KR101437200B1

KR101437200B1 - 표면 피복된 이산화티탄졸, 그 제조법 및 그것을 포함한 코팅 조성물

Info

Publication number: KR101437200B1
Application number: KR1020097023648A
Authority: KR
Inventors: 노부유키 요코야마
Original assignee: 데이까 가부시끼가이샤
Priority date: 2007-04-17
Filing date: 2007-09-10
Publication date: 2014-09-03
Also published as: US8137596B2; KR20100016493A; EP2138462B1; JP2008266043A; US20100148135A1; EP2138462A1; WO2008129693A1; EP2138462A4

Abstract

광촉매 활성을 억제하기 위해 이산화티탄 입자를 광촉매 활성을 갖지 않는 수화 금속산화물로 피복한 투명 이산화티탄졸이 제공된다. 함수 이산화티탄졸 입자를 적어도 규소의 수화산화물을 포함하는 층으로 피복한다. 피복층은 주석, 알루미늄 및 지르코늄으로부터 선택된 적어도 1종의 금속종의 수화산화물과, 안티몬의 수화산화물을 더 포함할 수 있다. 표면 피복된 투명 이산화티탄졸의 제조법 및 표면 피복된 투명 이산화티탄졸을 포함한 코팅 조성물도 제공된다.

Description

표면 피복된 이산화티탄졸, 그 제조법 및 그것을 포함한 코팅 조성물{SURFACE-COATED TITANIUM DIOXIDE, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, AND COATING COMPOSITIONS CONTAINING THE SAME}

본 발명은, 이산화티탄(titanium dioxide)의 투명한 졸에 관한 것으로, 이 졸은 플라스틱 기재, 예를 들면 렌즈의 표면에 딱딱하고, 고굴절률을 갖는 투명한 코팅층을 형성하는데 유용하다.

아나타제형(Anatase type) 이산화티탄 및 루틸형(Rutile type) 이산화티탄은 오래 전부터 백색 안료로서 생산되어 사용되고 있다. 백색 안료로서 이용되는 이산화티탄은 평균 입자지름 0.1∼0.3㎛를 갖고, 다른 백색 안료와 비교하여 높은 은폐력(hiding power)을 갖고 있다. 입자지름 0.1㎛ 이하의 이산화티탄은 가시광선을 투과하지만, 자외선의 투과를 선택적으로 차단하는 독특한 성질을 가진다. 이러한 성질에 의해, 자외선 차단제 화장료로 배합된다. 최근 이산화티탄의 높은 광촉매 활성(photocatalytic activity)에 주목하고 있다. 이 목적으로 사용되는 이산화티탄은 주로 광활성이 강한 아나타제형이다. 아나타제형 이산화티탄졸은 광촉매 기능을 갖는 코팅막을 만들기 위해서 사용되고 있다. 그 제조법 및 다양한 용도에 대해 다수의 특허문헌을 볼 수 있다.

이산화티탄졸은, 고투명성, 기재와의 밀착성, 고굴절률 및 내찰상성(Scratch resistance)이 요구되는 광학 부품의 하드 코트(hard coat) 또는 반사 방지막 등에 이용된다. 지금까지 이 분야에서도 아나타제형 이산화티탄졸이 이용되어 왔는데, 그 이유는 아나타제형 쪽이 루틸형보다 이산화티탄졸의 투명성이 높기 때문이다. 그러나 아나타제형이 높은 광촉매 활성은 그것과 접촉하는 플라스틱과 같은 유기 재료를 분해하여, 변색시키는 결점을 갖는다. 광촉매 활성은, 금속의 수화 산화물(hydrated metal oxide)의 졸 입자에의 피복에 의해서 감소하지만, 이 피복은 상기 졸의 투명성을 떨어뜨린다. 이산화티탄의 적용 분야를 확대하기 위하여, 표면처리 전의 졸의 투명성을 유지하면서, 광촉매 활성을 억제한 표면처리 티탄졸을 제공하는 것이 바람직하다.

이산화티탄졸 그 자체의 제조법은 공지이다. 일반적인 제조방법은, 수용성 티탄염을 가수분해하고, 그 가수분해물을 중화하고, 세정하여, 수화 이산화티탄을 만드는 단계로 구성된다. 졸은 수화 이산화티탄으로부터, (1) 염산 혹은 다른 강산으로 해교(peptizing)하는 방법, 또는 (2) 과산화수소 등의 착화제와 혼합하여 착이온(complex ion)으로서 용해한 것을 가열하는 방법에 의해 제조된다. 이것들은 일반적으로는 아나타제형, 혹은 무정형의 이산화티탄졸이 된다. 루틸형의 이산화티탄졸을 얻기 위한 일반적인 제조방법은, 티탄염 수용액을 가수분해하여 얻을 수 있는 함수 이산화티탄(hydrated titanium dioxide)을 알칼리처리한 후, 산으로 숙성하는 방법이 있다. 이 루틸형 이산화티탄졸은, 제조공정에서 첨가하는 염류(salt contaminant)를 제거하는 것이 곤란하기 때문에, 투명성에 있어서 아나타제형 이산 화티탄졸에 미치지 않는다.

아나타제형이든 루틸형이든, 플라스틱과 같은 유기 재료와 접촉하는 이산화티탄 입자는 그 광촉매 활성을 억제 또는 저하시키기 위해 광촉매 활성을 갖지 않는 수화 금속산화물로 피복하는 것을 필요로 한다. 이 목적에 대해 지금까지 제안된 금속산화물은, SiO₂, ZrO₂, SnO₂, WO₃, Al₂O₃, Sb₂O₅ 및 그들 복합 산화물 등이다. 예를 들면, 일본 공개특허공보 소화63-185820A, 일본 공개특허공보 평성04-214028A, 일본 공개특허공보 평성10-245225A, 일본 공개특허공보 평성10-310429A, 일본 공개특허공보 평성10-158015A, 일본 공개특허공보 2000-53421A, 일본 공개특허공보 2000-62119A, 일본 공개특허공보 2001-122621A, 일본 공개특허공보 2002-363442A, 일본 공개특허공보 2006-306980A 참조하라. 그러나 이들 금속산화물의 피복을 갖는 이산화티탄졸은, 이산화티탄졸의 본래의 높은 투명성과 높은 굴절률을 악화시킨다. 또한 내광성(light resistance)이나 안정성에 있어서 만족할 만한 것은 아니었다. 그 때문에 상술과 같은 결점을 갖지 않는 표면 피복한 이산화티탄졸의 제공이 바람직하다.

본 발명은, 이산화티탄졸 입자가 적어도 규소의 수화산화물을 포함하는 층으로 피복된 투명 이산화티탄졸을 제공한다. 이 피복층은, 규소의 수화산화물과, 주석, 알루미늄 및 지르코늄으로부터 선택된 적어도 1종 이상의 금속 수화산화물의 조합을 포함할 수 있다. 또한, 이 피복층은, 규소의 수화산화물과 주석, 알루미늄 및 지르코늄으로부터 선택된 적어도 1종 이상의 금속 수화산화물에, 안티몬의 수화산화물을 더 조합한 것으로 이루어진다.

본 발명은 또한, 상기 투명 이산화티탄졸의 제조방법을 제공한다. 이 방법은,

(a) 함수 이산화티탄을 해교하여 얻어지는 이산화티탄졸에, 안정화제로서, R¹가 C₁-C₈ 알킬기, 글리시독시 치환 C₁-C₈ 알킬기, 또는 C₂-C₈ 알케닐기, X가 알콕시기, n가 1 또는 2인

R¹SiX_4-n

의 알콕시실란 화합물, 또는 이산화티탄에 대해서 착화 작용을 갖는 화합물을 첨가하는 스텝;

(b) 안정화된 이산화티탄 히드로졸을 첨가한 후의 액이 pH9 이상이 되도록 미리 알칼리를 첨가한 수용성 규산염 또는 시리카졸 용액에, 상기 안정화된 이산화티탄 히드로졸을 첨가하고, 혼합액의 pH를 8 또는 8 이하로 조절하는 스텝; 및

(c) 혼합액을 탈염하는 스텝; 을 포함하고 있다.

규소의 수화산화물과 조합하여 주석, 알루미늄 및 지르코늄으로부터 선택된 적어도 1종 이상의 금속종의 수화산화물을 피복하는 경우는, 스텝(b)에 있어서, 수용성 규산염 또는 실리카졸 용액에, 안정화제를 포함하고 있는 이산화티탄졸을 첨가한 후, pH9 이상을 유지하면서 주석, 알루미늄 및 지르코늄으로부터 선택된 적어도 1종 이상의 수용성 금속염 또는 그 금속산화물 졸을 첨가하는 것에 의해서 달성할 수 있다. 마찬가지로 규소의 수화산화물과, 주석, 알루미늄 및 지르코늄으로부터 선택된 적어도 1종 이상의 금속종의 수화산화물과, 안티몬의 수화산화물을 조합하여 피복하는 경우는, 스텝(b)에 있어서 주석, 알루미늄 및, 지르코늄으로부터 선택된 적어도 1종 이상의 수용성 금속염 또는 그 금속산화물 졸의 첨가 전, 첨가 후 또는 첨가와 동시에, 미리 준비한 오산화안티몬졸을 첨가하는 것에 의해서 달성할 수 있다.

이렇게 하여 제조된 표면 피복된 이산화티탄졸은 이 분야에서 기존의 방법에 의해서 용매 치환하여, 올가노졸(organosol)로 변환할 수 있다.

본 발명의 표면 피복된 이산화티탄졸의 분산매(dispersion medium)는 물이나, 또는 유기용매일 수 있다. 이산화티탄 올가노졸은, 상기 히드로졸을 유기 용매로 용매 치환에 의해서 얻을 수 있다.

[발명을 실시하기 위한 최선의 형태]

수화 금속산화물로 표면 피복된 이산화티탄졸의 투명성을 위해서는, 피복물의 투명성이 높은 것 외에, 피복처리의 동안, 나노 사이즈의 졸 입자가 거대 2차 입자에 응집하지 않은 것이 중요하다. 이것은 이산화티탄졸을 배합한 하드 코트 등의 경시적 내광성에 있어서도 중요하다.

본 발명의 특징적 구성의 하나는, 이산화티탄 히드로졸을 안정화시키기 위하여, 알콕시실란 화합물 또는 이산화티탄에 대해서 착화 작용을 갖는 화합물을 사용하는 것에 있다. 이렇게 안정화시킨 이산화티탄 히드로졸의 입자에 수화 금속산화물을 피복하는 것이다.

이산화티탄졸을 안화정화함으로써, 상기 원료 졸의 투명성을 잃는 일 없이, 이산화티탄졸 입자를 규소의 수화산화물 단독으로, 또는 다른 금속의 수화산화물과 조합하여 표면 피복하는 것이 가능하게 되었다.

이산화티탄은 루틸형, 아나타제형, 무정형(amorphous) 모두 사용할 수 있지만, 상대적으로 높은 굴절률, 비교적 낮은 광촉매 활성의 점에서는 루틸형이 유리하다.

루틸형의 이산화티탄 히드로졸의 일반적인 제조방법은, 전이제(transitional agent)인 주석의 수화산화물을 포함하고 있는 함수 이산화티탄(올소티탄산)을 전형적으로는 강산인 염산으로 해교하는 것으로 이루어진다. 함수 이산화티탄은, 공지와 같이 사염화티탄, 옥시염화티탄, 황산티탄과 같은 수용성 티탄염을 알칼리로 중화 혹은 열가수분해하거나, 또는 티탄알콕시드를 가수분해해도 제조할 수 있다.

함수 이산화티탄은 ZrO₂로서 TiO₂에 대해서 10%까지, 바람직하게는 5%까지, 예를 들면 3%의 지르코늄의 수화산화물 또는 무수산화물을 포함해도 좋다. 지르코늄 산화물을 함수 이산화티탄에 함유시키는 것은, 그 제조된 이산화티탄졸의 시간경과에 따른 저장 안정성을 개량하는 효과(시간경과에서의 점도 상승의 억제)가 있다

본 발명의 바람직한 실시형태에 의하면, 루틸형의 이산화티탄 히드로졸은, 염화제2주석과 같은 수용성 제2주석염을 일단 가수분해하여, 그 반응액에 상기의 ZrO₂/TiO₂비로 옥시염화티탄과 옥시염화지르코늄을 포함하고 있는 수용액을 서서히 적하하여, 적하 종료 후 비등 온도에서 수시간 반응시켜 제조된다.

상기 반응 혼합물을 더 처리하여 이산화티탄 히드로졸을 제조한다. 이 반응액을 냉각하고, 암모니아수로 중화하여, 여과 케이크 등의 침전물을 모으도록 여과한다. 충분히 수세한 후, 여과 케이크에 물과 농염산으로 해교한다. 또는 상기 냉각한 반응액의 전해질 성분을 제거하는, 예를 들면, 이산화티탄 히드로졸은, 상기 냉각한 반응액을 데칸테이션(decantation), 희석, 농축, 이온 교환수에 의한 희석이라고 하는 공정을 반복하는 것에 의해서 제조할 수 있다.

주석을 전이제로서 사용함으로써, 높은 투명성을 갖는 루틸형의 이산화티탄 히드로졸을 얻을 수 있다. 옥시염화티탄의 가수분해 조건을 변경함으로써 주석을 사용하지 않고 루틸형의 이산화티탄 히드로졸을 얻을 수도 있다. 전이제로서 첨가하는 수용성 주석염은 SnO₂로서 TiO₂에 대해서 5∼20%, 바람직하게는 5∼15%, 특히 10%가 적당하다.

이산화티탄 히드로졸을 제조할 때, 티탄원으로서는 옥시황산티탄, 질산티탄 및 여러 수용성 티탄을 더 포함한다. 주석원으로서는 황산제2주석, 질산제2주석 등의 수용성 제2주석염을 포함한다. 지르코늄원으로서는 옥시황산지르코늄 등의 수용성 지르코늄염을 포함한다. 또한, 중화제로서는 수산화나트륨, 수산화칼륨 등의 알칼리, 질산 또는 옥살산 등의 산을 사용해도 상관없다.

먼저 서술한 바와 같이, 본 발명에서는 이 이산화티탄 히드로졸을 직접 피복하는 것이 아니라, 알콕시실란 화합물 또는 이산화티탄에 대해서 착화 작용을 갖는 화합물과 반응시켜, 안정화시키고 나서 사용한다. 사용될 알콕시실란 화합물은 일반식으로서,

R¹SiX_4-n

으로 나타내며, 식중 R¹은 C₁-C₈ 알킬기, 글리시독시 치환 C₁-C₈ 알킬기, 또는 C₂-C₈ 알케닐기, X는 알콕시기, n은 1 또는 2이다.

본 발명의 목적에 적합한 알콕시실란 화합물로서, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란으로 대표되는 글리시독시알킬트리알콕시실란, 비닐트리메톡시실란으로 대표되는 비닐트리알콕시실란, 또는 메틸트리메톡시실란으로 대표되는 알킬트리알콕시실란을 포함한다. 이들 알콕시실란 화합물은 그 졸의 투명성에 악영향 미치는 일 없이 안정화에 유효한 것을 알 수 있었다. 이산화티탄에 대한 착화제로서는, 과산화수소; 구연산, 주석산 또는 살리실산 등의 지방족 또는 방향족 히드록시카르본산; 옥살산 등의 디카르복실산; 및 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 또는 글리세린 등의 다가 알코올을 포함한다. 과산화수소, 구연산, 및 옥살산이 바람직하다.

안정화제는 이산화티탄 히드로졸의 희석액에 첨가하여 혼합된다. 안정화에 필요한 양은, TiO₂로 환산한 이산화티탄 히드로졸의 중량을 기준으로 하여 1∼100%, 바람직하게는 5∼20%이다.

안정화제를 포함하고 있는 이산화티탄 히드로졸은 수용성 규산염, 예를 들면 규산나트륨 또는 실리카졸 용액에 교반하에 서서히 첨가된다. 안정화제를 포함하고 있는 이산화티탄 히드로졸은 강산성이다. 이러한 이유로, 수용성 규산염 또는 실리카 용액이 반응중 및 반응종료 후 반응액의 pH가 9 이상, 바람직하게는 pH10으로 유지되도록 충분한 환산된 양의 알카리를 함유하는 것이 바람직하다. 규소의 수화산화물과, 주석, 알루미늄 및 지르코늄으로부터 선택된 적어도 1종 이상의 금속종의 수화산화물을 조합하여 피복하는 경우는, 이산화티탄 히드로졸의 첨가 종료후, 이들 금속의 수용성 염의 1종 이상 혹은, 이들 금속의 산화물 졸의 적어도 1종을 함유하는 용액을 상기 수요성 규산염 또는 실리카졸 용액에 교반하에 서서히 첨가한다. 또한, 이 경우, 염산, 황산 또는 카르복실산 등의 산 혹은, 수산화나트륨, 암모니아수 또는 유기 아민 등의 알카리를 적하하면서 상기 반응 혼합물의 pH가 9∼11, 예를 들면 pH10으로 유지되도록 하는 것이 바람직하다.

규소의 수화물과, 주석 산화물, 알루미늄 산화물 및 지르코늄 산화물의 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 수화산화물에 안티몬의 수화산화물을 더 조합하여 피복하는 경우는, 미리 오산화안티몬졸을 조제하여, 주석, 알루미늄 및 지르코늄의 1종 이상의 수용성 염 또는 그 금속산화물 졸의 첨가 전, 첨가와 동시에 또는 첨가 후에 수용성 규산염 또는 실리카졸의 용액에 첨가된다. 수용성 규산염 또는 실리카 졸의 용액에 미리 준비된 오산화안티몬 졸을 첨가하는 것이 바람직하다.

이어서 반응액을 60℃ 이상, 예를 들면 80℃로 가열하고, pH를 약알칼리성 예를 들면 pH8로 조정하여 반응을 완결시킨다. 가열 전에 수용성 규산염 수용액 또는 실리카졸의 용액을 추가하여 첨가해도 좋다.

이산화티탄 히드로졸중의 TiO₂로 환산한 고형분에 대한 수용성 규산염 또는 실리카졸의 비는, SiO₂로 환산하여 5∼100중량%일 수 있다. 그러나, 상기 비는 10∼60중량%이 바람직하고, 더 바람직하게는 10∼40중량%이다. SiO₂로 환산한 수용성 규산염 또는 실리카졸에 대하여, SnO₂, Al₂O₃, ZrO₂로 환산한, 주석, 알루미늄 및 지르코늄으로부터 선택된 적어도 1종 이상의 수용성 염 또는 그 산화물졸의 합계의 비는 1~100중량%일 수 있다. 그러나, 상기 비는 바람직하게는 1∼50중량%, 더 바람직하게는 2∼40중량%이다. 수용성 규산염 또는 실리카졸이 충분하지 않은 경우는, 표면 피복된 이산화티탄졸의 안정성 향상 효과가 충분하지 않다. 반대로, 수용성 규산염 또는 실리카졸이 초과하는 경우는, 표면 피복된 이산화티탄졸로 제조된 막의 이산화티탄 함량이 너무 적어 높은 굴절률을 발휘하지 못한다. 주석, 알루미늄 및 지르코늄의 수용성 염 또는 산화물 졸의 합계의 양이 충분하지 않은 경우는, 피복된 졸로부터 제조된 막의 내광성이 충분히 개선되지 않는다. 반대로, 이들 금속의 수용성 염 또는 산화물 졸의 양이 초과하는 경우는, 표면 피복된 이산화티탄졸의 안정성이 악화되며, 표면 피복된 졸로 제조된 막의 투명성과 굴절률이 악영향을 받는다. TiO₂로 환산한 이산화티탄 히드로졸에 대한, Sb₂O₅로 환산한 오산화안티몬졸의 중량비는, 일반적으로 0.5∼15%, 바람직하게는 0.5%∼10%이고, 더 바람직하게는 0.5∼5%이다. 오산화안티몬의 양이 충분하지 않은 경우는 시간 경과에서의 내광성이 충분히 개선되지 못한다. 반대로, 오산화안티몬의 양이 초과하는 경우는 광조사하면 코팅 조성물 등이 황변(yellowed)하고, 내광성이 저하한다.

적어도 규소의 수화산화물로 표면 피복된 이산화티탄 히드로졸의 반응액은 냉각 후 최종적으로 산성측, 예를 들면 pH3으로 조절되어, 반응액중의 전해질 오염을 제거하기 위하여, 한외여과(ultrafiltration), 투석(dialysis), 이온교환 수지 처리 등의 공지 방법에 의한 처리(탈염처리)가 행해진다. 그 후, 표면 피복된 이산화티탄졸은 암모니아수, 수용성 아민 또는 4급 암모늄염기로서 pH4∼10으로 중화하여, 표면 피복된 이산화티탄졸의 안정성이 향상된다. 이러한 목적에 사용되는 중화제로서는 암모니아수; t-부틸아민, 이소프로필아민, 디이소프로필아민, 또는 디에틸아민 등의 알킬아민; 디에탄올아민 또는 트리에탄올아민 등의 알칸올아민; 수산화테트라메틸암모늄; 1종 이상의 아민기를 함유하는 분산제 등을 들 수 있다. 알킬아민이 바람직하다.

이상의 조작으로 표면 피복된 이산화티탄졸의 분산매는 물(히드로졸)이다. 히드로졸은 공지의 용매 치환으로 올가노졸로 할 수 있다. 치환용 유기용매는 수혼화성의 용매(water-miscible solvent)가 바람직하다. 메탄올이 전형적이다. 히드로졸이 수혼화성의 용매로 치환한 후, 올가노졸은 비친수성 용매인 톨루엔 등으로 용매 치환가능하다.

본 발명의 표면 피복된 이산화티탄졸은 올가노졸인 경우,

R¹ _aR² _bSi(OR³)_4-a-b

로 표시되는 식의 유기 규소 화합물(organosilane compound)로 최표면이 처리됨으로써 그 안정성은 향상될 수 있는데, 여기서 R¹은 비닐기; 메타크릴록시기, 메르캅토기, 아미노기 또는 에폭시기를 갖는 C₁~C₆ 탄화수소기; R²는 C₁~C₄ 탄화수소기; R³은 C₁~C₈ 탄화수소기 또는 아실기, a 및 b는 각각 0 또는 1이다. 상기 유기 규소 화합물은 그 자체 또는 부분 가수분해물 또는 완전 가수분해물 후 사용될 수 있다. 상기 유기 규소 화합물로서는 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 이소부틸트리메톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 페닐트리메톡시실란, (3,4-에폭시시클로헥실) 에틸트리메톡시실란, 3-메타크릴록시프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필메틸디메톡시실란, 및 3-메르캅토프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다. 또한, 상기 유기 규소 화합물은, 필요에 따라서 분산제 등의 첨가제를 투명성, 내광성에 악영향을 미치지 않는 것이면 배합해도 상관없다.

본 발명의 표면 피복된 투명 이산화티탄졸은, 무기 또는 유기 바인더를 배합하여 광학부품의 표면에 고굴절률 하드 코트, 반사방지막, 투명 내스크래치막 등을 형성하기 위해서 코팅 조성물로서 이용할 수 있다. 이산화티탄졸이 안티몬의 수화산화물을 포함한 금속산화물의 혼합물로 피복된 경우는, 안티몬 산화물을 포함하지 않는 금속 산화물 혼합물에 비교하여, 코팅 조성물의 내광성, 혹은 막의 내광성이 개선되고, 특히 경시적인 변색이 저감된다.

상기 코팅 조성물은 본 발명의 피복 이산화티탄졸과 경화성 바인더로 이루어진다. 경화성 바인더는 표면 피복된 이산화티탄졸과 혼합하여 투명성이 저하하지 않으면 특별히 한정하지 않는다. 경화성 바인더로서는 광경화성 또는 열경화성의 유기 모노머 또는 올리고머, 유기 폴리머, 또는 아크릴계 수지, 멜라민계 수지, 우레탄계 수지, 및 폴리에스테르 수지를 포함하는 폴리머 수지, 그리고 자외선 경화 조성물을 들 수 있다. 또한, 바인더 재료로서,

R¹ _aR² _bSi(OR³)_4-a-b

식의 상기 유기 규소 화합물의 부분 가수분해물 및/또는 완전 가수분해물도 적용할 수 있으며, 상기 식에서 모든 기호는 상기에서 정의되어 있다.

또한, 상기 코팅 조성물에 있어서 표면 피복된 이산화티탄졸과 경화성 바인더의 비율은 표면 피복된 이산화티탄졸의 고형분/경화성 바인더의 바인더 성분으로 0.1∼10, 바람직하게는 0.2∼5이다. 상기 비가 0.1 이하의 경우, 고굴절률의 도막을 얻을 수 없다. 반면, 상기 비가 10 이상의 경우, 기재와 도막과의 밀착성이 저하한다. 본 발명의 피복 이산화티탄졸을 함유한 코팅 조성물에, 필요에 따라서 경화제, 산, 아민, 또는 규소, 알루미늄, 지르코늄, 세륨, 철, 텅스텐 등의 금속산화물 졸, 그 외 다양한 첨가물이 배합되는 경우가 있다. 상기 코팅 조성물은 다양한 유리, 플라스틱 기재에 도포될 수 있다. 구체적으로, 상기 코팅 조성물은, 하드 코트, 반사 방지막 등을 형성하기 위한 안경 렌즈, 카메라 렌즈, 및 FPD 렌즈 등에 적용할 수 있다.

이하의 실시예는 한정을 의도하지 않는다. 실시예중의 부 및 %는 특기하지 않는 한 중량 기준에 따른다.

<실시예 1>

제1부 루틸형 이산화티탄 히드로졸(A액)

1L의 글래스 비커에, TiO₂ 농도 25%의 옥시염화티탄 수용액 240g(TiO₂로서 60g)와, ZrO₂ 농도 35%의 옥시염화지르코늄 용액 5g(ZrO₂로서 1.8g)을 넣었다. 물로 혼합물을 희석하여 전량을 1L로 하여, 티타늄과 지르코늄의 완전 용해를 확인하였다.

교반수단 및 환류 냉각기(reflux condenser)를 구비한 2L 플라스크에, 물 1kg와, SnO₂농도 30%의 염화제2주석 수용액 20g(SnO₂로서 6g)와, 36% 염산 16g를 첨가하였다. 혼합물을 교반하면서 60℃로 가열하였다. 이 혼합물에, 온도를 60℃로 유지하면서 위의 옥시염화티탄·옥시염화지르코늄 수용액 1L를 15분간 걸려 적하하였다. 적하 종료 후 혼합물을 비등온도까지 가열하여, 3시간 비등상태에서 가열 환류하였다. 그 후 상기 혼합물을 40℃까지 냉각하고, 암모니아수로 pH 5.0으로 중화하였다. 그 침전물을 여과하여 얻은 케이크를 수세하였다. 케이크를 물과 35% 염산으로 TiO₂ 농도 20%까지 희석하여, pH1.3의 이산화티탄 히드로졸(A액) 300g를 얻었다. A액을 100℃에서 건조한 분말의 X선회절은 결정형이 루틸형인 것을 나타내었다.

제2부 실란커플링제 처리 이산화티탄 히드로졸(B액)

2L 글래스 비커에 TiO₂ 농도 20%의 루틸형 이산화티탄 히드로졸(A액) 200g (TiO₂로서 40g)를 취하고, 이온 교환수로 TiO₂ 농도 4%로 희석하였다. 상기 용액을 교반하면서 3-글리시독시프로필트리메톡시실란(신에츠가가쿠고교(주)제 KBM-403) 5.2g를 10분간 걸려 적하하였다.

제3부 이산화티탄 히드로졸의 피복처리

5L 글래스 비커에, SiO₂ 농도 10%의 규산나트륨 수용액 60g(SiO₂로서 6g)와, 48% 수산화나트륨 수용액 2g를 넣고, 이온 교환수를 가하여 전량을 1200g로 하였다. 이 액에 교반하면서 B액 전량(TiO₂로서 40g)을 15분간 걸려 첨가하였다. 첨가 종료시의 pH는 10이었다.

다음에 이 반응액에, SnO₂ 농도 20%의 염화제2주석 수용액 30g(SnO₂로서 6g)을 90분을 걸려 적하시켰다. 동시에, 48% 수산화나트륨 수용액을 첨가하면서, 상기 반응을 통하여 상기 반응물을 pH10을 유지하였다. 염화제2주석 용액의 첨가 후, 상기 반응물을 80℃로 가열하고, 1% 염산을 120분간 걸려 첨가하여, pH8로 조절하였다. 이 반응물을 20℃로 냉각하고, 10% 구연산 수용액으로 pH3으로 산성화하고, 이 액을 한외여과 모듈(Ultrafiltration module)(아사히가세이 케미컬즈(주)제 마이크로더 SLP-1053)을 이용하여 한외여과 공정을 거쳤다. 여과량이 제거되는 만큼 동일한 부피의 새로운 물을 보충하면서, 상기 졸에서의 TiO₂ 농도 6%, 전기 전도도 600 μS/cm 이하가 될 때까지 한외여과를 계속하였다.

탈염처리된 히드로졸을 3시간 동안 환류시키고, 40℃로 냉각하고, 디이소프로필아민으로 액의 pH를 5로 조절하고, 한외여과 모듈을 이용하여 고형분 농도 20%로 농축하였다. TiO₂분에 대해, 수화물의 형태로 SiO₂과 SnO₂를 모두 15% 비율로 피복된 이산화티탄 히드로졸을 얻었다.

<실시예 2>

실시예 1에서 제조된 이산화티탄 히드로졸을 메탄올로 TiO₂ 농도 5%로 희석하고, 한외여과 모듈(아사히가세이 케미컬즈(주)제, SLP-1053)에, 여과액량과 동량의 메탄올을 보급하면서 용매 치환하였다. 마지막으로, 메탄올의 보급을 멈추고 농축하여, 수분이 1% 이하이고, 고형분 농도 20%의 메탄올 분산 이산화티탄 올가노졸 (organosol)을 얻었다.

<실시예 3>

실시예 1의 제3부에 있어서, 염화제2주석 수용액과 수산화나트륨 수용액의 첨가를 생략하였다. 이것을 제외하고, 실시예 1과 같이 실시하여, TiO₂ 농도 15%의 비율로, 수화물 형태의 SiO₂로 피복된 이산화티탄 히드로졸을 얻었다.

<실시예 4>

실시예 3에서 얻은 이산화티탄 히드로졸을 이용하여, 실시예 2와 같은 조작에 따라 고형농도 20%의 메탄올 분산 이산화티탄 올가노졸로 변환하였다.

<실시예 5>

제2염화주석 수용액 및 규산나트륨 수용액을 2배(각각 60g 및 120g)로 증량한 것을 제외하고 실시예 1의 절차를 따랐다. 수화물의 형태로 SiO₂ 및 SnO₂ 모두 TiO₂ 중량%로 30% 피복된 이산화티탄 히드로졸을 얻었다. 다음에 이 히드로졸을 실시예 2와 같은 조작에 따라서 고형분 농도 20%의 메탄올 분산 이산화티탄 올가노졸로 변환하였다.

<실시예 6>

규산나트륨 수용액의 양을 2배(120g)로 증량하고, 염화제2주석 수용액을 첨가하지 않았던 것을 제외하고 실시예 1의 제3부와 같은 조작을 행하였다. 수화물의 형태로 SiO₂를 TiO₂ 중량%로 30% 피복된 이산화티탄 히드로졸을 얻었다. 이 히드로졸을 실시예 2의 조작에 따라서 고형분 농도 20%의 메탄올 분산 이산화티탄 올가노졸로 치환하였다.

<실시예 7>

제3부에 있어서, 염화제2주석 수용액을 Al₂O₃ 농도20%의 알루민산나트륨 수용액 10g(Al₂O₃으로서 2g)로 변경한 것을 제외하고 실시예 1의 조작을 따랐다. 36% 염산과 동시에 pH9∼10을 유지하면서 15분을 걸려 상기 알루민산나트륨 수용액을 적하하였다. TiO₂ 중량으로 SiO₂및 Al₂O₃을 각각 15% 및 5% 비율로 피복한 이산화티탄 히드로졸을 얻었다. 이 이산화티탄졸을 실시예 2와 같은 조작에 따라서 고형분 농도 20%의 메탄올 분산 이산화티탄 올가노졸로 변환하였다.

<실시예 8>

제3부에 있어서, 염화제2주석 수용액을 ZrO₂농도 10%의 옥시염화지르코늄 수용액 60g(ZrO₂로서 6g)로 변경한 것을 제외하고 실시예 1과 같은 조작을 반복하였다. TiO₂에 대해서, SiO₂ 및 ZrO₂ 모두 15%비율로 피복한 이산화티탄 히드로졸을 얻었다. 다음에 이 이산화티탄졸을 실시예 2와 같은 조작에 따라서 고형분 농도 20%의 메탄올 분산 이산화티탄 올가노졸로 변환하였다.

<실시예 9>

오산화안티몬졸(C액)의 제조

2L 글래스 비커에, 삼산화안티몬(니폰세이코(주) PATAX-CF) 200g와, 30% 과산화수소수 146.67g(H₂O₂로서 44g)를 배합하였다. 물을 가해 희석하여 2000g로 한 후, 이 삼산화안티몬 현탁액을 환류 냉각기에 부착된 플라스크에 넣고, 1시간 비등 온도(reflux temperature)에서 가열하고, 40℃ 이하로 냉각하였다. 이 반응액을 디이소프로필아민으로 pH7.5로 중화하여, 고형분 12%의 오산화안티몬졸(C액)을 얻었다.

제1부 루틸형 이산화티탄 히드로졸(A액)

실시예 1과 같다.

제2부 실란커플링제 처리 이산화티탄 히드로졸(B액)

실시예 1과 같다.

제3부 이산화티탄 히드로졸의 피복 처리

5L 글래스 비커에, SiO₂ 농도 10%의 규산나트륨 수용액 120g(SiO₂로서 12g)와, 48% 수산화나트륨 수용액 2g를 넣어, 이온 교환수를 가하여 전체량을 1200g로 하였다. 이 액에 교반하면서 B액 전체량(TiO₂로서 40g)을 15분간 걸려 첨가하였다. 첨가 종료시의 pH는 10이었다.

다음에 이 반응액에 C액 3.3g(Sb₂O₅로서 0.4g)를 이온 교환수로 40g으로 희석한 액을 첨가하였다. 그리고, SnO₂ 농도 20%의 염화제2주석 수용액 60g(SnO₂로서 12g)와 함께, 48% 수산화나트륨 수용액을 pH10을 유지하면서 90분을 걸려 첨가하였다. 염화제2주석 첨가 후, 이 반응액을 80℃로 가열하고, 1% 염산을 120분간 걸려 첨가하여, pH8로 조절하였다. 이 액을 20℃로 냉각하고, 10% 구연산 수용액으로 pH3으로 산성화하고, 이 액을 한외여과 모듈(아사히가세이 케미컬즈(주)제 SLP-1053)을 이용하여 한외여과 공정을 수행하였다. 이 공정은 여과액량과 동량의 새로운 물을 보충하면서, TiO₂ 농도 6%, 전기 전도도가 600μS/cm 이하가 될 때까지, 계속되었다.

탈염처리한 히드로졸을 환류 상태로 3시간 유지한 후 40℃로 냉각하고, 디이소프로필아민으로 pH5로 조절하고, 마지막으로 한외여과 모듈을 이용하여 고형분 농도 20%에 농축하였다. TiO₂분에 대해, 수화물의 형태로 SiO₂를 30%, SnO₂를 30%, Sb₂O₅를 1% 각각 피복한 이산화티탄 히드로졸을 얻었다.

이 이산화티탄 히드로졸을 메탄올로 TiO₂ 농도 5%로 희석하고, 한외여과 모 듈(아사히가세이 케미컬즈(주) 제, SLP-1053)에, 여과액량과 동량의 메탄올을 보급하면서, 메탄올에 용매 치환하였다. 마지막으로 메탄올의 보급을 멈추고 농축하여, 수분이 1% 이하이고, 고형분 농도 20%의 메탄올 분산 이산화티탄 올가노졸을 얻었다.

<실시예 10>

실시예 9의 제3부에 있어서, 규산나트륨 수용액의 양을 반(60g) 또한 SnO₂ 농도 20%의 염화제2주석 수용액의 양을 반(30g)으로 줄이고, C액(오산화안티몬졸)의 양을 2배(6.6g)로 증량한 것을 제외하고, 같은 조작을 반복하였다. 수화물의 형태로 TiO₂ 중량에 대하여, SiO₂를 15%, SnO₂를 15%, Sb₂O₅를 2% 각각 피복한 고형분 농도 20%의 메탄올 분산 이산화티탄 올가노졸을 얻었다.

<실시예 11>

최종 TiO₂ 농도 20%로 농축하기 전에, 실시예 3에서 얻은 TiO₂ 농도 6%의 히드로졸을 3시간 동안 환류한 후, 40℃로 냉각하였다. 이산화티탄 히드로졸에 메틸트리메톡시실란 4g를 메탄올 216g에 용해한 액을 15분간 걸려 적하하고, 30℃에서 12시간 숙성하였다. pH를 5로 조절한 후, 상기 졸을 한외여과 모듈을 이용하여 고형분 농도 20%에 농축한 다음, 메탄올로 TiO₂ 농도 5%로 희석하였다. 상기 희석된 졸은 한외여과 모듈(아사히가세이 케미컬즈(주)제, SLP-1053)에, 여과액량과 동량의 메탄올을 보급하면서, 메탄올에 용매 치환하였다. 마지막으로, 메탄올의 보급을 멈추고 농축하여, 수분이 1% 이하이고, 고형분 농도20% 의 메탄올 분산 이산화티탄 올가노졸을 얻었다.

<실시예 12>

실시예 11에 있어서, 이산화티탄 히드로졸을 메탄올로 용매 치환하기 전의 실시예 5의 이산화티탄 히드로졸로 변경한 것을 제외하고, 같은 조작을 반복하였다. 메틸트리메톡시실란으로 표면처리한 고형분농도 20%의 메탄올 분산 이산화티탄 올가노졸을 얻었다.

<실시예 13>

제2부에서, 실란커플링제(KBM-403) 대신에 30% 과산화수소수 120g(H₂O₂로서 36g)를 이용하여 이산화티탄 히드로졸을 안정화시킨 것을 제외하고, 실시예 4를 반복하였다.

<실시예 14>

제1부 아나타제형 이산화티탄 히드로졸의 제조

공지의 방법으로, 황산티타닐 수용액을 열가수분해하여 얻어진 메타티탄산을 제조하였다. 상기 혼합물은 28% 암모니아 수용액으로 pH를 7.0으로 중화하고, 여과하여 침전물을 모은 후, 물로 세정하여 케이크를 얻었다. 이 여과 케이크를 물로 현탁하고, 교반하면서 36% 염산으로 해교하여, pH 0.7, 고형분 20%의 아나타제형 이산화티탄 히드로졸을 제조하였다. 이 졸을 100℃에서 건조한 분말의 X선회절에 의한 결정형은 아나타제형이고, 결정자 지름은 6nm이었다.

상기 제조한 아나타제형 이산화티탄 히드로졸을 사용하여 실시예 4와 같은 조작을 반복하여 고형분 농도 20%의 아나타제형 이산화티탄 올가노졸을 얻었다.

<비교예 1>

실시예 1의 제1부에서 제조한 이산화티탄 히드로졸(A액)을 비교예 1로 하였다.

<비교예 2>

아미노실란(신에츠가가쿠고교(주)제, KBM-903)을 안정화제로 사용한 것을 제외하고 실시예 1의 제2부에 따른 과정을 반복하였다. 그 후 상기 히드로졸을 메탄올로 용매 치환한 올가노졸을 얻었다.

졸의 평가시험

실시예 및 비교예의 졸에 대해서, 투명성(헤이즈(haze)), 시간 경과 안정성 및 내광성을 다음의 방법에 따라 평가하였다.

투명성 : 각 졸을 고형분 농도 0.5%로 희석하여 시험 샘플을 준비하였다. 샘플을 광로길이 10cm의 석영제 셀(quartz cell)에 넣고, 헤이즈미터(니폰덴쇼쿠고교 (주), 모델 NHD-2000)로 헤이즈치(haze value)를 측정하였다. 값이 작을수록 투명성이 높다.

시간경과에 따른 안정성 : 졸을 1개월간 5℃의 일정 온도에서 보관하고, 그 외관의 변화를 눈으로 평가하였다.

A : 변화 없음

B : 증점(increase viscosity)

C : 겔화 및 상(phase) 분리

결과를 표 1에 나타낸다.

[표 1] 졸의 평가

<실시예 15∼26 및 비교예 3>

코팅 조성물

3-글리시독시프로필트리메톡시실란(신에츠가가쿠고교(주), KBM-403) 12.5부에, 0.01N 염산 4.4부를 가하고 24시간 교반하였다. 이것에 실시예 및 비교예로 제조한 이산화티탄졸(고형분 20%) 62.5부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 15부, 메탄올 56부, 경화제(알루미늄아세틸아세트나트) 미량, 레벨링제(leveling agent)(토오레·다우코닝(주)제, L-7001) 소량을 가하고 교반하였다.

코팅 조성물의 평가시험

실시예 및 비교예의 코팅 조성물에 대해, 투명성(헤이즈), 시간경과에 따른 안정성 및 내광성을 다음의 방법에 따라 평가하였다.

투명성 : 각 코팅 조성물을 광로길이 10cm의 석영제 셀에 넣고, 헤이즈미터(니폰덴쇼쿠고교(주), 모델 NHD-2000)로 헤이즈치를 측정하였다. 값이 작을수록 투명성이 높다.

시간경과에 따른 안정성 : 졸을 1개월간 5℃의 항온에서 보관했을 때 상태의 변화를 눈으로 평가하였다.

A : 변화 없음

B : 증점

C : 겔화 및 상 분리

내광성(코팅 조성물) :코팅 조성물을 투명유리 용기에 넣어 밀폐한 후, 이 용기에 넣은 졸을 블랙 라이트(black light)로 4시간 및 24시간 조사하였다. 황색 또는 청색의 정도를 눈으로 관찰하고, 이하의 기준에 따라 판정하였다.

+3 : 크게 황변

+2 : 조금 황변

+1 : 아주 조금 황변

0 : 황변 없음

-1 : 매우 조금 청변

-2 : 조금 청변

-3 : 크게 청변

결과를 표 2에 나타낸다.

[표 2] 코팅 조성물의 평가

<실시예 27∼38 및 비교예 4>

피복 광학부재의 평가

굴절률 1.67의 티오우레탄계의 수지 렌즈를 농도 13%의 NaOH 수용액중에 5분간 침지한 후, 충분히 수세하고, 건조하였다. 이어서 실시예 15∼26, 비교예 3의 코팅 조성물을, 마이크로 딥코터(microdip coater)((주)SDI제, NDO 408)를 이용하는 딥핑법에 의해, 인상속도 16.5mm/초로 렌즈 위에 도포하고, 25℃-15분, 80℃-30 분, 150℃-60분의 순서대로 경화시켜 막두께 2㎛의 드라이 필름(dry film)을 얻었다. 상기 피복 렌즈에 대하여, 이하의 방법에 따라, 투명성, 굴절율, 내찰상성 및 내광성을 시험하였다.

투명성 : 상기 피복 렌즈를 형광등으로 가리고, 이하의 판정 기준에 따라, 육안으로 흐림 정도(degree of cloudiness) 판정을 행하였다.

A : 흐리지 않음

B : 아주 조금 흐림

C : 조금 흐림

굴절률 : 렌즈의 굴절률을 엘립소미터(ellipsometer)((주)미조지리고가쿠고교쇼, 모델 DVA-FL3G)로 측정하였다.

내찰상성 : #0000 스틸 울(니폰 스틸 울(주)제)을 하중 300g/㎠로 상기 렌즈위에 10회 왕복시킨 후, 렌즈 상태를 관찰하고, 이하의 기준으로 평가하였다.

A : 전혀 상처가 나지 않음

B : 거의 상처가 나지 않음

C : 조금 상처가 남

D : 많이 상처가 남

내광성(광학부재) : 선샤인 웨더미터(sunshine weathermeter)로 렌즈를 300시간 폭로한 후, 렌즈 표면의 상태를 육안으로 관찰하였다. 투명성 감소가 관찰되지 않고, 변색 및/또는 크랙이 없는 렌즈를 "양호"로 평가하였다. 결과를 표 3에 나타낸다.

[표 3]

Claims

피복층을 가지는 이산화티탄졸 입자와, 졸의 액체 분산매를 포함하고, 상기 피복층은 (ⅰ) TiO₂ 환산한 상기 이산화티탄졸 입자의 중량에 대하여, SiO₂로 환산한 규소의 수화산화물을 10∼40중량% 및 (ⅱ) TiO₂ 환산한 상기 이산화티탄졸 입자의 중량에 대하여, SnO₂, Al₂O₃과 ZrO₂ 합계로서 환산한 산화주석, 산화알루미늄 및 산화지르코늄으로부터 선택된 적어도 1종 이상의 금속종의 수화산화물을 2~40중량% 포함하는 이산화티탄졸 조성물.
제 1 항에 있어서,

상기 피복층은 (ⅲ) TiO₂ 환산한 상기 이산화티탄졸 입자의 중량에 대하여, Sb₂O₅로 환산한 안티몬의 수화산화물을 0.5~10중량% 더 포함하는 이산화티탄졸 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

상기 이산화티탄졸 입자는 이산화주석을 SnO₂/TiO₂ 중량비 0.2 이하 및 이산화지르코늄을 ZrO₂/TiO₂ 중량비 0.1 이하로 포함하는 이산화티탄졸 조성물.
제 1 항에 있어서,

상기 액체 분산매가 수용성 유기용매인 이산화티탄졸 조성물.
(a) 이산화티탄 히드로졸을 제공하는 단계;

(b) 상기 이산화티탄 히드로졸에, 과산화수소, 지방족 또는 방향족 히드록시카르본산 및,

R¹이 C₁-C₈ 알킬기, 글리시독시 치환 C₁-C₈ 알킬기, 또는 C₂-C₈ 알케닐기, X가 알콕시기, n은 0 또는 1인

R¹ _nSiX_4-n

식의 알콕시실란 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 안정화제를 첨가하는 단계;

(c) 상기 이산화티탄 히드로졸을 첨가한 후의 혼합 알카린이 pH9 이상을 유지하기에 충분한 알칼리의 양을 함유한 수용성 규산염 또는 실리카졸 용액에, (a) 단계에서 준비된 안정화된 이산화티탄 히드로졸을 첨가하며, 상기 수용성 규산염 또는 실리카졸의 용액은 TiO₂ 환산한 상기 이산화티탄졸 입자의 중량에 대하여, SiO₂로 환산한 규산염 또는 실리카졸을 10~60중량% 함유하는 단계;

(d) 상기 혼합액의 pH를 9 이상으로 유지하면서 상기 안정화된 이산화티탄 히드로졸이 (c)단계에서 첨가된 후, 주석, 알루미늄 및 지르코늄으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 금속의 적어도 하나의 산화물 또는 수용성 염을 상기 혼합액에 첨가하며, SnO₂, Al₂O₃과 ZrO₂의 합계로서 환산한 상기 혼합액에 첨가된 상기 산화물 또는 수용성 염의 양은 TiO₂ 환산한 상기 이산화티탄 히드로졸의 중량에 대하여 10~40중량%인 단계;

(e) 상기 혼합액의 pH를 8 이하로 조절하는 단계; 및

(f) 상기 혼합액에서 전해 오염물을 제거하는 단계를 포함하는, 안정한 이산화티탄졸 조성물의 제조방법.
제 5 항에 있어서,

상기 이산화티탄 히드로졸의 입자는 이산화주석을 SnO₂/TiO₂ 중량비 0.2 이하 및 이산화지르코늄을 ZrO₂/TiO₂ 중량비 0.1 이하로 포함하는 제조방법.
제 5 항 또는 제 6 항에 있어서,

상기 주석, 알루미늄 및 지르코늄으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 금속의 적어도 하나의 산화물 또는 수용성 염의 첨가 전, 후 또는 동시에, 수용성 규산염 또는 실리카졸의 상기 용액에, 오산화안티몬졸을 첨가하는 단계를 더 포함하며, Sb₂O₅로 환산한 상기 오산화안티몬졸의 양은, TiO₂로 환산한 상기 이산화티탄 히드로졸의 중량에 대하여 0.5∼10중량%인 제조방법.
제 5 항에 있어서,

상기 (f) 단계 후, 상기 이산화티탄졸 조성물의 pH를 4~10의 범위에서 조정하는 단계를 더 포함하는 제조방법.
제 5 항 또는 제 6 항에 있어서,

상기 이산화티탄졸 조성물의 액체 분산매를 수용성 유기용매로 용매 치환하는 단계를 더 포함하고 있는 제조방법.
제 5 항 또는 제 6 항에 의해 얻어진 이산화티탄졸 조성물 및 경화성 바인더를 포함하는 광학부재 표면 위에 투명막을 형성하기 위한 코팅 조성물.
광학 기재와, 상기 광학 기재의 표면 위에 형성된 제 10 항의 코팅 조성물로 만들어진 경화막을 포함하는 광학부재.
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