CN103008167B - 糊剂涂敷装置以及糊剂涂敷方法 - Google Patents

Abstract

本发明以提供一种能够将玻璃糊剂的涂敷高度恰当地维持在规定的误差范围的糊剂涂敷装置以及糊剂涂敷方法为课题。本发明的糊剂涂敷装置以及糊剂涂敷方法的特征在于，在形成从喷嘴（55a）的始点（Ps）开始的始端部（101S）的部分，使喷嘴高度（Nh）比基准涂敷高度（StdH）低，喷嘴（55a）移动，在形成到喷嘴（55a）的终点（Pe）为止的终端部（101E）的部分，使喷嘴高度（Nh）比基准涂敷高度（StdH）高，喷嘴（55a）移动，在形成始端部（101S）的部分以及形成终端部（101E）的部分以外的部分，将喷嘴高度（Nh）作为基准涂敷高度（StdH），喷嘴（55a）移动，再有，在始端部（101S）和终端部（101E）的至少一部分，喷嘴（55a）以玻璃糊剂（Gp）被重叠地涂敷的方式移动。

Description

糊剂涂敷装置以及糊剂涂敷方法

技术领域

本发明涉及向基板涂敷糊剂的糊剂涂敷装置以及糊剂涂敷方法。

背景技术

在有机EL（ElectroLuminescence）面板的制造工序中，在向蒸镀了有机EL元件的基板粘合封闭用的玻璃（封闭玻璃）的工序中，向基板涂敷糊剂（玻璃糊剂），将封闭玻璃粘合，将激光束向玻璃糊剂照射，进行接合。

在该工序中，由于向基板涂敷的玻璃糊剂的高度（涂敷高度）要求高精度的均匀性，所以，大多通过印刷法向基板涂敷玻璃糊剂。

印刷法是使玻璃糊剂在形成有涂敷玻璃糊剂的图案（涂敷图案）的筛网通过，向基板涂敷的结构，存在有必要每个涂敷图案的形状都需要筛网这样的问题。

另外，由于筛网是极薄的部件，所以，能够制造的大小存在界限。因此，存在由使用了筛网的印刷法制造的有机EL面板的大小受到限制这样的问题。

再有，筛网是将涂敷图案的部分的玻璃糊剂向基板涂敷的结构，形成涂敷图案的部分以外的部分为被掩膜的部分。而且，由于掩膜部分的玻璃糊剂残留，所以，该残留的玻璃糊剂成为剩余部分（浪费），存在玻璃糊剂的使用效率降低这样的问题。

作为消除这样的印刷法的问题点而涂敷玻璃糊剂的方法，已知从沿涂敷图案移动的喷嘴将玻璃糊剂向基板涂敷的方法。

例如，专利文献1中记载了一面根据涂敷了上述糊剂时的喷嘴高度，调节第二次以后涂敷糊剂时的喷嘴高度，一面使喷嘴移动，涂敷糊剂的糊剂涂敷装置。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2002-316082号公报

在使喷嘴移动来涂敷糊剂的情况下，优选为了向蒸镀在基板上的有机EL元件的周围连续无裂缝地涂敷糊剂，而在喷嘴开始移动的始点和喷嘴结束移动的终点之间，玻璃糊剂被重叠地涂敷（重叠）的结构。通过该结构，能够在始点和终点之间，糊剂的涂敷不中断地无裂缝地连续涂敷糊剂。但是，在重叠的部分，若喷嘴与在先涂敷的玻璃糊剂接触，则玻璃糊剂被削除，再有，被削除的玻璃糊剂与在先涂敷的玻璃糊剂重叠，涂敷高度变高。因此，存在不能使玻璃糊剂的涂敷高度均匀这样的问题。

专利文献1记载的糊剂涂敷装置没有研究在糊剂在喷嘴开始移动的始点和喷嘴结束移动的终点之间被重叠地涂敷时，避免喷嘴将糊剂削除的情况。

因此，本发明以提供一种能够将玻璃糊剂的涂敷高度恰当地维持在规定的误差范围的糊剂涂敷装置以及糊剂涂敷方法为课题。

发明内容

为了解决上述课题，本发明做成使连续涂敷糊剂的喷嘴移动，将上述糊剂向基板的平面上的规定的区域的周围连续地涂敷的糊剂涂敷装置。而且，该糊剂涂敷装置的特征在于，在从上述喷嘴开始移动的始点开始的遍及规定长度的始端部，使从上述基板到上述喷嘴为止的喷嘴高度比规定的基准高度低，使上述喷嘴移动，在到上述喷嘴结束移动的终点为止的遍及规定长度的终端部，使上述喷嘴高度比上述基准高度高，使上述喷嘴移动，在上述始端部以及上述终端部以外的部分，将上述喷嘴高度作为上述基准高度，使上述喷嘴移动，再有，以在上述始端部和上述终端部的至少一部分重叠地涂敷上述糊剂的方式，使上述喷嘴移动。另外，成为像这样涂敷糊剂的糊剂涂敷方法。

发明效果

根据本发明，能够提供一种能够将玻璃糊剂的涂敷高度恰当地维持在规定的误差范围的糊剂涂敷装置以及糊剂涂敷方法。

附图说明

图1是糊剂涂敷装置的立体图。

图2的（a）是涂敷头的侧视图，（b）是涂敷头的立体图。

图3的（a）是表示向蒸镀部的周围涂敷玻璃糊剂的涂敷图案的第一图案的图，（b）是向蒸镀部的周围涂敷玻璃糊剂的涂敷图案的第二图案的图。

图4的（a）是表示第一图案的始端部的图，（b）是表示第一图案的终端部的图。

图5的（a）是表示第二图案的始端部的图，（b）是表示第二图案的终端部的图。

具体实施方式

下面，适当地参见图，对本发明的实施方式详细进行说明。

有关本实施方式的糊剂涂敷装置100如图1所示，包括架台1、机架2、固定部3A、3B、可动部4A、4B、涂敷头5、载置基板8的基板保持盘6、控制部9、监视器11、键盘12而构成。

另外，设定以架台1的长度方向为X轴，以宽度方向为Y轴，以高度方向（上下方向）为Z轴的坐标轴。

另外，虽然在图1中图示了一个涂敷头5，但也可以是具备多个涂敷头5的糊剂涂敷装置100。

另外，在架台1上设置包括固定部3A、3B和可动部4A、4B而构成的X轴移动机构。固定部3A、3B沿X轴方向被固定在架台1的例如Y轴方向的两端部，作为可动部4A、4B的导向器部件发挥功能。在固定部3A上可移动地具备可动部4A，在固定部3B上可移动地具备可动部4B，再有，跨可动部4A和可动部4B（即、沿Y轴方向）设置机架2。根据该结构，以在Y轴方向延伸的方式具备机架2。

X轴移动机构被构成为可通过滚珠丝杠机构、线性马达等驱动装置，使可动部4A、4B沿固定部3A、3B移动。

机架2具备可在长度方向（即、Y轴方向）移动的涂敷头5。以后，将用于使涂敷头5在机架2的长度方向移动的移动机构称为Y轴移动机构。Y轴移动机构被构成为可通过滚珠丝杠机构、线性马达等驱动装置，使涂敷头5沿机架2移动。

另外，在架台1的上面在固定部3A、3B之间的区域，作为载置在蒸镀部A1蒸镀有有机EL元件的基板8的工作台具备基板保持盘6。基板保持盘6被构成为能够由未图示出的吸附机构等将被载置的基板8固定。

再有，在架台1上，作为操作构件设置监视器11、键盘12，作为对糊剂涂敷机100进行控制的控制构件，内置着控制部9。

另外，糊剂涂敷装置100具备通过将空气加压并向涂敷头5具备的糊剂收纳部（注射器55）供给，而将用于将玻璃糊剂Gp从喷嘴55a排出的压力（排出压）向注射器55供给的加压源10。

加压源10经加压配管10c与涂敷头5具备的注射器55连接，供给加压了的空气，将注射器55内加压，将排出压向涂敷头5供给。加压配管10c具备将由加压源10加压的空气调压为所希望的压力（排出压）的正压调节器10a和用于将被加压的空气的流通隔断的阀门10b。阀门10b是与来自控制部9的控制信号相应地将加压配管10c开闭的电动式的开闭阀，被构成为在阀门10b闭阀时，加压配管10c中的空气的流通被隔断。

如图2的（a）、（b）所示，涂敷头5具有经Y轴移动机构可驱动地安装在机架2上的基台部50，基台部50具备机架2所具备的直线尺2a的检测器51。直线尺2a沿Y轴方向被延伸设置在机架2的一方的侧面，对它进行检测的检测器51与直线尺2a相向地被安装在基台部50。控制部9（参见图1）通过根据检测器51检测直线尺2a的结果控制Y轴移动机构，对涂敷头5（喷嘴55a）的Y轴方向进行位置控制。另外，优选X轴移动机构也具备未图示出的直线尺和检测器，能够进行涂敷头5（喷嘴55a）的X轴方向的位置控制的结构。

在涂敷头5的基台部50安装具备Z轴伺服马达52a的Z轴导向器52，在该Z轴导向器52安装通过Z轴伺服马达52a在Z轴方向（上下方向）移动的Z轴工作台53。另外，Z轴工作台53具备用于收纳玻璃糊剂Gp的糊剂收纳部（注射器55）。再有，注射器55具备用于将被收纳的糊剂（本实施方式中为玻璃糊剂Gp）向基板8（参见图1）涂敷的喷嘴55a和对从被载置在基板保持盘6上的基板8到喷嘴55a的高度（喷嘴高度Nh）进行计量的距离计（例如，光学式距离计54）。

图2的（b）所示的光学式距离计54包括发光部和受光部而构成，根据通过基板8反射发光部向基板8（参见图1）照射的光（激光）的反射光的受光量，计量从基板8到喷嘴55a的喷嘴高度Nh。

具体地说，由于喷嘴高度Nh越长，基于受光部的反射光的受光量越降低，所以，光学式距离计54被构成为根据受光部的受光量相对于发光部的发光量的比率，计量喷嘴高度Nh。

Z轴伺服马达52a通过控制部9（参见图1）的以设置在Z轴工作台53上的光学式距离计54的计量值为基础的控制，经Z轴工作台53使注射器55（喷嘴55a）在Z轴方向，即、上下方向移动。

像上述那样构成的糊剂涂敷装置100（参见图1）例如是像图3的（a）所示那样，向蒸镀有有机EL元件的基板8涂敷用于将封闭玻璃接合的玻璃糊剂Gp的装置，例如，以将大致矩形的平面形状且蒸镀有有机EL元件的蒸镀部A1作为规定的区域在其周围以规定的高度（涂敷高度Ht）堆积玻璃糊剂Gp的方式进行涂敷。被糊剂涂敷装置100涂敷了玻璃糊剂Gp的基板8在下一个工序被粘合封闭玻璃，然后，向玻璃糊剂Gp照射激光束，封闭玻璃被接合。此时，为使有机EL元件的蒸镀部A1成为真空状态，封闭玻璃在真空的作业环境被真空粘贴。

要求形成在基板8上的有机EL元件的蒸镀部A1由玻璃糊剂Gp和封闭玻璃维持真空状态，要求糊剂涂敷装置100（参见图1）向大致矩形地蒸镀了有机EL元件的蒸镀部A1的周围连续无裂缝地涂敷玻璃糊剂Gp。

例如，糊剂涂敷装置100的控制部9（参见图1）如图3的（a）所示，将基板8中的有机EL元件的蒸镀部A1的周围的1点（白圈）作为喷嘴55a开始移动的始点Ps，使喷嘴55a移动到始点Ps。即、始点Ps作为蒸镀部A1的周围的1点被设定。

再有，控制部9向加压配管10c具备的阀门10b（参见图1）传输控制信号，进行开阀。通过被适当调压了的空气从正压调节器10a（参见图1）向注射器55（参见图1）供给，向注射器55供给排出压。注射器55的内部因排出压而升压，被收纳的玻璃糊剂Gp因排出压而从注射器55被推出，从喷嘴55a连续地被涂敷。

在该状态下，控制部9（参见图1）使喷嘴55a沿着蒸镀部A1的周围移动。在喷嘴55a在X轴方向移动的情况下，控制部9通过X轴移动机构，使可动部4A、4B（参见图1）沿固定部3A、3B（参见图1）移动。另外，在使喷嘴55a在Y轴方向移动的情况下，控制部9通过Y轴移动机构，使涂敷头5沿机架2（参见图1）移动。

伴随着喷嘴55a的移动，从喷嘴55a涂敷的玻璃糊剂Gp被连续地涂敷在蒸镀部A1的周围，连续形成沿着喷嘴55a的移动的轨迹的涂敷图案（第一图案Pt1）。

而且，若喷嘴55a绕蒸镀部A1的周围一圈，返回始点Ps的位置，则控制部9（参见图1）向加压配管10c具备的阀门10b（参见图1）传输控制信号，进行闭阀。再有，控制部9以沿着在先涂敷的玻璃糊剂Gp上重叠的方式，使喷嘴55a移动到喷嘴55a结束移动的终点Pe（白四边）。即、终点Pe也作为蒸镀部A1的周围的1点被设定。

即使阀门10b闭阀，排出压向注射器55（参见图1）的供给停止，注射器55内持续基于排出压的残压的高压的状态，来自喷嘴55a的玻璃糊剂Gp的涂敷继续。而且，排出压的供给停止了的注射器55的内部逐渐减压，伴随着注射器55内部的减压，来自喷嘴55a的玻璃糊剂Gp的涂敷量减少，在注射器55的内部减压至大气压程度的时刻，停止来自喷嘴55a的玻璃糊剂Gp的涂敷。

通过在像这样涂敷玻璃糊剂Gp的涂敷图案设置在从始点Ps到终点Pe之间重叠地涂敷玻璃糊剂Gp的重叠部101，能够通过玻璃糊剂Gp的涂敷在蒸镀部A1的周围形成连续的没有裂缝的矩形的第一图案Pt1。

或者，如图3的（b）所示，控制部9将始点Ps（白圈）设定在呈大致矩形的蒸镀部A1的一个边的延长线上的一点，使喷嘴55a移动到始点Ps。根据该结构，始点Ps被设定为从蒸镀部A1的周围向外方离开的一点。

再有，控制部9向加压配管10c具备的阀门10b（参见图1）传输控制信号，进行开阀，从正压调节器10a（参见图1）向注射器55（参见图1）供给被适当调压的空气。向注射器55供给排出压，从喷嘴55a连续地涂敷玻璃糊剂Gp。

在该状态下，控制部9（参见图1）使喷嘴55a沿蒸镀部A1的周围移动。从喷嘴55a涂敷的玻璃糊剂Gp被涂敷在蒸镀部A1的周围，连续形成沿喷嘴55a的移动的轨迹的涂敷图案（第二图案Pt2）。而且，在喷嘴55a绕蒸镀部A1的周围一圈，到达从始点Ps到蒸镀部A1涂敷了玻璃糊剂Gp的部分（将该部分称为始端部101S）时，控制部9使喷嘴55a以将始端部101S横穿的方式移动，将适当决定的一点（白四边）设定为终点Pe，使喷嘴55a停止。而且，控制部9向加压配管10c具备的阀门10b（参见图1）传输控制信号，进行闭阀。根据该结构，终点Pe被设定为从蒸镀部A1的周围向外方离开的一点。

通过在像这样涂敷玻璃糊剂Gp的涂敷图案设置玻璃糊剂Gp交叉的交叉点103（黑圈），能够通过玻璃糊剂Gp的涂敷在蒸镀部A1的周围形成连续的没有裂缝的形状的第二图案Pt2。

另外，控制部9（参见图1）在按照第一图案Pt1或者第二图案Pt2将玻璃糊剂Gp向基板8涂敷时，将喷嘴高度Nh调节为向基板8涂敷的玻璃糊剂Gp的涂敷高度Ht，使喷嘴55a移动。

例如，在使涂敷高度Ht的基准值（基准涂敷高度StdH）为[30μm]的情况下，控制部9将喷嘴高度Nh维持在基准涂敷高度StdH的[30μm]，即、将基准涂敷高度StdH作为喷嘴高度Nh的基准高度，使喷嘴55a移动。例如，控制部9获取光学式距离计54（参见图2的（a））的计量值，以使该计量值成为基准涂敷高度StdH（30μm）的方式，使Z轴工作台53（参见图2的（a））在Z轴方向（上下方向）移动，将喷嘴高度Nh维持在[30μm]。

在将封闭玻璃接合的工序中，为使因激光束的照射而产生的玻璃糊剂Gp的温度上升遍及涂敷图案（第一图案Pt1、第二图案Pt2）的全周均匀，优选玻璃糊剂Gp的涂敷高度Ht遍及涂敷图案的全周均匀。因此，控制部9（参见图1）被构成为能够高精度地将喷嘴高度Nh维持在基准涂敷高度StdH，使喷嘴55a（参见图2的（a））移动。

这样，以向基板8涂敷的玻璃糊剂Gp的涂敷高度Ht维持基准涂敷高度StdH（例如，30μm）的方式，通过玻璃糊剂Gp的涂敷，形成涂敷图案（第一图案Pt1、第二图案Pt2）。

另外，在由激光束将封闭玻璃接合的工序中，为使被照射了激光束的玻璃糊剂Gp的温度遍及涂敷图案的全周均匀，恰当地将封闭玻璃接合，要求涂敷高度Ht被高精度地误差管理。例如，若遍及涂敷图案的全周，能够相对于[30μm]的基准涂敷高度StdH，将涂敷高度Ht的变化抑制在[±10μm]程度的误差（下称允许误差△Ht），则能够恰当地将封闭玻璃接合。

因此，控制部9被构成为将喷嘴高度Nt控制成相对于基准涂敷高度StdH（30μm）在允许误差△Ht（±10μm）的范围变动，形成涂敷图案。

即、允许误差△Ht是玻璃糊剂Gp的涂敷高度Ht所允许的误差。

但是，在图3的（a）所示的第一图案Pt1中，存在在重叠部101，玻璃糊剂Gp的涂敷高度Ht比基准涂敷高度StdH高的情况。例如，存在在喷嘴55a从始点Ps向终点Pe以与在先涂敷的玻璃糊剂Gp重叠的方式移动时，若喷嘴55a与在先涂敷的玻璃糊剂Gp接触，则玻璃糊剂Gp被喷嘴55a削除的情况。在这种情况下，存在虽然从喷嘴55a向喷嘴55a的行进方向后方重新涂敷玻璃糊剂Gp，但在行进方向前方，玻璃糊剂Gp被喷嘴55a削除，若在终点Pe喷嘴55a的移动停止，则被削除的玻璃糊剂Gp积蓄在与行进方向前方相当的位置，涂敷高度Ht变高的情况。

另外，在图3的（b）所示的第二图案Pt2中，存在在玻璃糊剂Gp交叉的交叉点103，喷嘴55a一面将涂敷在始端部101S的玻璃糊剂Gp削除，一面移动的情况。在这种情况下，存在与始端部101S连续地涂敷在蒸镀部A1的周围的玻璃糊剂Gp与始端部101S一起被削除，玻璃糊剂Gp的涂敷高度Ht变低的情况。

因此，有关本实施方式的控制部9（参见图1）对涂敷头5（喷嘴55a）的动作进行控制，以便能够恰当地管理通过玻璃糊剂Gp的涂敷而形成的涂敷图案中的始点Ps以及终点Pe的附近的涂敷高度Ht。

《第一实施方式》

本发明的第一实施方式是用于将玻璃糊剂Gp涂敷成图3的（a）所示的第一图案Pt1的形状的实施方式。

在将玻璃糊剂Gp涂敷成第一图案Pt1的形状时，控制部9（参见图1）在始点Ps向阀门10b（参见图1）传输控制信号，进行开阀，将喷嘴高度Nh设定得比基准涂敷高度StdH低，开始玻璃糊剂Gp的涂敷。例如，控制部9（参见图1）像图4的（a）所示那样，以比基准涂敷高度StdH低与涂敷高度Ht所允许的允许误差△Ht相当的量的喷嘴高度Nh涂敷玻璃糊剂Gp。在该状态下，控制部9使喷嘴55a沿蒸镀部A1（参见图1）的周围移动了规定的长度（第一规定长度L11）后，使喷嘴55a上升，以便使喷嘴高度Nh成为基准涂敷高度StdH。在从始点Ps到第一规定长度L11之间，以比基准涂敷高度StdH低允许误差△Ht的涂敷高度Ht涂敷玻璃糊剂Gp。

在第一实施方式中，将该从始点Ps开始的遍及规定长度（第一规定长度L11）的部分称为始端部101S。即、控制部9（参见图1）执行使喷嘴高度Nh比基准涂敷高度StdH低与允许误差△Ht相当的量，使喷嘴55a移动，沿蒸镀部A1（参见图3的（a））的周围形成遍及第一规定长度L11的始端部101S的工序（始端部形成工序）。据此，从始点Ps开始的遍及第一规定长度L11（始端部101S），以比基准涂敷高度StdH低允许误差△Ht的涂敷高度Ht涂敷玻璃糊剂Gp。另外，始端部101S沿蒸镀部A1的周围形成。

而且，始端部形成工序是将蒸镀部A1的周围的一点作为始点Ps，使喷嘴55a沿蒸镀部A1的周围移动，形成始端部101S的工序。

另外，也可以做成在从始点Ps开始的遍及第一规定长度L11的部分的至少一部分，使喷嘴高度Nh比基准涂敷高度StdH低与允许误差△Ht相当的量，使喷嘴55a移动的结构。

例如，也可以做成仅在形成重叠部101的范围，使喷嘴高度Nh比基准涂敷高度StdH低与允许误差△Ht相当的量，使喷嘴55a移动的结构。

例如，在基准涂敷高度StdH为[30μm]，允许误差△Ht为[±10μm]时，控制部9（参见图1）在从始点Ps开始的遍及第一规定长度L11的部分（始端部101S），使喷嘴高度Nh为[20μm（30μm-10μm）],涂敷玻璃糊剂Gp。此后，控制部9使喷嘴55a上升，直至喷嘴高度Nh达到基准涂敷高度StdH（30μm）,涂敷玻璃糊剂Gp。

在喷嘴55a绕蒸镀部A1（参见图3的（a））的周围大致一圈，像图4的（b）所示那样，从始点Ps来到规定的长度（第二规定长度L12）的近前的位置时，控制部9（参见图1）执行使阀门10b（参见图1）闭阀的工序，向阀门10b传输控制信号，进行闭阀。

停止向注射器55（参见图1）供给排出压，通过排出压的残压，从喷嘴55a涂敷被注射器55收纳的玻璃糊剂Gp。

使阀门10b闭阀的工序是使玻璃糊剂Gp从喷嘴55a的涂敷停止的工序（涂敷停止工序），控制部9在先于执行形成终端部101E的工序（终端部形成工序），执行使玻璃糊剂Gp的涂敷停止的涂敷停止工序。

再有，在喷嘴55a从始点Ps来到比第二规定长度L12短的规定的长度（第三规定长度L13）的位置时，控制部9（参见图1）使Z轴工作台53（参见图2的（a））上升，使喷嘴55a上升，提高喷嘴高度Nh。具体地说，控制部9使喷嘴55a上升与允许误差△Ht相当的量。例如，在基准涂敷高度StdH为[30μm]，允许误差△Ht为[±10μm]时，控制部9使喷嘴55a上升10μm，使基准涂敷高度StdH（30μm）的喷嘴高度Nh为[40μm（30μm＋10μm）]。这样，在第一实施方式中，将以比基准涂敷高度StdH高的喷嘴高度Nh使喷嘴55a移动的部分称为终端部101E。而且，将终端部101E的长度作为第四规定长度L14。即、终端部101E是到终点Pe为止的遍及第四规定长度L14的部分，被形成在蒸镀部A1（参见图3的（a））的周围。另外，在第一图案Pt1中，在终端部101E，至少向其一部分以比基准涂敷高度StdH高允许误差△Ht的涂敷高度Ht涂敷玻璃糊剂Gp。

另外，在第一实施方式中，先于形成喷嘴高度Nh变高的终端部101E，停止排出压从加压源10（参见图1）向注射器55（参见图1）的供给。

此时，通过排出压的残压从喷嘴55a涂敷玻璃糊剂Gp。若在该状态下，喷嘴55a从始点Ps与在先涂敷的玻璃糊剂Gp重叠地移动到终点Pe，则从喷嘴55a涂敷的玻璃糊剂Gp与在先涂敷的玻璃糊剂Gp重叠地被涂敷，形成重叠部101。

此时的玻璃糊剂Gp的涂敷量是因注射器55（参见图2的（a））的残压的大小而变动的量，并非被控制的涂敷量。但是，由于在重叠部101，先行以比基准涂敷高度StdH低允许误差△Ht的涂敷高度Ht涂敷玻璃糊剂Gp，所以，在向其上新重叠地涂敷玻璃糊剂Gp的情况下，能够确保涂敷高度Ht在比基准涂敷高度StdH低允许误差△Ht的高度以上。

另外，即使在喷嘴55a到达终点Pe前，注射器55的内部降低至大致大气压，玻璃糊剂Gp的涂敷停止，也能够确保比基准涂敷高度StdH低允许误差△Ht的涂敷高度。换言之，不存在涂敷高度Ht在始端部101S比基准涂敷高度StdH低到超过允许误差△Ht的情况。另外，由于喷嘴高度Nh比基准涂敷高度StdH高与允许误差△Ht相当的量，所以，不存在比基准涂敷高度StdH超过允许误差△Ht地涂敷玻璃糊剂Gp的情况。由于上述情况，能够在始端部101S，将玻璃糊剂Gp的涂敷高度Ht相对于基准涂敷高度StdH抑制在允许误差△Ht的范围内。

另外，即使是在始端部101S在先涂敷的玻璃糊剂Gp的涂敷高度Ht比基准涂敷高度StdH高的情况下，由于与始端部101S重叠地移动的喷嘴55a的喷嘴高度Ht比基准涂敷高度StdH高与允许误差△Ht相当的量，所以，在始端部101S在先被涂敷的玻璃糊剂Gp和喷嘴55a的接触得到防止，不存在由喷嘴55a将玻璃糊剂Gp削除的情况。因此，因被喷嘴55a削除的玻璃糊剂Gp而使涂敷高度Ht变高的情况得到防止。

另外，优选始端部101S的规定长度（第一规定长度L11）、从阀门10b（参见图1）被闭阀的始点Ps开始的第二规定长度L12、从使喷嘴55a上升的始点Ps开始的第三规定长度L13以及终端部101E的规定长度（第四规定长度L14）是通过事先的实验计量等恰当地设定的值。

例如，优选以喷嘴55a在遍及第四规定长度L14形成的终端部101E移动期间，喷嘴55a与始端部101S重叠地移动的方式，设置第三规定长度L13以及第四规定长度L14。另外，优选以终点Pe重叠地形成在始端部101S的位置的方式，设定始端部101S的第一规定长度L11。即、优选做成至少一部分与始端部101S重叠的方式形成终端部101E的结构。

另外，优选以在距始点Ps第二规定长度L12的近前的位置阀门10b被关闭，此后，在喷嘴55a移动到终点Pe期间停止玻璃糊剂Gp的涂敷，进而，与始端部101S重叠地涂敷玻璃糊剂Gp，形成重叠部101的方式设定第二规定长度L12。即、优选做成在始端部101S和终端部101E重叠的部分的至少一部分玻璃糊剂Gp被重叠地涂敷的结构。

根据该结构，终端部形成工序成为将蒸镀部A1（参见图3的（a））的周围的一点作为终点Pe，使喷嘴55a沿蒸镀部A1的周围且以至少一部分与始端部101S重叠的方式移动，形成终端部101E的工序。

根据上述那样的结构，由于在绕蒸镀部A1（参见图3的（a））大致一圈的喷嘴55a到达始点Ps前（距始点Ps第三规定长度L13的近前的位置）喷嘴高度Nh高与允许误差△Ht相当的量，所以，即使是在先涂敷在始端部101S的玻璃糊剂Gp的涂敷高度Ht比基准涂敷高度StdH高的情况下，也能够避免喷嘴55a与被涂敷在始端部101S的玻璃糊剂Gp接触，将玻璃糊剂Gp削除的情况。而且，因被喷嘴55a削除的玻璃糊剂Gp而使涂敷高度Ht高到超过允许误差△Ht的情况得到防止。

这样，控制部9（参见图1）执行使喷嘴高度Nh比基准涂敷高度StdH高与允许误差△Ht相当的量，使喷嘴55a移动，以沿蒸镀部A1（参见图3的（a））的周围且至少一部分与始端部101S重叠的方式，形成到终点Pe为止的遍及第四规定长度L14的终端部101E的终端部形成工序，形成终端部101E。

再有，控制部9执行在从始端部101S到终端部101E之间（始端部101S和终端部101E以外的部分）使喷嘴高度Nh为基准涂敷高度StdH，使喷嘴55a移动的工序（标准移动工序），使喷嘴55a沿第一图案Pt1移动，将玻璃糊剂Gp向基板8（参见图1）涂敷。

如上所述，在沿图3的（a）所示的第一图案Pt1涂敷玻璃糊剂Gp的第一实施方式中，控制部9（参见图1）执行形成始端部101S的始端部形成工序，像图4的（a）所示那样，在从始点Ps开始的遍及第一规定长度L11的始端部101S，以比基准涂敷高度StdH低允许误差△Ht的涂敷高度Ht涂敷玻璃糊剂Gp。再有，控制部9执行形成终端部101E的终端部形成工序，在距始点Ps第三规定长度L13的近前的位置使喷嘴高度Nh高与允许误差△Ht相当的量，以与始端部101S重叠的方式，使喷嘴55a遍及第四规定长度L14移动到终点Pe。而且，在始端部形成工序和终端部形成工序之间，执行使喷嘴高度Nh为基准涂敷高度StdH，使喷嘴55a移动的标准移动工序，将玻璃糊剂Gp向基板8涂敷。根据该结构，在通过玻璃糊剂Gp的涂敷形成第一图案Pt1时，能够将始点Ps和终点Pe附近的涂敷高度Ht抑制在从基准涂敷高度StdH到允许误差△Ht的范围内。

《第二实施方式》

本发明的第二实施方式是用于将玻璃糊剂Gp涂敷成图3的（b）所示的第二图案Pt2的形状的实施方式。

在将玻璃糊剂Gp涂敷成第二图案Pt2的形状时，控制部9（参见图1）在被设定在被大致矩形地形成在基板8的平面上的蒸镀部A1的一个边的延长线上的始点Ps，向阀门10b（参见图1）传输控制信号，进行开阀，将喷嘴高度Nh设定得比基准涂敷高度StdH低，开始玻璃糊剂Gp的涂敷。例如，如图5的（a）所示，以比基准涂敷高度StdH低与涂敷高度Ht所允许的允许误差△Ht相当的量的喷嘴高度Nh涂敷玻璃糊剂Gp。控制部9在该状态下，使喷嘴55a沿在延长线上具有始点Ps的一边向蒸镀部A1侧移动规定的长度（第五规定长度L21）。这样，以比基准涂敷高度StdH低允许误差△Ht的涂敷高度Ht被涂敷玻璃糊剂Gp的部分（从始点Ps开始的遍及第五规定长度L21的范围）成为第二实施方式中的始端部101S。优选始端部101S的长度（第五规定长度L21）是始点Ps和蒸镀部A1的距离以上的长度。

在第二图案Pt2中，始点Ps是从蒸镀部A1的周围向外方离开的一点，控制部9（参见图1）执行使喷嘴高度Nh比基准涂敷高度StdH低与允许误差△Ht相当的量，使喷嘴55a从始点Ps朝向蒸镀部A1的周围移动，形成遍及第五规定长度L21的始端部101S的始端部形成工序。

在始端部101S的第五规定长度L21比始点Ps和蒸镀部A1的距离长的情况下，在蒸镀部A1的周围的一部分形成始端部101S。但是，始端部101S是比基准涂敷高度StdH低允许误差△Ht的涂敷高度Ht，即使是在始端部101S被形成在蒸镀部A1的周围的一部分的情况下，也能够将蒸镀部A1的周围的涂敷高度Ht相对于基准涂敷高度StdH抑制在允许误差△Ht的范围。

例如，在基准涂敷高度StdH为[30μm]，允许误差△Ht为[±10μm]时，控制部9（参见图1）在从始点Ps开始的遍及第五规定长度L21的部分（始端部101S），使喷嘴高度Nh为[20μm（30μm-10μm）],涂敷玻璃糊剂Gp。此后，控制部9使喷嘴高度Nh为基准涂敷高度StdH（30μm），向蒸镀部A1的周围涂敷玻璃糊剂Gp。

另外，也可以做成在从始点Ps开始的遍及第五规定长度L21的部分的至少一部分，使喷嘴高度Nh比基准涂敷高度StdH低与允许误差△Ht相当的量，使喷嘴55a移动的结构。

例如，也可以做成仅在玻璃糊剂Gp交叉的交叉点103的附近，使喷嘴高度Nh比基准涂敷高度StdH低与允许误差△Ht相当的量，使喷嘴55a移动的结构。

在喷嘴55a绕蒸镀部A1的周围大致一圈，如图5的（b）所示，来到在与始端部101S正交的边上，距始端部101S规定的长度（第六规定长度L22）的近前的位置时，控制部9（参见图1）使喷嘴55a上升。具体地说，控制部9使喷嘴55a上升与允许误差△Ht相当的量。例如，在基准涂敷高度StdH为[30μm]，允许误差△Ht为[±10μm]时，控制部9使喷嘴55a上升10μm，使基准涂敷高度StdH（30μm）的喷嘴高度Nh为[40μm（30μm＋10μm）]。

在该状态下，控制部9（参见图1）使喷嘴55a以将始端部101S横穿的方式移动，在适当设定的终点Pe使喷嘴55a的移动停止。进而，控制部9向阀门10b（参见图1）传输控制信号，进行闭阀。

控制部9使喷嘴高度Nh从基准涂敷高度StdH上升与允许误差△Ht相当的量，使喷嘴55a移动的部分成为第二实施方式中的终端部101E。

另外，将终端部101E的长度，即、距从控制部9使喷嘴高度Nh升高的始端部101S第六规定长度L22的近前的位置到终点Pe为止的长度成为第七规定值L23。

这样，在第二实施方式中，始端部101S和终端部101E在交叉点103交叉，形成第二图案Pt2（参见图3的（b））。

即、控制部9（参见图1）执行使喷嘴高度Nh从基准涂敷高度StdH升高与允许误差△Ht相当的量，且以朝向从蒸镀部A1的周围向外方离开的终点Pe，且在交叉点103与始端部101S交叉的方式使喷嘴55a移动，形成遍及第七规定长度L23的终端部101E的终端部形成工序。

再有，控制部9执行在从始端部101S到终端部101E之间（始端部101S和终端部101E以外的部分），使喷嘴高度Nh为基准涂敷高度StdH，使喷嘴55a移动的标准移动工序，使喷嘴55a沿第二图案Pt2（参见图3的（b））移动，将玻璃糊剂Gp向基板8（参见图1）涂敷。

另外，从控制部9（参见图1）使喷嘴55a开始上升的始端部101S开始的规定的长度（第六规定长度L22）只要是喷嘴55a在朝向始端部101S移动第六规定长度L22期间，能够从基准涂敷高度StdH上升与允许误差△Ht相当的量的长度即可。

在始端部101S的涂敷高度Ht和将始端部101S横穿时的喷嘴55a的喷嘴高度Nh相等的情况下，存在因误差等导致喷嘴55a与在先涂敷在始端部101S的玻璃糊剂Gp接触，玻璃糊剂Gp被削除的情况。此时，若沿蒸镀部A1涂敷的玻璃糊剂Gp的一部分与始端部101S的玻璃糊剂Gp一起被削除，则该部分的涂敷高度Ht变低，蒸镀部A1的周围的涂敷高度Ht不再均匀。

在第二实施方式中，由于使涂敷在始端部101S的玻璃糊剂Gp的涂敷高度Ht比基准涂敷高度StdH低允许误差△Ht，另外，使喷嘴55a将始端部101S横穿时的喷嘴高度Nh比基准涂敷高度StdH高与允许误差△Ht相当的量，所以，能够在喷嘴55a将始端部101S横穿时，避免喷嘴55a与被涂敷在始端部101S的玻璃糊剂Gp接触。

因此，能够防止被涂敷在蒸镀部A1的周围的玻璃糊剂Gp与涂敷在始端部101S的玻璃糊剂Gp一起被喷嘴55a削除，能够将蒸镀部A1的周围的玻璃糊剂Gp的涂敷高度Ht抑制在从基准涂敷高度StdH到允许误差△Ht的范围内。

另外，终端部101E的喷嘴高度Nh从基准涂敷高度StdH高与允许误差△Ht相当的量，能够将终端部101E的玻璃糊剂Gp的涂敷高度Ht抑制在从基准涂敷高度StdH到允许误差△Ht的范围内。

如上所述，在沿图3的（b）所示的第二图案Pt2涂敷玻璃糊剂Gp的第二实施方式中，控制部9（参见图1）执行形成始端部101S（参见图5的（a））的始端部形成工序，从始点Ps开始的遍及第五规定长度L21，以比基准涂敷高度StdH低允许误差△Ht的涂敷高度Ht涂敷玻璃糊剂Gp，形成始端部101S。再有，控制部9在喷嘴55a绕有机EL元件的蒸镀部A1的周围大致一圈时，执行形成终端部101E（参见图5的（b））的终端部形成工序，在距始端部101S第六规定长度L22的近前的位置，使喷嘴高度Nh高与允许误差△Ht相当的量，以喷嘴55a将始端部101S横穿的方式使喷嘴55a移动。而且，在始端部形成工序和终端部形成工序之间，执行使喷嘴高度Nh为基准涂敷高度StdH，使喷嘴55a移动的标准移动工序，将玻璃糊剂Gp向基板8涂敷。

根据该结构，能够避免喷嘴55a将始端部101S横穿时与在先涂敷的玻璃糊剂Gp接触的情况，能够防止喷嘴55a将玻璃糊剂Gp削除。

而且，能够将形成第二图案Pt2时的始点Ps和终点Pe附近的涂敷高度Ht抑制在从基准涂敷高度StdH到允许误差△Ht的范围内。

另外，本发明在沿除图3的（a）所示的第一图案Pt1以及图3的（b）所示的第二图案Pt2以外的形状的涂敷图案涂敷玻璃糊剂Gp的情况下，也能够应用。

符号说明

8：基板；55：注射器（糊剂收纳部）；55a：喷嘴；100：糊剂涂敷装置；101S：始端部；101E：终端部；A1：蒸镀部（规定的区域）；Gp：玻璃糊剂（糊剂）；Ps：始点；Pe：终点；△Ht：允许误差。

Claims (8)

1.一种糊剂涂敷装置，是使连续涂敷糊剂的喷嘴移动，将上述糊剂连续地涂敷在基板的平面上的规定的区域的周围的糊剂涂敷装置，其特征在于，

在从上述喷嘴开始移动的始点开始的遍及规定长度的始端部，以从上述基板到上述喷嘴为止的喷嘴高度比规定的基准高度低的方式，使上述喷嘴移动，

在到上述喷嘴结束移动的终点为止的遍及规定长度的终端部，以上述喷嘴高度比上述基准高度高的方式，使上述喷嘴移动，

在上述始端部以及上述终端部以外的部分将上述喷嘴高度作为上述基准高度，使上述喷嘴移动，

再有，以在上述始端部和上述终端部的至少一部分重叠地涂敷上述糊剂的方式，使上述喷嘴移动，

在上述始端部，使上述喷嘴高度比上述基准高度低与允许误差相当的量，所述允许误差是在将上述基准高度作为上述喷嘴高度使上述喷嘴移动时向上述基板涂敷的上述糊剂的涂敷高度所允许的误差，

在上述终端部，使上述喷嘴高度比上述基准高度高与上述允许误差相当的量。

2.如权利要求1所述的糊剂涂敷装置，其特征在于，以将上述区域的周围的一点作为上述始点，沿该区域的周围形成上述始端部，将上述区域的周围的一点作为上述终点，沿该区域的周围且至少一部分与上述始端部重叠地形成上述终端部的方式，使上述喷嘴移动。

3.如权利要求2所述的糊剂涂敷装置，其特征在于，具备：收纳上述糊剂的糊剂收纳部、以及为从上述喷嘴涂敷上述糊剂而向上述糊剂收纳部供给排出压的加压源，

先于形成上述终端部，停止从上述加压源向上述糊剂收纳部供给排出压。

4.如权利要求1所述的糊剂涂敷装置，其特征在于，以将从上述区域的周围向外方离开的一点作为上述始点，朝向上述区域的周围形成上述始端部，

将从上述区域的周围向外方离开的一点作为上述终点，从上述区域的周围朝向该终点，且与上述始端部交叉地形成上述终端部的方式，使上述喷嘴移动。

5.一种糊剂涂敷方法，是使连续涂敷糊剂的喷嘴移动，将上述糊剂向基板的平面上的规定的区域的周围连续涂敷的糊剂涂敷方法，其特征在于，具有：

以从上述基板到上述喷嘴为止的喷嘴高度比规定的基准高度低的方式，使上述喷嘴移动，形成从上述喷嘴开始移动的始点开始的遍及规定长度的始端部的始端部形成工序；

以上述喷嘴高度比上述基准高度高的方式，使上述喷嘴移动，形成到上述喷嘴结束移动的终点为止的遍及规定长度的终端部的终端部形成工序；以及

在上述始端部以及上述终端部以外的部分，将上述喷嘴高度作为上述基准高度，使上述喷嘴移动的标准移动工序，

以在上述始端部和上述终端部的至少一部分重叠地涂敷上述糊剂的方式，使上述喷嘴移动，

在上述始端部形成工序中，使上述喷嘴高度比上述基准高度低与允许误差相当的量，所述允许误差是在将上述基准高度作为上述喷嘴高度使上述喷嘴移动时向上述基板涂敷的上述糊剂的涂敷高度所允许的误差，

在上述终端部形成工序中，使上述喷嘴高度比上述基准高度高与上述允许误差相当的量。

6.如权利要求5所述的糊剂涂敷方法，其特征在于，上述始端部形成工序是

将上述区域的周围的一点作为上述始点，使上述喷嘴沿上述区域的周围移动，形成上述始端部的工序，

上述终端部形成工序是

将上述区域的周围的一点作为上述终点，使上述喷嘴沿上述区域的周围，且以至少一部分与上述始端部重叠的方式移动，形成上述终端部的工序。

7.如权利要求6所述的糊剂涂敷方法，其特征在于，先于执行上述终端部形成工序，执行使上述糊剂的涂敷停止的涂敷停止工序。

8.如权利要求5所述的糊剂涂敷方法，其特征在于，上述始端部形成工序是

将从上述区域的周围向外方离开的一点作为上述始点，使上述喷嘴朝向上述区域的周围移动，形成上述始端部的工序，

上述终端部形成工序是

以将从上述区域的周围向外方离开的一点作为上述终点、从上述区域的周围朝向上述终点且与上述始端部交叉的方式移动上述喷嘴，形成上述终端部的工序。