JP5628123B2 - ペースト塗布装置およびペースト塗布方法 - Google Patents
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Description
この工程では、基板に塗布されるガラスペーストの高さ(塗布高さ)に高精度の均一性が要求されるため、印刷法によって基板にガラスペーストが塗布されることが多い。
また、スクリーンは極薄の部材であるため製造可能な大きさに限界がある。したがって、スクリーンを用いた印刷法で製造される有機ELパネルの大きさが制限されるという問題がある。
さらに、スクリーンは塗布パターンの部分のガラスペーストを基板に塗布する構成であり、塗布パターンが形成される部分以外はマスクされる部分となる。そしてマスク部分のガラスペーストは残留するため、この残留するガラスペーストが余剰分(無駄)となりガラスペーストの使用効率が低下するという問題がある。
例えば特許文献1には、前回ペーストを塗布したときのノズル高さに基づいて2回目以降にペーストを塗布するときのノズル高さを調節しながらノズルを移動してペーストを塗布するペースト塗布装置が記載されている。
特許文献1に記載されるペースト塗布装置は、ノズルが移動を開始する始点とノズルが移動を終了する終点の間でペーストがオーバーラップして塗布されるときに、ノズルがペーストを削り取ることを回避することについて検討されていない。
本実施形態に係るペースト塗布装置100は、図1に示すように、架台1、フレーム2、固定部3A,3B、可動部4A,4B、塗布ヘッド5、基板8を載置する基板保持盤6、制御部9、モニタ11、キ一ボード12を含んで構成される。
また、架台1の長手方向をX軸、幅方向をY軸、高さ方向(上下方向)をZ軸とする座標軸を設定する。
なお、図1には1つの塗布ヘッド5が図示されているが、複数の塗布ヘッド5が備わるペースト塗布装置100であってもよい。
X軸移動機構は、ボールねじ機構やリニアモータなどの駆動装置によって可動部4A,4Bが固定部3A,3Bに沿って移動可能に構成される。
さらに、架台1には、操作手段としてモニタ11やキーボード12が設けられ、ペースト塗布機100を制御する制御手段として制御部9が内蔵されている。
加圧源10は加圧配管10cを介して塗布ヘッド5に備わるシリンジ55に接続され、加圧した空気を供給してシリンジ55内を加圧し、塗布ヘッド5に吐出圧を供給する。加圧配管10cには加圧源10で加圧された空気を所望の圧力(吐出圧)に調圧する正圧レギュレータ10aと加圧された空気の流通を遮断するためのバルブ10bが備わっている。バルブ10bは制御部9からの制御信号に応じて加圧配管10cを開閉する電動式の開閉弁であって、バルブ10bが閉弁したときに加圧配管10cにおける空気の流通が遮断されるように構成される。
具体的には、ノズル高さNhが長くなるほど受光部による反射光の受光量が低下することから、光学式距離計54は、発光部での発光量に対する受光部での受光量の比率に基づいてノズル高さNhを計測するように構成される。
例えば、ペースト塗布装置100の制御部9(図1参照)は、図3の(a)に示すように、基板8における有機EL素子の蒸着部A1の周囲の1点(白丸)をノズル55aの移動を開始する始点Psとし、始点Psまでノズル55aを移動させる。つまり、始点Psが蒸着部A1の周囲の1点として設定される。
さらに制御部9は加圧配管10cに備わるバルブ10b(図1参照)に制御信号を送信して開弁する。適宜調圧された空気が正圧レギュレータ10a(図1参照)からシリンジ55(図1参照)に供給されることによってシリンジ55に吐出圧が供給される。シリンジ55の内部は吐出圧によって昇圧し、収納されているガラスペーストGpが吐出圧によってシリンジ55から押し出され、ノズル55aから連続して塗布される。
ノズル55aの移動にともなってノズル55aから塗布されるガラスペーストGpが蒸着部A1の周囲に連続的に塗布されてノズル55aの移動する軌跡に沿った塗布パターン(第1パターンPt1)が連続的に形成される。
バルブ10bが閉弁してシリンジ55(図1参照)への吐出圧の供給が停止されてもシリンジ55内は吐出圧の残圧による高圧の状態が続き、ノズル55aからのガラスペーストGpの塗布は継続される。そして、吐出圧の供給が停止されたシリンジ55の内部は徐々に減圧し、シリンジ55内部の減圧にともなってノズル55aからのガラスペーストGpの塗布量が減少し、シリンジ55の内部が大気圧程度まで減圧した時点でノズル55aからのガラスペーストGpの塗布が停止する。
さらに制御部9は加圧配管10cに備わるバルブ10b(図1参照)に制御信号を送信して開弁し、正圧レギュレータ10a(図1参照)から適宜調圧された空気をシリンジ55(図1参照)に供給する。シリンジ55に吐出圧が供給されてノズル55aからガラスペーストGpが連続的に塗布される。
例えば、塗布高さHtの基準値(基準塗布高さStdH)を「30μm」とする場合、制御部9はノズル高さNhを基準塗布高さStdHの「30μm」に維持して、つまり、基準塗布高さStdHをノズル高さNhの基準高さとしてノズル55aを移動する。例えば制御部9は、光学式距離計54(図2の(a)参照)の計測値を取得し、この計測値が基準塗布高さStdH(30μm)となるようにZ軸テーブル53(図2の(a)参照)をZ軸方向(上下方向)に移動してノズル高さNhを「30μm」に維持する。
また、レーザビームによって封止ガラスを接合する工程において、レーザビームが照射されたガラスペーストGpの温度を塗布パターンの全集に亘って均一にして封止ガラスを好適に接合するために、塗布高さHtが精度よく誤差管理されることが要求される。例えば、塗布パターンの全周に亘って、「30μm」の基準塗布高さStdHに対して「±10μm」程度の誤差(以下、許容誤差ΔHtと称する)に塗布高さHtの変化を抑え込むことができると好適に封止ガラスを接合できる。
そこで、制御部9は基準塗布高さStdH(30μm)に対して許容誤差ΔHt(±10μm)の範囲で変動するようにノズル高さNtを制御して塗布パターンを形成するように構成される。
つまり、許容誤差ΔHtは、ガラスペーストGpの塗布高さHtに許容される誤差である。
本発明の第1実施形態は、図3の(a)に示す第1パターンPt1の形状にガラスペーストGpを塗布するための実施形態である。
第1パターンPt1の形状にガラスペーストGpを塗布するとき、制御部9(図1参照)は、始点Psでバルブ10b(図1参照)に制御信号を送信して開弁し、ノズル高さNhを基準塗布高さStdHより低く設定してガラスペーストGpの塗布を開始する。例えば、制御部9(図1参照)は、図4の(a)に示すように、塗布高さHtに許容される許容誤差ΔHtに相当する量だけ基準塗布高さStdHより低いノズル高さNhでガラスペーストGpを塗布する。この状態で制御部9は所定の長さ(第1所定長L11)だけ蒸着部A1(図1参照)の周囲に沿ってノズル55aを移動した後、ノズル高さNhが基準塗布高さStdHとなるようにノズル55aを上昇させる。始点Psから第1所定長L11の間は、基準塗布高さStdHより許容誤差ΔHtだけ低い塗布高さHtでガラスペーストGpが塗布される。
そして、始端部形成工程は、蒸着部A1の周囲の1点を始点Psとし、蒸着部A1の周囲に沿ってノズル55aを移動して始端部101Sを形成する工程となる。
なお、始点Psから第1所定長L11に亘る部分の少なくとも一部で、ノズル高さNhを基準塗布高さStdHより許容誤差ΔHtに相当する量だけ低くしてノズル55aを移動する構成としてもよい。
例えば、オーバーラップ部101が形成される範囲だけ、ノズル高さNhを基準塗布高さStdHより許容誤差ΔHtに相当する量だけ低くしてノズル55aを移動する構成としてもよい。
シリンジ55(図1参照)への吐出圧の供給が停止され、吐出圧の残圧によってシリンジ55に収納されるガラスペーストGpをノズル55aから塗布する。
バルブ10bを閉弁する工程は、ガラスペーストGpのノズル55aからの塗布を停止させる工程(塗布停止工程)であり、制御部9は、終端部101Eを形成する工程(終端部形成工程)の実行より先に、ガラスペーストGpの塗布を停止させる塗布停止工程を実行する。
このときノズル55aからは吐出圧の残圧によってガラスペーストGpが塗布される。その状態で始点Psから先に塗布されたガラスペーストGpとオーバーラップするようにノズル55aが終点Peまで移動すると、ノズル55aから塗布されるガラスペーストGpが、先に塗布されているガラスペーストGpに重なって塗布されてオーバーラップ部101が形成される。
また、始点Psより第2所定長L12だけ手前の位置でバルブ10bが閉じられた後、終点Peまでノズル55aが移動する間にガラスペーストGpの塗布が停止し、さらに、始端部101Sに重ねてガラスペーストGpを塗布してオーバーラップ部101が形成されるように第2所定長L12が設定されることが好ましい。つまり、始端部101Sと終端部101Eが重なる部分の少なくとも一部でガラスペーストGpが重なって塗布される構成が好ましい。
本発明の第2実施形態は、図3の(b)に示す第2パターンPt2の形状にガラスペーストGpを塗布するための実施形態である。
第2パターンPt2の形状にガラスペーストGpを塗布するとき、制御部9(図1参照)は、基板8の平面上に略矩形に形成される蒸着部A1の1つの辺の延長線上に設定された始点Psでバルブ10b(図1参照)に制御信号を送信して開弁し、ノズル高さNhを基準塗布高さStdHより低く設定してガラスペーストGpの塗布を開始する。例えば、図5の(a)に示すように、塗布高さHtに許容される許容誤差ΔHtに相当する量だけ基準塗布高さStdHより低いノズル高さNhでガラスペーストGpを塗布する。制御部9は、この状態で所定の長さ(第5所定長L21)だけ、始点Psを延長線上に有する1辺に沿ってノズル55aを蒸着部A1の側に移動する。このように、基準塗布高さStdHより許容誤差ΔHtだけ低い塗布高さHtでガラスペーストGpが塗布される部分(始点Psから第5所定長L21に亘る範囲)が第2実施形態における始端部101Sとなる。始端部101Sの長さ(第5所定長L21)は、始点Psと蒸着部A1との距離以上の長さであることが好ましい。
なお、始点Psから第5所定長L21に亘る部分の少なくとも一部で、ノズル高さNhを基準塗布高さStdHより許容誤差ΔHtに相当する量だけ低くしてノズル55aを移動する構成としてもよい。
例えば、ガラスペーストGpが交差する交差点103の近傍だけ、ノズル高さNhを基準塗布高さStdHより許容誤差ΔHtに相当する量だけ低くしてノズル55aを移動する構成としてもよい。
制御部9がノズル高さNhを基準塗布高さStdHより許容誤差ΔHtに相当する量だけ上昇させてノズル55aを移動する部分が第2実施形態における終端部101Eとなる。
なお終端部101Eの長さ、つまり、制御部9がノズル高さNhを高くする、始端部101Sより第6所定長L22だけ手前の位置から終点Peまでの長さを第7所定値L23とする。
このように第2実施形態では、始端部101Sと終端部101Eとが交差点103で交差して第2パターンPt2(図3の(b)参照)が形成される。
したがって、蒸着部A1の周囲に塗布されたガラスペーストGpが始端部101Sに塗布されたガラスペーストGpとともにノズル55aによって削り取られることを防止でき、蒸着部A1の周囲におけるガラスペーストGpの塗布高さHtを基準塗布高さStdHから許容誤差ΔHtの範囲内に抑えることができる。
そして、第2パターンPt2の形成時における始点Psと終点Peの近傍の塗布高さHtを基準塗布高さStdHから許容誤差ΔHtの範囲内に抑えることができる。
55 シリンジ(ペースト収納部)
55a ノズル
100 ペースト塗布装置
101S 始端部
101E 終端部
A1 蒸着部(所定の領域)
Gp ガラスペースト(ペースト)
Ps 始点
Pe 終点
ΔHt 許容誤差
Claims (8)
- ペーストを連続して塗布するノズルを移動して、前記ペーストを基板の平面における所定の領域の周囲に連続して塗布するペースト塗布装置であって、
前記ノズルが移動を開始する始点から所定長に亘る始端部では、前記基板から前記ノズルまでのノズル高さを所定の基準高さより低くして前記ノズルを移動し、
前記ノズルが移動を終了する終点までの所定長に亘る終端部では、前記ノズル高さを前記基準高さより高くして前記ノズルを移動し、
前記始端部および前記終端部以外の部分では前記ノズル高さを前記基準高さとして前記ノズルを移動し、
さらに、前記始端部と前記終端部の少なくとも一部で前記ペーストが重なって塗布されるように前記ノズルを移動し、
前記始端部では、
前記基準高さを前記ノズル高さとして前記ノズルが移動するときに前記基板に塗布される前記ペーストの塗布高さに許容される許容誤差に相当する量だけ前記ノズル高さを前記基準高さより低くし、
前記終端部では、
前記許容誤差に相当する量だけ前記ノズル高さを前記基準高さより高くすることを特徴とするペースト塗布装置。 - 前記領域の周囲の1点を前記始点として当該領域の周囲に沿って前記始端部を形成し、前記領域の周囲の1点を前記終点として当該領域の周囲に沿って、かつ、前記始端部と少なくとも一部が重なって前記終端部を形成するように前記ノズルを移動することを特徴とする請求項1に記載のペースト塗布装置。
- 前記ペーストを収納するペースト収納部と、
前記ペーストを前記ノズルから塗布するために前記ペースト収納部に吐出圧を供給する加圧源と、を備え、
前記終端部が形成されるより先に前記加圧源から前記ペースト収納部への吐出圧の供給が停止されることを特徴とする請求項2に記載のペースト塗布装置。 - 前記領域の周囲から外方に外れた1点を前記始点として前記領域の周囲に向かって前記始端部を形成し、
前記領域の周囲から外方に外れた1点を前記終点として前記領域の周囲から当該終点に向かって、かつ、前記始端部と交差して前記終端部を形成するように前記ノズルを移動することを特徴とする請求項1に記載のペースト塗布装置。 - ペーストを連続して塗布するノズルを移動して、前記ペーストを基板の平面における所定の領域の周囲に連続して塗布するペースト塗布方法であって、
前記基板から前記ノズルまでのノズル高さを所定の基準高さより低くして前記ノズルを移動し、前記ノズルが移動を開始する始点から所定長に亘る始端部を形成する始端部形成工程と、
前記ノズル高さを前記基準高さより高くして前記ノズルを移動し、前記ノズルが移動を終了する終点までの所定長に亘る終端部を形成する終端部形成工程と、
前記始端部および前記終端部以外の部分で前記ノズル高さを前記基準高さにして前記ノズルを移動する標準移動工程と、を有し、
前記始端部と前記終端部の少なくとも一部で前記ペーストが重なって塗布されるように前記ノズルを移動し、
前記始端部形成工程では、
前記基準高さを前記ノズル高さとして前記ノズルを移動するときに前記基板に塗布される前記ペーストの塗布高さに許容される許容誤差に相当する量だけ前記ノズル高さを前記基準高さより低くし、
前記終端部形成工程では、
前記許容誤差に相当する量だけ前記ノズル高さを前記基準高さより高くすることを特徴とするペースト塗布方法。 - 前記始端部形成工程は、
前記領域の周囲の1点を前記始点とし、前記領域の周囲に沿って前記ノズルを移動して前記始端部を形成する工程であり、
前記終端部形成工程は、
前記領域の周囲の1点を前記終点とし、前記領域の周囲に沿って、かつ、前記始端部と少なくとも一部が重なるように前記ノズルを移動して前記終端部を形成する工程であること、を特徴とする請求項5に記載のペースト塗布方法。 - 前記終端部形成工程の実行より先に、前記ペーストの塗布を停止させる塗布停止工程が実行されることを特徴とする請求項6に記載のペースト塗布方法。
- 前記始端部形成工程は、
前記領域の周囲から外方に外れた1点を前記始点とし、前記領域の周囲に向かって前記ノズルを移動して前記始端部を形成する工程であり、
前記終端部形成工程は、
前記領域の周囲から外方に外れた1点を前記終点とし、前記領域の周囲から前記終点に向かって、かつ、前記始端部と交差するように前記ノズルを移動して前記終端部を形成する工程であること、を特徴とする請求項5に記載のペースト塗布方法。
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KR102158033B1 (ko) * | 2013-08-13 | 2020-09-21 | 주식회사 탑 엔지니어링 | 슬릿노즐을 이용하는 도포층 형성방법 및 도포장치 |
CN105750160B (zh) * | 2016-04-20 | 2018-11-13 | 东莞市凌电智能科技有限公司 | 一种麻将自动点漆机 |
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JP4683772B2 (ja) * | 2001-06-15 | 2011-05-18 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 発光装置の作製方法 |
JP3609359B2 (ja) | 2001-08-21 | 2005-01-12 | 株式会社 日立インダストリイズ | ペースト塗布機とペースト塗布方法 |
US6860947B2 (en) * | 2002-07-08 | 2005-03-01 | Dimension Bond Corporation | Apparatus for simultaneously coating and measuring parts |
JP3551379B2 (ja) * | 2002-08-30 | 2004-08-04 | 日本精機株式会社 | 封止装置 |
JP3829330B2 (ja) * | 2002-11-29 | 2006-10-04 | 日本精機株式会社 | 紫外線カットマスク及び封止装置 |
JP2005099300A (ja) * | 2003-09-24 | 2005-04-14 | Seiko Epson Corp | シール材描画方法及びシール材描画装置、液晶装置の製造方法及び液晶装置の製造装置 |
JP4746456B2 (ja) * | 2006-03-20 | 2011-08-10 | 株式会社東芝 | 液滴噴射塗布ヘッドモジュール、液滴噴射塗布装置及び塗布体の製造方法 |
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JP2010224338A (ja) * | 2009-03-25 | 2010-10-07 | Toshiba Corp | 封止構造体の製造装置及び封止構造体の製造方法 |
US8505337B2 (en) * | 2009-07-17 | 2013-08-13 | Corning Incorporated | Methods for forming fritted cover sheets and glass packages comprising the same |
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