは平均粒子径の1/2を越えない)[1]または[2]の酸化チタン系粒子。
球状係数=(DS)/(DL)・・・・・・(1)
(但し、(DL)は平均粒子最長径、(DS)は最長径の中点で最長径と直交する平均短径)
[5]前記酸化チタン被覆層がアナタース型、ルチル型またはブルッカイト型から選ばれる
1種以上の酸化チタンである[1]〜[4]の酸化チタン粒子。
Rn-SiX4-n (1)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン、水素、n:0〜3の整数)
[7]下記の工程(a)〜(c)からなる酸化チタン系粒子の製造方法。
(a)シリカ系中空微粒子分散液に、チタン化合物水溶液またはチタン化合物水溶液と酸またはアルカリを加えながら加水分解し、シリカ系中空微粒子表面にチタン化合物加水分解物を析出させる工程。
(b)チタン化合物加水分解物を表面に析出させたシリカ系中空微粒子分散液に、過酸化水素のH2O2としてのモル数(MHP)とチタン化合物加水分解物のTiO2としてのモル数(MTi)とのモル比(MHP)/(MTi)が2〜50の範囲となるように過酸化水素水を加える工程。
(c)分散液を80〜350℃で水熱処理する工程。
(ab)シリカ系中空微粒子分散液に、ペルオキソチタン酸水溶液を加える工程。
(c)分散液を80〜350℃で水熱処理する工程。
[9]前記工程(c)の後、下記の工程(d)を行う[6]または[7]の酸化チタン系粒子の製造方法。
(d)pH7.5〜13.5に調整した分散液を80〜350℃で水熱処理する工程。
[10]平均粒子径が5〜500nmの範囲にあり、屈折率が1.3〜2.0の範囲にある[6]〜[8]の酸化チタン系粒子の製造方法。
30〜2.00の範囲にある低屈折率の酸化チタン系粒子およびその製造方法を提供することができる。
[酸化チタン系粒子]
本発明に係る酸化チタン系粒子は、酸化チタンでシリカ系中空微粒子を被覆してなり、平均粒子径が5〜500nmの範囲にあり、屈折率が1.30〜2.00の範囲にあることを特徴としている。なお、本発明の「酸化チタン系」とは、酸化チタン単独物からなるものではなく、シリカ成分を含むものである。
本発明に用いるシリカ系中空微粒子は、平均粒子径が3〜100nm、さらには5〜80nmの範囲にあることが好ましい。
本発明で使用されるシリカ系中空微粒子の屈折率は、1.15〜1.40にあり、好ましくは1.15〜1.35の範囲にある。この屈折率の範囲にあるシリカ系中空微粒子を使用すると所望の低屈折率酸化チタン系粒子を調製できる。前記範囲の下限未満の屈折率を有するシリカ系中空微粒子は得ること自体が困難であり、前記範囲を越える屈折率を有するものは、シリカ系中空微粒子を使用する意義が乏しく、あるいは実質的にシリカ系中実微粒子であり、所望の屈折率の低い酸化チタン系粒子を得ることが困難となる。
シリカ系中空微粒子の形状は通常、球状形状のものが使用される。この球状形状は、後述する球状係数が0.5〜1の範囲にあるものが好ましく、この球状係数は、後述する酸化チタン被覆層を形成しても維持されるか、さらに球状度が向上する場合がある。なお後述する製造方法以外の方法では、凝集したり、表面に選択的に酸化チタンが析出せず、別途に酸化チタン微粒子が生成することがある。
本発明では前記シリカ系中空微粒子表面に酸化チタンからなる酸化チタン被覆層が形成されている。酸化チタン被覆層の平均厚さは、0.1〜100nm、好ましくは0.5〜15nmの範囲にあることが望ましい。
酸化チタン被覆層の平均厚さが薄い場合、光触媒活性、紫外線遮蔽効果が不充分となる場合があり、酸化チタン被覆層の平均厚さが厚すぎると、シリカ系中空微粒子の平均粒子径が小さい場合に、得られる粒子の屈折率が充分低くならず、また、酸化チタン被覆層を厚くなると、被覆層とは別に、酸化チタンからのなる微細な粒子が生成し、被覆層の形成にあたらない粒子が増えることがある。
このような被覆層の形成方法は、後述する製造方法に示されるとおりである。
本発明の酸化チタン系粒子の平均粒子径は5〜100nm、さらには10〜80nmの範囲にあることが好ましい。
本発明では、シリカ系中空微粒子および酸化チタン系粒子の屈折率は下記の方法によって測定する。
(2)これを120℃で乾燥し、粉末とする。
(3)屈折率が既知の標準屈折液を2、3滴ガラス板上に滴下し、これに上記粉末を混合する。
(4)上記(3)の操作を種々の標準屈折液で行い、混合液が透明になったときの標準屈折液の屈折率を粒子の屈折率とする。
本発明に係る酸化チタン系粒子は、下記式(1)で表される球状係数が0.5〜1、好ま
しくは0.7〜1の範囲にあることが望ましい。
球状係数=(DS)/(DL)・・・・・・(1)
(但し、(DL)は平均粒子最長径、(DS)は最長径の中点で最長径と直交する平均短径)
酸化チタン系粒子の球状係数が1を越えることはなく、酸化チタン系粒子の球状係数が0.5未満の場合は、従来公知の方法で得られるアスペクト比が概ね2以上の棒状の酸化チタン系粒子と同様、フィラー等として用いると基材との密着性が不十分であったり、粒子が細密充填しないために膜の強度が不十分となったり、光触媒性能が不十分となることがあり、さらに、化粧料に用いた場合、感触に異物感を伴う場合がある。
また、本発明に用いるシリカ系中空微粒子の平均粒子径は、電子顕微鏡写真を撮影し、100個の粒子について粒子径を測定し、その平均値として求めることができる。
35kV、12.5mA)により同定することができる。
水分解物で表面処理されていることが好ましい。
Rn-SiX4-n (1)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン、水素、n:0〜3の整数)
ロピルジメトキシシラン、β−(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリエキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシドキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリエキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメ
トキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエ
トキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラオクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、3-ウレイドイソプロピルプロピルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ-アミノプロピル
メチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、トリメチルシラノール、メチルトリクロロシラン、等が挙げられる。
酸化チタン系粒子と有機珪素化合物との量比(有機珪素化合物の固形分としての重量/酸化チタン系粒子の重量)は酸化チタン系粒子の平均粒子径によっても異なるが概ね1.0以下、好ましくは0.3以下の範囲にあることが望ましい。
このような本発明に係る酸化チタン系粒子は以下の製造方法で作製することができる。
まず、本発明に係る第1の酸化チタン系粒子の製造方法について説明する。
(a)シリカ系中空微粒子分散液に、チタン化合物水溶液またはチタン化合物水溶液と酸またはアルカリを加えながら加水分解し、シリカ系中空微粒子表面にチタン化合物加水分解物を析出させる工程。
(b)チタン化合物加水分解物を表面に析出させたシリカ系中空微粒子分散液に過酸化水素水を加える工程。
(c)分散液を80〜350℃で水熱処理する工程。
シリカ系中空微粒子は前記した通りである。
チタン化合物としては、水溶性であれば特に制限はなく、具体的には4塩化チタン、3塩化チタン、硫酸チタン、硫酸チタニル、水素化チタン等があげられる。さらに、チタンアルコキシドあるいはこれらの部分加水分解物を用いることもできる。またチタンアルコ
キシドとしては、Ti(OR)4(R:炭化水素基)で表されるチタンアルコキシドが好適に用いられ、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、テトラ(2−エチルヘキシル)チタネート等が挙げられる。チタンアルコキシドはそのまま用いてもよく、アルコール溶液として用いることもできる。
にあることが望ましい。このとき、チタン化合物の濃度は固形分として0.05〜30重量%、さらには0.1〜20重量%の範囲にあることが好ましい。該固形分濃度が低いと過大な容器を必要とすることに加えて生産効率が低下し、固形分濃度が高すぎると加水分解した際に、加水分解が不均一になったり、ゲルの粘度が高くなり、ゲルの扱いが容易でなく、必要に応じて洗浄する際に洗浄が困難になることがある。酸化チタン被覆層を厚くしたければ、前記範囲で、チタン化合物の量を増やせばよく、薄くしたければ、前記範囲でチタン化合物の量を減らせばよい。
本発明では、加水分解した後、必要に応じて洗浄することができる。洗浄方法としてはチタン化合物加水分解物を表面に析出させたシリカ系中空微粒子中の不純物イオンを低減できれば特に制限はなく従来公知の方法を採用することができる。例えば、チタン化合物加水分解物を表面に析出させたシリカ系中空微粒子分散液を濾過した後、充分な水、温水、希アンモニア水等を掛けることによって洗浄することができる。また、限外濾過膜法、イオン交換樹脂法等従来公知の方法を採用することもできる。洗浄を行うと、結晶性が高く光触媒性能に優れた酸化チタン系粒子を得ることができる。
さらに、加水分解した後、あるいは洗浄した後、必要に応じて熟成することができる。熟成条件としては、概ね30〜120℃で通常0.1〜24時間、撹拌するか無撹拌下静置する。
このような熟成を行うと、凝集粒子がなくなるとともに酸化チタン被覆層の厚さが均一になり、粒度分布の均一な酸化チタン系粒子が得られる。
過酸化水素水を、(a)工程のチタン化合物加水分解物を表面に析出させたシリカ系中空
微粒子分散液に添加するが、かかる分散液の濃度は固形分として0.1〜30重量%、さらには1〜20重量%の範囲にあることが好ましい。
なるためか、得られる酸化チタン系粒子の結晶性が不十分になる場合がある。
分解物のTiO2としてのモル数(MTi)とのモル比(MHP)/(MTi)が2〜50、さらには5〜
40の範囲にあることが好ましい。モル比(MHP)/(MTi)が低すぎると、得られる酸化チタン系粒子の結晶性が不十分になる場合がある。モル比(MHP)/(MTi)が高すぎても、チタン化合物加水分解物の溶解速度が向上したり、溶解がさらに均一になることもなく、経済的でない。
チタン系粒子の形状係数が向上し、また酸化チタン被覆層が緻密になり、結晶性にも優れた酸化チタン系粒子が得られる。
ついで、分散液を80〜350℃、好ましくは80〜200℃で水熱処理する。水熱処理温度が低いと、被覆した酸チタン層の緻密化、結晶化が不充分となることがあり、水熱処理温度が高すぎても、緻密化、結晶化が促進されることもなく、凝集した酸化チタン系粒子が得られる場合がある。
本発明に係る酸化チタン系粒子の製造方法は、上記工程(a)〜(c)のかわりに、下記(ab)〜(c)からなるもの(第2の製造方法)であってもよい。
(ab)シリカ系中空微粒子分散液に、ペルオキソチタン酸水溶液を加える工程。
(c)分散液を80〜350℃で水熱処理する工程。
シリカ系中空微粒子としては前記したシリカ系中空微粒子を用いる。
ペルオキソチタン酸水溶液としては、チタン化合物と過酸化水素とを反応させて得られるペルオキソチタン酸、あるいはチタン水酸化物と過酸化水素とを反応させて得られるペルオキソチタン酸等の水溶液が挙げられる。
ン化合物、チタン水酸化物のTiO2としてのモル数(MTi)とのモル比(MHP)/(MTi)は2〜
50、好ましくは5〜40の範囲となるように混合し、必要に応じて加熱する従来公知の方法を採用することができる。
また、チタン化合物の添加量は、酸化チタン被覆層が、得られる酸化チタン粒子の平均粒子径の1/20〜1/4、好ましくは1/10〜1/6の範囲になるように添加される。この範囲にあれば、前記した、酸化チタン被覆層を有する酸化チタン系粒子が得られる。
シリカ系中空微粒子分散液にペルオキソチタン酸水溶液を混合した後の濃度は固形分と
して0.1〜30重量%、さらには1〜20重量%の範囲にあることが好ましい。
なお、第2の方法の工程(c)については、上記第1の方法と同様である。
本発明では、(c)工程の後に、下記(d)工程を行っても良い。
(c)工程で水熱処理した後、分散液をpH7.5〜13.5、好ましくは8〜13.5
に調整する。
水熱処理温度が低いと、結晶化が不充分となったり、長時間を要する場合がある。水熱処理温度が高すぎても、さらに結晶化時間が短縮されたり、結晶性が向上することもなく、凝集した酸化チタン系粒子が得られる場合がある。
水熱処理時間は、温度によっても異なるが、通常0.1〜48時間である。
この様にして得られる酸化チタン系粒子は、シリカ系中空微粒子の平均粒子径や酸化チタン被覆層の厚さにもよるが、平均粒子径が5〜100nm、さらには10〜80nmの範囲にあることが好ましい。また、得られる酸化チタン系粒子の屈折率が1.30〜2.00、さらには1.30〜1.80の範囲にあることが好ましい。
このような本発明に係る酸化チタン系粒子は、光電気セルや光触媒などの用途に使用できる。
光電気セルとしては、表面に電極層(1)を有し、かつ該電極層(1)表面に光増感材を吸着した金属酸化物半導体膜(2)が形成されてなる基板と、表面に電極層(3)を有する基板とが、前記電極層(1)および電極層(3)が対向するように配置してなり、金属酸化物半導体膜(2)と電極層(3)との間に電解質層を設けてなる光電気セルにおいて、少なくとも一方の基板および電極が透明性を有し、金属酸化物半導体膜(2)が本発明の酸化チタン系粒子を含むものである。
ともできる。さらに必要に応じてバインダー成分前駆体を含んでいても良い。このような光触媒 の使用形態としては特に制限はなく、たとえば、上記管状酸化チタン粒子をその
まま水等の溶媒に分散させて用いることができるし、バインダー成分前駆体と混合して光触媒 層形成用塗布液とし、ガラス、PET、金属、セラミックスなどの基材に塗布・乾
燥して所望の膜厚の触媒層を形成して用いることもできる。さらに、球状、ペレット状、ハニカム状等に成形して用いることもできる。上記他の活性成分としては、Ag、Cu、Zn等の抗菌、防黴目的に用いられる金属成分の他、Pt、Pd、Rh、Ru、Os、Ir、Au、Fe等の酸化還元性能を有する金属成分が挙げられる。これら金属成分の担持、ドーピング方法は従来公知の方法を採用することができ、たとえば管状酸化チタン粒子の分散液に金属成分の可溶性塩の水溶液を添加したり、必要に応じて加水分解させて析出させることによって調製することができる。
また、本発明の酸化チタン系粒子は、可視光や紫外線遮蔽膜形成用塗料、化粧料組成物、透明被膜形成用塗料などにも好適に使用できる。たとえば紫外線遮蔽膜形成用塗料の場合、必要に応じて着色顔料粒子とともにを塗料用樹脂に混合すればよい。
以下、実施例により本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
酸化チタン系粒子(1)の調製
シリカ系中空微粒子分散液(触媒化成工業(株)製:スルーリアP1420、平均粒子径50nm、屈折率1.30、固形分濃度20重量%、100gを希釈して固形分濃度5重量%のシリカ系中空微粒子分散液とした。これに、TiO2として濃度2重量%の四塩
化チタン水溶液100gを加え、濃度4重量%のアンモニア水を0.5時間で添加し、pH=8.5の水和酸化チタン・シリカ系中空微粒子混合スラリーを得た。
し、濃縮して固形分濃度20重量%の酸化チタン系粒子(1)分散液を調製した。
被覆層の厚さ、結晶形、特性(1)(光沢度(ギラツキ感))および特性(2)(紫外線遮蔽性能:吸光度および透過率)を測定し、結果を表に示した。
なお、酸化チタン被覆層の厚さは、酸化チタン系粒子(1)の平均粒子径とシリカ系中空
微粒子の平均粒子径を測定し、粒子径の差の1/2として示した。
固形分濃度20重量%の酸化チタン系粒子(1)分散液を希釈して固形分濃度10重量%
とした。
ル水溶液10重量部とを混合して光沢膜形成用塗布液を調製した。この塗布液をバーコーターを用いてPETフィルム上に塗布し、90℃で2時間乾燥後、140℃で2時間加熱処理して光沢膜を形成した。
固形分濃度20重量%の酸化チタン系粒子(1)分散液を希釈して固形分濃度0.005
重量%とした。この分散液について、分光光度計(日立製作所製:330型)により、波長300nmでの吸光度および波長400nmでの透過率を測定し、結果を表1に示した。
なお、粒子の屈折率は以下の方法で評価した。
(1)粒子分散液をエバポレーターにとり、分散媒を蒸発させる。
(2)これを120℃で乾燥して、粉末とする。
(3)屈折率が既知の標準屈折液を2,3滴ガラス板上に滴下し、これに上記粉末を混合する。
(4)上記(3)の操作を種々の標準屈折液で行い、混合液が透明になったときの標準屈折液の屈折率を微粒子の屈折率とする。
酸化チタン系粒子(2)の調製
実施例1において、濃度35重量%の過酸化水素水6.5gを添加した以外は同様にして酸化チタン系粒子(2)分散液を調製した。得られた酸化チタン系粒子(2)について、平均粒子径、球状係数、屈折率、酸化チタン被覆層の厚み、結晶形、特性(1)および特性(2)を測定し、結果を表に示す。
酸化チタン系粒子(3)の調製
実施例1において、濃度35重量%の過酸化水素水52gを添加した以外は同様にして酸化チタン系粒子(3)分散液を調製した。
得られた酸化チタン系粒子(3)について、平均粒子径、球状係数、屈折率、酸化チタン
被覆層の厚み、結晶形、特性(1)および特性(2)を測定し、結果を表1に示す。
酸化チタン系粒子(4)の調製
シリカ系中空微粒子分散液(触媒化成工業(株)製:スルーリアP1420、平均粒子径50nm、屈折率1.30、固形分濃度20重量%)100gを希釈して固形分濃度5重量%のシリカ系中空微粒子分散液とした。これに、TiO2として濃度2重量%の四塩
化チタン水溶液50gを加え、ついで、濃度4重量%のアンモニア水を0.5時間で添加し、pH=8.5の水和酸化チタン・シリカ系中空微粒子混合スラリーを得た。ついで、40℃で2時間静置して熟成した後、このスラリーを濾過洗浄し、固形分濃度が4重量%の水和酸化チタン・シリカ系中空微粒子混合分散液を得た。分散液のpHは8.5であった。
膜法にて洗浄し、濃縮して固形分濃度20重量%の酸化チタン系粒子(4)分散液を調製し
た。
得られた酸化チタン系粒子(4)について、平均粒子径、球状係数、屈折率、酸化チタン
被覆層の厚み、結晶形、特性(1)および特性(2)を測定し、結果を表1に示した。
酸化チタン系粒子(5)の調製
シリカ系中空微粒子分散液(触媒化成工業(株)製:スルーリアP1420、平均粒子径50nm、屈折率1.30、固形分濃度20重量%)100gを希釈して固形分濃度5重量%のシリカ系中空微粒子分散液とした。これに、TiO2として濃度2重量%の四塩
化チタン水溶液300gを加え、さらに濃度4重量%のアンモニア水を0.5時間で添加し、pH=8.5の水和酸化チタン・シリカ系中空微粒子混合スラリーを得た。ついで、40℃で2時間静置して熟成した後、このスラリーを濾過洗浄し、固形分濃度が3.5重量%の水和酸化チタン・シリカ系中空微粒子混合分散液を得た。分散液のpHは8.5であった。
法にて洗浄し、濃縮して固形分濃度20重量%の酸化チタン系粒子(5)分散液を調製した
。
得られた酸化チタン系粒子(5)について、平均粒子径、球状係数、屈折率、酸化チタン
被覆層の厚み、結晶形、特性(1)および特性(2)を測定し、結果を表1に示した。
酸化チタン系粒子(6)の調製
実施例1と同様にして調製した酸化チタン系粒子(1)分散液に、濃度15重量%のアン
モニア水を添加して分散液のpHを9.0とし、ついで、165℃で3時間水熱処理して酸化チタン系粒子(6)分散液を調製した。ついで、限外濾過膜法にて洗浄し、濃縮して固
形分濃度20重量%の酸化チタン系粒子(6)分散液を調製した。
得られた酸化チタン系粒子(6)について、平均粒子径、球状係数、屈折率、酸化チタン
被覆層の厚み、結晶形、特性(1)および特性(2)を測定し、結果を表1に示した。
酸化チタン系粒子(7)の調製
実施例1と同様にして調製した酸化チタン系粒子(1)分散液に、濃度25重量%のテト
ラメチルアンモニウムハイドロオキサイド(TMAH)を添加して分散液のpHを12.0とし、ついで、165℃で3時間水熱処理して酸化チタン系粒子(7)分散液を調製した。
ついで、限外濾過膜法にて洗浄し、濃縮して固形分濃度20重量%の酸化チタン系粒子(7)分散液を調製した。
得られた酸化チタン系粒子(7)について、平均粒子径、球状係数、屈折率、酸化チタン
被覆層の厚み、結晶形、特性(1)および特性(2)を測定し、結果を表1に示した。
酸化チタン系粒子(8)の調製
実施例1において、TiO2として濃度2重量%の四塩化チタン水溶液100gの代わ
りにTiO2として濃度1重量%のテトライソプロピルチタネートのアルコール溶液20
0gを用いた以外は同様にして水和酸化チタン・シリカ系中空微粒子混合スラリーを調製したのち、熟成、洗浄後、過酸化水素を加えて水熱処理して酸化チタン系粒子分散液を調製した。ついで、濃度15重量%のアンモニア水を添加して分散液のpHを8.5と、ついで、165℃で3時間水熱処理して酸化チタン系粒子(8)分散液を調製した。該分散液
を、限外濾過膜法にて洗浄し、濃縮して固形分濃度20重量%の酸化チタン系粒子(8)分
散液を調製した。
で、限外濾過膜法にて洗浄し、濃縮して固形分濃度20重量%の酸化チタン系粒子(8)分
散液を調製した。
得られた酸化チタン系粒子(8)について、平均粒子径、球状係数、屈折率、酸化チタン
被覆層の厚み、結晶形、特性(1)および特性(2)を測定し、結果を表1に示した。
酸化チタン系粒子(9)の調製
シリカ系中空微粒子分散液(触媒化成工業(株)製:スルーリアP1420、平均粒子径50nm、屈折率1.30、固形分濃度20重量%)100gを希釈して固形分濃度5重量%のシリカ系中空微粒子分散液とした。
アンモニア水を添加し、四塩化チタンを加水分解して水和酸化チタンゲルスラリーを得た。該ゲルスラリーを洗浄した後、濃度35重量%の過酸化水素水14gを添加し、30℃で1時間溶解し、TiO2として濃度1.7重量%のペルオキソチタン酸水溶液を調製し
た。
濃度15重量%のアンモニア水を添加して分散液のpHを9.0に調整し、再び、165℃で3時間水熱処理して酸化チタン系粒子(9)分散液を調製した。ついで、限外濾過膜
法にて洗浄し、濃縮して固形分濃度20重量%の酸化チタン系粒子(9)分散液を調製した
。
酸化チタン系粒子(9)分散液の一部100gをエタノールに溶媒置換した後、メタクリ
ルシランカップリング剤(信越化学(株)製:KBM-503)3gを添加し、50℃で加熱処
理を行い、再び限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換して固形分濃度20重量%の酸化チタン系粒子(9)のアルコール分散液を調製した。
得られた酸化チタン系粒子(9)について、平均粒子径、球状係数、屈折率、酸化チタン
被覆層の厚み、結晶形、特性(1)および特性(2)を測定し、結果を表に示した。
酸化チタン系粒子(10)の調製
(i)シリカ系中空微粒子の調製
シリカ・アルミナゾル(触媒化成工業(株)製:USBB−120、平均粒子径25nm、SiO2・Al2O3濃度20重量%、固形分中Al2O3含有量27重量%)100gと純水3900gの混合物を98℃に加温し、この温度を保持しながら、SiO2として濃度1.
5重量%の珪酸ナトリウム水溶液2090gとAl2O3としての濃度0.5重量%のアルミ
ン酸ナトリウム水溶液700gを添加して、SiO2・Al2O3粒子分散液を得た。このときの反応液のpHは12.0であった。
分散液500gに純水1,125gを加え、さらに濃塩酸(濃度35.5重量%)を滴下してpH1.0とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、pH3の塩酸水溶液10Lと
純水5Lを加えながら、限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離・洗浄して固形分濃度20重量%のシリカ系中空微粒子前駆体(P-1-2)の水分散液を得た。
タノール1,750gおよび濃度28重量%のアンモニア水626gとの混合液を35℃に加温した後、エチルシリケート(SiO2濃度28重量%)51gを添加してシリカ被覆層を形成し、純水5Lを加えながら限外濾過膜で洗浄して固形分濃度20重量%のシリカ被覆層を形成したシリカ系中空微粒子(P-1-2)の水分散液を得た。
添加して分散液のpHを10.5に調整し、ついで200℃にて11時間熟成した後、常温に冷却し、陽イオン交換樹脂(三菱化学(株)製:ダイヤイオンSK1B)400gを用いて3時間イオン交換し、さらに陰イオン交換樹脂(三菱化学(株)製:ダイヤイオンSA20A)200gを用いて3時間イオン交換し、さらにまた陽イオン交換樹脂(三菱化学(株)製:ダイヤイオンSK1B)200gを用い、80℃で3時間イオン交換して洗浄を行い、固形分濃度20重量%固形分濃度20重量%のシリカ系微粒子(P-1-3)の水
分散液を得た。
た後、常温に冷却し、陽イオン交換樹脂(三菱化学(株)製:ダイヤイオンSK1B)400gを用いて3時間イオン交換し、さらに、陰イオン交換樹脂(三菱化学(株)製:ダイヤイオンSA20A)200gを用いて3時間イオン交換し、固形分濃度20重量%のシリカ系中空微粒子(P-1-4)の水分散液を得た。
得られたシリカ系中空微粒子(P-1-4)の屈折率、平均粒子径を測定し、結果を表1に示
した。
固形分濃度20重量%のシリカ系中空微粒子(P-1-4)の水分散液100gを希釈して固
形分濃度5重量%のシリカ系中空微粒子分散液とした。これに、TiO2として濃度2重
量%の四塩化チタン水溶液100gを加え、濃度4重量%のアンモニア水を0.5時間で添加し、pH=8.5の水和酸化チタン・シリカ系中空微粒子混合スラリーを得た。このスラリーを、40℃で2時間静置して熟成した後、濾過洗浄し、固形分濃度が4重量%の水和酸化チタン・シリカ系中空微粒子混合分散液を得た。分散液のpHは8.5であった。
調製した酸化チタン系粒子(10)分散液100gをエタノールに溶媒置換した後、メタクリルシランカップリング剤(信越化学(株)製:KBM-503)3gを添加し、50℃で加熱
処理を行い、再び限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換して固形分濃度20重量%の酸化チタン系粒子(10)のアルコール分散液を調製した。
得られた酸化チタン系粒子(10)について、平均粒子径、球状係数、屈折率、酸化チタン被覆層の厚み、結晶形、特性(1)および特性(2)を測定し、結果を表1に示した。
酸化チタン系粒子(11)の調製
表面処理
実施例1と同様にして調製した酸化チタン系粒子(1)分散液の一部100gをエタノールに
溶媒置換した後、メタクリルシランカップリング剤(信越化学(株)製:KBM-503)3gを
添加し、50℃で加熱処理を行い、再び限外濾過膜を使用して溶媒をエタノールに置換して固形分濃度20重量%の酸化チタン系粒子(11)のアルコール分散液を調製した。
得られた酸化チタン系粒子(11)について、平均粒子径、球状係数、屈折率、酸化チタン被覆層の厚み、結晶形、特性(1)および(2)を測定し、結果を表1に示した。
酸化チタン粒子(R1)の調製
TiO2として濃度0.4重量%の硫酸チタン水溶液を撹拌しながら、濃度15重量%のアンモニア水を徐々に添加し、pH8.5の白色スラリーを得た。ついで、このスラリーを濾過し、洗浄して、固形分濃度9重量%のチタニアゲルスラリーを得た。このケーキ5.55Kgに濃度33重量%の過酸化水素水6.06Kgと水13.4Kgとを混合し、80℃で5時間加熱し、TiO2として濃度2.0重量%のペルオキソチタン酸水溶液を得た。このとき、水溶液は褐色で、pHは8.1であった。
先に調製したペルオキソチタン酸水溶液(TiO2濃度2.0重量%)9Kgと、水191Kgとチタニアゾル130g(TiO2濃度0.01重量%)とを混合し、95℃で60時間加熱して酸化チタン粒子(R1)分散液を調製した。
得られた酸化チタン系粒子(R1)について、平均粒子径、球状係数、屈折率、酸化チタン被覆層の厚さ、結晶形、特性(1)および特性(2)を測定し、結果を表1に示した。
酸化チタン粒子(R2)の調製
シリカゾル(触媒化成工業(株)製:SI-30、平均粒子径12nm、屈折率1.4
4、固形分濃度40重量%)50gを希釈して固形分濃度5重量%のシリカ微粒子分散液とした。これに、TiO2として濃度2重量%の四塩化チタン水溶液100gを加え、つ
いで、濃度4重量%のアンモニア水を0.5時間で添加し、pH=8.5の水和酸化チタン・シリカ微粒子混合スラリーを得た。
得られた酸化チタン系粒子(R2)について、平均粒子径、球状係数、屈折率、酸化チタン被覆層の厚さ、結晶形、特性(1)および特性(2)を測定し、結果を表1に示した。
酸化チタン粒子(R3)の調製
シリカゾル(触媒化成工業(株)製:SI-30、平均粒子径12nm、屈折率1.4
4、固形分濃度40重量%)50gを希釈して固形分濃度5重量%のシリカ微粒子分散液とした。これに、TiO2として濃度2重量%の四塩化チタン水溶液100gと、濃度4
重量%のアンモニア水を同時に2時間で添加し、pH=8.5の水和酸化チタンゲルとシリカ微粒子との混合スラリーを得た。
Claims (8)
- 下記の工程(a)〜(c)をこの順に含むことを特徴とする、平均粒子径が5〜100nmの範囲にあり、屈折率が1.3〜2.0の範囲にあり、シリカ系中空微粒子と、中空微粒子表面の酸化チタン被覆層とからなる酸化チタン系粒子の製造方法。
(a)シリカ系中空微粒子分散液に、4塩化チタン、3塩化チタン、硫酸チタン、硫酸チタニル、チタンアルコキシドあるいはこれらの部分加水分解物であるチタン化合物の水溶液または該チタン化合物の水溶液と酸またはアルカリを加えながら加水分解し、シリカ系中空微粒子表面にチタン化合物加水分解物を析出させる工程。
(b)チタン化合物加水分解物を表面に析出させたシリカ系中空微粒子分散液に、過酸化水素のH2O2としてのモル数MHPとチタン化合物加水分解物のTiO2としてのモル数MTiとのモル比MHP/MTiが2〜50の範囲となるように過酸化水素水を加える工程
(c)分散液を80〜350℃で水熱処理する工程。 - 下記の工程(ab)〜(d)をこの順に含むことを特徴とする、平均粒子径が5〜100nmの範囲にあり、屈折率が1.3〜2.0の範囲にあり、シリカ系中空微粒子と、中空微粒子表面の酸化チタン被覆層とからなる酸化チタン系粒子の製造方法。
(ab)シリカ系中空微粒子分散液に、ペルオキソチタン酸水溶液を加える工程。
(c)分散液を80〜350℃で水熱処理する工程。
(d)pH7.5〜13.5に調整した分散液を80〜350℃で水熱処理する工程。 - 前記工程(c)の後、下記の工程(d)を行うことを特徴とする請求項1に記載の酸化チタン系粒子の製造方法。
(d)pH7.5〜13.5に調整した分散液を80〜350℃で水熱処理する工程。 - 前記シリカ系中空微粒子の平均粒子径が3〜100nmの範囲にあり、屈折率が1.15〜1.40の範囲にあることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の酸化チタン系粒子の製造方法。
- 前記酸化チタン被覆層の平均厚さが0.1〜20nmの範囲にあり、かつ前記酸化チタン被覆層の厚さは、酸化チタン系粒子の平均粒子径の1/2を越えないことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の酸化チタン系粒子の製造方法。
- 得られた酸化チタン系粒子の下記式(1)で表される球状係数が0.5〜1の範囲にあることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の酸化チタン系粒子の製造方法。
球状係数=(DS)/(DL)・・・・・・(1)
(但し、(DL)は平均粒子最長径、(DS)は最長径の中点で最長径と直交する平均短径) - 前記酸化チタン被覆層がアナタース型、ルチル型またはブルッカイト型から選ばれる1種以上の酸化チタンであることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の酸化チタン系粒子の製造方法。
- さらに、得られた酸化チタン系粒子を、下記式(1)で表される有機珪素化合物またはこれらの加水分解物で表面処理することを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の酸化チタン系粒子の製造方法。
Rn-SiX4-n (1)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン、水素、n:0〜3の整数)
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