JP5626269B2 - 高分子多孔質膜及び高分子多孔質膜の製造方法 - Google Patents
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Description
−CHX1−CX2(OR)−・・・(1)
(式中、X1及びX2は、一方が水素原子、他方がフッ素原子であり、Rは、水素原子及び炭素数1〜8のアルキル基のいずれかである。)。
ここで、上記式(1)中のRは、水素、メチル基又はエチル基であることが好ましい。
ここで、上記アルコールは、エタノール、又は、メタノールであることが好ましい。
本発明の高分子多孔質膜の製造方法によれば、上記高分子多孔質膜を好適に製造することができる。
本発明の高分子多孔質膜は、ビニリデンフルオライド(VdF)単位及びテトラフルオロエチレン(TFE)単位を有するフルオロポリマー(A)からなる。
例えば、ポリフッ化ビニリデンからなる多孔質膜を使用すると、アルカリ処理により高分子多孔質膜の引張試験における伸度の保持率の低下や破断応力の低下が起こる場合がある。これは、ポリフッ化ビニリデンに脱フッ酸反応が起こり、二重結合が生成し、膜が脆くなるためと考えられる。また、二重結合の生成により、膜に褐色の着色も見られる。フルオロポリマー(A)は、TFE単位が組み込まれることでアルカリ処理によって起こる脱フッ酸反応が抑制され、その二重結合によって生じる多孔質膜の着色も抑制され、長期間の使用も可能となる。
この理由は、TFE単位が10モル%以上になると、アルカリ処理によって起こる脱フッ酸反応が抑制されやすくなり、TFE単位が15モル%以上になると、耐アルカリ性が飛躍的に向上するためであり、またTFE単位が50モル%以上になると、溶媒への溶解性が低下し膜の成形が困難になるからである。
上記比率(O/F)が0.150以上となると、高分子多孔質膜の強度が低下するのに対し、上記比率(O/F)を0.150未満とすることで、優れた強度を確保することができる。
なお、上記比率(O/F)の好ましい下限は、0.050である。上記比率(O/F)が0.050未満では、上記式(1)単位が少なく、高分子多孔質膜の透水性能が劣る可能性がある。
比率(O/F)=A/B
A:O元素のピーク面積値
B:F元素のピーク面積値
上記比率(C−F/C−H)が、0.50以下では、高分子多孔質膜の機械的強度が不十分となり、更には、茶褐色に変色することがある。
なお、上記比率(C−F/C−H)の好ましい上限は、2.0であり、より好ましい上限は1.4である。比率(C−F/C−H)が大きくなると、高分子多孔質膜の表面の疎水性が高くなり、比率(C−F/C−H)が2.0より大きくなると、膜表面の疎水性により、透水性能が劣る可能性がある。
比率(C−F/C−H)=a/b
a:C−F結合由来の原子間の結合エネルギー(292.4eV)のピーク面積値
b:C−H結合由来の原子間の結合エネルギー(286.0及び287.8eV)のピーク面積値
−CHX1−CX2(OR)−・・・(1)
(式中、X1及びX2は、一方が水素原子、他方がフッ素原子であり、Rは、水素原子及び炭素数1〜8のアルキル基のいずれかである。)。
上記フルオロポリマー(A)が上記式(1)単位を有する場合、本発明の高分子多孔質膜は、透水性により優れることとなる。
また、上記フルオロポリマー(A)が上記式(1)単位を複数有する場合、各単位のRは、同一であっても良いし、異なっていても良い。
なお、以下、本明細書においては、上記式(1)単位を有するフルオロポリマー(A)をフルオロポリマー(A1)ともいう。
この場合、上記フルオロポリマー(A1)は、優れた親水性と優れた機械的強度とが高いレベルで両立されることとなる。
C−C結合及びCとC以外の原子との結合の全含有量に対するC−O結合の含有量が大きくなると、より優れた親水性を有する高分子多孔質膜が得られる。
また、C−C結合及びCとC以外の原子との結合の全含有量に対するC−O結合の含有量が大きくなると、フルオロポリマー(A)において、上記式(1)で表される単位の割合が大きくなったものと推測される。例えば、0.80モル%以上であれば、フルオロポリマー(A)が上記式(1)で表される単位を有するものであると推測できる。
上記C−C結合及びCとC以外の原子との結合の全含有量に対するC−O結合の含有量は、高分子多孔質膜の機械的強度が優れることから、10.0モル%以下であることが好ましい。
C−C結合及びCとC以外の原子との結合の全含有量に対するC−O結合の含有量は、XPS(X線光電子分光法)測定によって得られる値を用いて、以下の方法で算出することができる。
C−C結合及びCとC以外の原子との結合の全含有量に対するC−O結合の含有量=α/β
α:C−O結合由来の原子間の結合エネルギー(290.1eV)のピーク面積値
β:C−C結合及びCとC以外の原子との結合由来の原子間の全結合エネルギー(280.0〜300.0eV)のピーク面積値
また、上記高分子多孔質膜は、その表面が上記フルオロポリマー(A1)からなるものであることが好ましい。
この場合、極めて透水性に優れた高分子多孔質膜となるからである。
よって、上記高分子多孔質膜は、VdF単位及びTFE単位からなるフルオロポリマー(A′)と上記フルオロポリマー(A1)とを含んでなるものであってもよい。
上記熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリフッ化ビニリデン樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリロニトリル、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン(ABS)樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン(AS)樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、及びこれらの混合物や共重合体が挙げられる。これらと混和可能な他の樹脂を混和してもよい。
孔径は、細孔が明瞭に確認できる倍率で高分子多孔質膜の表面を、SEM等を用いて写真を撮り、細孔の直径を測定する。楕円形状の孔である場合、細孔の直径は、短径をa、長径をbとすると、(a×b)0.5で求めることができる。また、微粒子阻止率から大まかな孔径を求めることが出来る。つまり、例えば50nmのポリスチレン微粒子等を95%以上阻止する多孔質膜は、50nm以下の孔径を有すると考えられる。
純水透過係数は、温度25℃で、イオン交換水をポンプ又は窒素で0.01MPa以上に加圧し、作製した高分子多孔質膜でろ過することにより求めることができる。具体的には、下記式から求めた値である。
純水透過係数=(透過水量)/(膜面積)/(透過時間)/(評価圧力)
微粒子阻止率は、粒径が制御されたポリスチレンラテックス微粒子をイオン交換水にて100ppm程度に希釈した分散溶液を評価原液としてろ過し、次式にて求めた値である。
微粒子阻止率(%)=((評価原液吸光度)−(透過液吸光度))/(評価原液吸光度)×100
最大点破断強度は、チャック間距離50mm、引張速度200mm/分の条件下で試験片の破断強度を測定し、引張試験前の断面積を単位測定面積として求めた値である。
最大点伸度は、チャック間距離50mm、引張速度200mm/分の条件下で試験片の破断強度を測定し、チャック間50mmを基準にして最大点の伸び率より求めた値である。
本発明の高分子多孔質膜の膜厚は、20μm〜3mmが好ましく、50μm〜2mmがより好ましい。また、中空糸膜の内外表面の孔径は、用途によって自由に選択できるが、好ましくは2nm〜1.0μm、より好ましくは5nm〜0.5μmの範囲である。
ここで、他の樹脂としては、上述した熱可塑性樹脂が挙げられる。
被覆したものであってもよいし、多孔質基材と本発明の高分子多孔質膜からなる層とを積層したものであってもよい。また、多孔質基材、本発明の高分子多孔質膜からなる層、及び、上記多孔質樹脂部材が任意の順に積層されたものであってもよい。
また、中空糸膜で使用する場合も、中空糸膜である本発明の高分子多孔質膜の表面(内表面及び/又は外表面)に、上記他の樹脂からなる多孔質被覆層を形成して一体化してもよい。
上記多孔質基材の表面の孔径は、用途によって自由に選択できるが、好ましくは5nm〜1.0μm、より好ましくは8nm〜0.5μmである。
本発明の高分子多孔質膜を製造する方法では、ビニリデンフルオライド単位及びテトラフルオロエチレン単位を有するフルオロポリマー(A′)に対して、少なくとも、多孔質膜状に成形する工程を行う。
上記フルオロポリマー(A′)は、従来公知の方法で製造することができる。例えば、溶液重合、塊状重合、乳化重合、懸濁重合等の重合方法によって製造することができるが、工業的に実施が容易である点で、乳化重合又は懸濁重合により製造することが好ましい。
上記フルオロポリマー(A′)の市販品としては、例えば、ダイキン工業社製のネオフロンVT50、VP50、VT100、VP100、VP101、VP100X等が挙げられる。
VdF単位が少なすぎると溶媒に溶解させにくいために、高分子多孔質膜が得られにくくなるおそれがある。また、TFE単位が10モル%以上になると、後述するアルカリ処理工程を行った場合に、脱フッ酸反応とアルコール付加反応が適度に起こり、得られる高分子多孔質膜中の二重結合が少なくなり、膜の劣化を抑制することができる。
さらにフルオロポリマー(A′)は、TFE単位が15モル%以上になると上述の効果がより顕著になるため、VdF単位/TFE単位がモル比で60〜85/40〜15であることがより好ましい。
また、上記フルオロポリマー(A′)は、XPS(X線光電子分光法)で測定される表面上のO元素含有量のF元素含有量に対する比率(O/F)が0.050未満である(O元素のピークが検出されない場合も含む)ことが好ましい。
なお、フルオロポリマー(A′)表面上のXPS(X線光電子分光法)での測定は、多孔質膜状に成形されたフルオロポリマー(A′)を測定サンプルとして行えばよい。
上記他の樹脂としては、既に説明した本発明の高分子多孔質膜に含有されうるフルオロポリマー(A)以外の他の樹脂が挙げられる。
この多孔質膜状に成形する工程は、種々の方法により行うことができ、例えば、相分離法、溶融抽出法、蒸気凝固法、延伸法、エッチング法、高分子シートを焼結することにより多孔質膜とする方法、気泡入りの高分子シートを圧潰することにより多孔質膜を得る方法、エレクトロスピニングを用いる方法等の成形方法を用いることができる。
三次元網目状構造が比較的生成しやすいことから、非溶媒誘起相分離法で作製された多孔質膜は機械的強度が強く、また、非対称構造の膜作製に好適に用いられる。熱誘起相分離法で作製された多孔質膜は、球状構造が比較的生成しやすいことから、透水性に優れる傾向があり、また、製膜時のポリマー溶液の濃度を高くすることで機械的強度を向上させることが出来る。これらを考慮して膜の作製方法を選択することが好ましい。
フルオロポリマー(A′)含有物の濃度を適正な範囲に調整することにより、フルオロポリマーの溶液の粘度を適切な範囲に調整することができる。フルオロポリマーの溶液の粘度が適切な範囲になければ、多孔質膜状に成形することができないおそれがある。
熱誘起相分離法を用いる場合、フルオロポリマーの溶液の溶媒としては貧溶媒が好ましいが、この限りではなく、フルオロポリマー(A′)含有物の相分離挙動の検討から良溶媒を用いる場合もある。
上記濃度が高すぎると、得られる高分子多孔質膜の空隙率が小さくなり、透水性能が低下するおそれがある。また、調製したフルオロポリマーの溶液の粘度が適正範囲に無ければ、多孔質膜状の成形物に成形することができないおそれがある。
フルオロポリマーの溶液は、フルオロポリマー(A′)含有物、溶媒及び非溶媒の合計(非溶媒を含まない場合には、フルオロポリマー(A′)含有物及び溶媒の合計)に対して、フルオロポリマー(A′)含有物が5〜35重量%であることが好ましい。より好ましくは、10〜25重量%である。
フルオロポリマーの溶液は、フルオロポリマー(A′)含有物、溶媒及び非溶媒の合計に対して、非溶媒が0.1〜10重量%であることが好ましい。より好ましくは、0.5〜8重量%である。
フルオロポリマー(A′)含有物の濃度を適正な範囲に調整することにより、フルオロポリマーの溶液の粘度を適切な範囲に調整することができる。フルオロポリマーの溶液の粘度が適切な範囲になければ、多孔質膜状に成形することができないおそれがある。
上記非溶媒としては、熱誘起相分離法で例示した非溶媒を使用することができる。
上記フルオロポリマー(A)以外の樹脂からなる樹脂層を形成した場合、フルオロポリマー(A)からなる高分子多孔質膜の表面に他の樹脂からなる樹脂層が一体化された中空糸膜を得ることができる。
溶液の塗布量を制御する方法としては、該溶液の塗布量自体を制御する方法の他に、多孔質膜を該溶液に浸漬したり、多孔質膜に該溶液を塗布した後に、該溶液の一部をかき取ったり、エアナイフを用いて吹き飛ばしたりする方法も好ましく用いられる。
なお、延伸処理は、後述するアルカリ処理工程を行う場合、アルカリ処理工程を行った後に行ってもよい。
ここで、上記アルカリ処理を施す工程は、上記フルオロポリマー(A′)を多孔質膜状に成形する工程の後に行っても良いし、多孔質膜状に成形する工程の前に行ってもよい。
上記湿潤処理は、例えば、アルカリ処理の対象物をメタノール、エタノールなどのアルコールに浸漬し、その後、水に置換することにより行えばよい。
更には、フルオロポリマー(A′)に対して上述した方法でアルカリ処理を施す工程を行った後、多孔質膜状に成形する工程を行い、その後、再度アルカリ処理工程を行ってもよい。
また、以下の実施例では、中空糸膜を作製し、その評価は下記の方法で行った。
純水透過係数は、温度25℃で、イオン交換水を窒素で0.01MPa以上に加圧し、作製した中空糸膜でろ過することで求めた。
純水透過係数〔m3/m2/s/Pa〕=(透過水量)/(膜面積)/(透過時間)/(評価圧力)
微粒子阻止率は、粒径が制御されたポリスチレンラテックス微粒子をイオン交換水にて100ppm程度に希釈した分散溶液を評価原液としてろ過し、次式にて求めた。
微粒子阻止率%=((評価原液吸光度)−(透過液吸光度))/(評価原液吸光度)×100
最大点破断強度は、チャック間距離50mm、引張速度200mm/分の条件下で試験片の破断強度を測定し、引張試験前の断面積を単位測定面積として求めた。
最大点伸度は、チャック間距離50mm、引張速度200mm/分の条件下で試験片の破断強度を測定し、チャック間50mmを基準にして最大点の伸び率より求めた。
下記の実施例/比較例におけるアルカリ処理は以下の条件で行った。
アルカリ処理(1):1N NaOHのエタノール/水(50/50体積%)の水溶液(アルカリ処理溶液)に中空糸を浸漬させることで行った。
アルカリ処理(2):1N NaOHの水溶液(アルカリ処理溶液)に中空糸を浸漬させることで行った。
アルカリ処理(3):1N NaOHのイソプロパノール/水(50/50体積%)の水溶液(アルカリ処理溶液)に中空糸を浸漬させることで行った。
また、特に記載のないアルカリ処理は、上記アルカリ処理(1)と同様の条件で行った。
XPS(X線光電子分光法)により高分子多孔質膜(及び多孔質膜の成形物)の表面を下記の方法で測定した。
測定には、ESCA3400(SHIMADZU社製)を用いた。線源にMgKα線(1253.6eV)を使用し、測定領域直径約3mm、検出深さ約7nm(光電子取出角90°)の条件下で測定を行った。
〔比率(C−F/C−H)〕
XPS(X線光電子分光法)測定によって得られる値を用いて、以下の方法で算出する。
比率(C−F/C−H)=a/b
a:C−F結合由来の原子間の結合エネルギー(292.4eV)のピーク面積値
b:C−H結合由来の原子間の結合エネルギー(286.0及び287.8eV)のピーク面積値
〔比率(O/F)〕
XPS(X線光電子分光法)測定によって得られる値を用いて、以下の方法で算出する。
比率(O/F)=A/B
A:O元素のピーク面積値
B:F元素のピーク面積値
〔C−C結合及びCとC以外の原子との結合の全含有量に対するC−O結合の含有量〕
XPS(X線光電子分光法)測定によって得られる値を用いて、以下の方法で算出する。
C−C結合及びCとC以外の原子との結合の全含有量に対するC−O結合の含有量=α/β
α:C−O結合由来の原子間の結合エネルギー(290.1eV)のピーク面積値
β:C−C結合及びCとC以外の原子との結合由来の原子間の全結合エネルギー(280.0〜300.0eV)のピーク面積値
ビニリデンフルオライド/テトラフルオロエチレン共重合体(ビニリデンフルオライド/テトラフルオロエチレン=80/20〔モル比〕)23重量%とジメチルホルムアミド68重量%、水6重量%、tween40 3重量%を25℃で混合しポリマー溶液とした。
このポリマー溶液を二重管式口金から、内部液としてイオン交換水を同伴させながら吐出し、イオン交換水中にて固化し中空糸膜状の成形物を得た。
得られた中空糸膜状の成形物は、外径0.95mm、内径0.79mmであった。25℃での純水透過係数は、7.3×10−10[m3/m2/Pa/s]であり、50nmのポリスチレン微粒子の阻止率は98%以上であった。最大点破断強度は3.2MPa、最大点伸度は410%であった。
また、XPSで測定した成形物表面上のO元素含有量のF元素含有量に対する比率(O/F)は、0.044であり、C−F結合のC−H結合に対する比率(C−F/C−H)は、1.28であった。C−C結合及びCとC以外の原子との結合の全含有量に対するC−O結合の含有量は、0.70モル%以下であった。
実施例1−1:0.5時間のアルカリ処理(1)
実施例1−2:4.5時間のアルカリ処理(1)
実施例1−3:24時間のアルカリ処理(1)
実施例1−1:純水透過係数は7.4×10−10[m3/m2/Pa/s]、50nmのポリスチレン微粒子の阻止率は98%以上、最大点破断強度は2.9MPa、最大点伸度は410%であった。
実施例1−2:純水透過係数は9.8×10−10[m3/m2/Pa/s]、50nmのポリスチレン微粒子の阻止率は98%以上、最大点破断強度は2.8MPa、最大点伸度は460%であった。
実施例1−1、及び実施例1−2ともに、アルカリ処理による中空糸多孔質膜の変色はなかった。
実施例1−3:純水透過係数は1.9×10−9[m3/m2/Pa/s]、50nmのポリスチレン微粒子の阻止率は98%以上、最大点破断強度は5.1MPa、最大点伸度は330%、比率(O/F)は0.087、比率(C−F/C−H)は0.94であった。C−C結合及びCとC以外の原子との結合の全含有量に対するC−O結合の含有量は、2.95モル%であり、
−CHX1−CX2(OR)−
(X1及びX2は、一方が水素原子、他方がフッ素原子であり、Rは、水素原子及び炭素数2のアルキル基のいずれかである。)の単位が生成したことが確認された。
実施例1−3で得た中空糸膜は、若干色づく程度であり、ほとんど変色せず、強度も維持されていた。
また、実施例1−2、1−3は透水性能がより向上しており、特に実施例1−3は、透水性能が2.6倍に向上していた。
ビニリデンフルオライド/テトラフルオロエチレン共重合体(ビニリデンフルオライド/テトラフルオロエチレン=80/20〔モル比〕)18重量%とジメチルホルムアミド79.6重量%、tween40 2.4重量%を25℃で混合しポリマー溶液とした。このポリマー溶液を二重管式口金から、内部液としてイオン交換水を同伴させながら吐出し、イオン交換水中にて固化した。得られた中空糸膜は、外径1.02mm、内径0.79mmであった。25℃での純水透過係数は、2.6×10−10[m3/m2/Pa/s]であり、50nmのポリスチレン微粒子の阻止率は98%以上であった。最大点破断強度は1.4MPa、最大点伸度は410%であった。
また、XPSで測定した成形物表面上のO元素含有量のF元素含有量に対する比率(O/F)は、0.044であり、C−F結合のC−H結合に対する比率(C−F/C−H)は、1.20であった。C−C結合及びCとC以外の原子との結合の全含有量に対するC−O結合の含有量は、0.70モル%以下であった。
実施例2−1:24時間のアルカリ処理(1)
実施例2−2:48時間のアルカリ処理(1)
実施例2−3:48時間のアルカリ処理(2)
実施例2−4:48時間のアルカリ処理(3)
実施例2−1:純水透過係数は3.8×10−10[m3/m2/Pa/s]、50nmのポリスチレン微粒子の阻止率は98%以上、最大点破断強度は1.3MPa、最大点伸度は350%、比率(O/F)は0.060、比率(C−F/C−H)は1.05であった。C−C結合及びCとC以外の原子との結合の全含有量に対するC−O結合の含有量は、2.00モル%であり、
−CHX1−CX2(OR)−
(X1及びX2は、一方が水素原子、他方がフッ素原子であり、Rは、水素原子及び炭素数2のアルキル基のいずれかである。)の単位が生成したことが確認された。
実施例2−1で得た中空糸膜は、若干色づく程度であり、ほとんど変色せず、強度も維持されていた。
実施例2−2:純水透過係数は4.1×10−10[m3/m2/Pa/s]、50nmのポリスチレン微粒子の阻止率は98%以上、比率(O/F)は0.105、比率(C−F/C−H)は0.80であった。
C−C結合及びCとC以外の原子との結合の全含有量に対するC−O結合の含有量は、5.46モル%であり、
−CHX1−CX2(OR)−
(X1及びX2は、一方が水素原子、他方がフッ素原子であり、Rは、水素原子及び炭素数2のアルキル基のいずれかである。)の単位が生成したことが確認された。
実施例2−3:純水透過係数は2.9×10−10[m3/m2/Pa/s]、50nmのポリスチレン微粒子の阻止率は98%以上、比率(O/F)は0.099、比率(C−F/C−H)は0.88であった。
C−C結合及びCとC以外の原子との結合の全含有量に対するC−O結合の含有量は、1.54モル%であり、
−CHX1−CX2(OR)−
(X1及びX2は、一方が水素原子、他方がフッ素原子であり、Rは、水素原子である。)の単位が生成したことが確認された。
実施例2−4:純水透過係数は2.8×10−10[m3/m2/Pa/s]、50nmのポリスチレン微粒子の阻止率は98%以上、比率(O/F)は0.061、比率(C−F/C−H)は1.08であった。
C−C結合及びCとC以外の原子との結合の全含有量に対するC−O結合の含有量は、2.60モル%であり、
−CHX1−CX2(OR)−
(X1及びX2は、一方が水素原子、他方がフッ素原子であり、Rは、水素原子及び炭素数3のアルキル基のいずれかである。)の単位が生成したことが確認された。
実施例2−1〜2−4は透水性能がより向上しており、特に実施例2−1、2−2は、透水性能がそれぞれ1.5倍、1.6倍に向上していた。また、膜の劣化は見られなかった。
ビニリデンフルオライド/テトラフルオロエチレン共重合体(ビニリデンフルオライド/テトラフルオロエチレン=63/37〔モル比〕)18重量%とジメチルホルムアミド79.6重量%、tween40 2.4重量%を25℃で混合しポリマー溶液とした。
このポリマー溶液を二重管式口金から、内部液としてイオン交換水を同伴させながら吐出し、イオン交換水中にて固化し中空糸膜状の成形物を得た。
得られた中空糸膜状の成形物は、外径0.94mm、内径0.75mmであった。25℃での純水透過係数は、2.0×10−9[m3/m2/Pa/s]であり、50nmのポリスチレン微粒子の阻止率は98%以上であった。最大点破断強度は1.2MPa、最大点伸度は340%であった。
また、XPSで測定した成形物表面上の比率(O/F)は、0.033であり、比率(C−F/C−H)は、1.72であった。C−C結合及びCとC以外の原子との結合の全含有量に対するC−O結合の含有量は、0.70モル%以下であった。
実施例3−1:24時間のアルカリ処理(1)
実施例3−2:48時間のアルカリ処理(1)
実施例3−3:48時間のアルカリ処理(2)
実施例3−1:純水透過係数は5.8×10−9[m3/m2/Pa/s]、50nmのポリスチレン微粒子の阻止率は98%以上、最大点破断強度は1.1MPa、最大点伸度は320%、比率(O/F)は0.092、比率(C−F/C−H)は0.54であった。C−C結合及びCとC以外の原子との結合の全含有量に対するC−O結合の含有量は、3.43モル%であり、
−CHX1−CX2(OR)−
(X1及びX2は、一方が水素原子、他方がフッ素原子であり、Rは、水素原子及び炭素数2のアルキル基のいずれかである。)の単位が生成したことが確認された。
実施例3−2:純水透過係数は9.2×10−9[m3/m2/Pa/s]、50nmのポリスチレン微粒子の阻止率は98%以上、比率(O/F)は0.118、比率(C−F/C−H)は0.67であった。
C−C結合及びCとC以外の原子との結合の全含有量に対するC−O結合の含有量は、3.79モル%であり、
−CHX1−CX2(OR)−
(X1及びX2は、一方が水素原子、他方がフッ素原子であり、Rは、水素原子及び炭素数2のアルキル基のいずれかである。)の単位が生成したことが確認された。
実施例3−3:純水透過係数は5.0×10−9[m3/m2/Pa/s]、50nmのポリスチレン微粒子の阻止率は98%以上、比率(O/F)は0.094、比率(C−F/C−H)は0.98であった。
C−C結合及びCとC以外の原子との結合の全含有量に対するC−O結合の含有量は、3.70モル%であり、
−CHX1−CX2(OR)−
(X1及びX2は、一方が水素原子、他方がフッ素原子であり、Rは、水素原子である。)の単位が生成したことが確認された。
実施例3−1〜3−3は透水性能がより向上しており、透水性能がそれぞれ2.9倍、4.6倍、2.5に向上していた。また、実施例3−1〜3−3で得られた中空糸膜は若干色づく程度であり、ほとんど変色せず、膜の劣化は見られなかった。
ビニリデンフルオライド/テトラフルオロエチレン共重合体(ビニリデンフルオライド/テトラフルオロエチレン=80/20〔モル比〕)18重量%とジメチルホルムアミド79.6重量%、tween40 2.4重量%を70℃で混合しポリマー溶液とした。このポリマー溶液を二重管式口金から、内部液としてイオン交換水を同伴させながら吐出し、イオン交換水中にて固化した。得られた中空糸膜は、外径0.84mm、内径0.61mmであった。25℃での純水透過係数は、6.0×10−10[m3/m2/Pa/s]であり、50nmのポリスチレン微粒子の阻止率は98%以上であった。最大点破断強度は1.6MPa、最大点伸度は360%であった。5時間アルカリ処理した後の最大点破断強度は1.6MPa、最大点伸度は360%であった。
また、アルカリ溶液に5時間浸漬した後も、中空糸は若干茶色に色づく程度であり、変色していなかった。
ビニリデンフルオライド/テトラフルオロエチレン共重合体(ビニリデンフルオライド/テトラフルオロエチレン=80/20〔モル比〕)15.8重量%、アルカリ処理を9日間行ったビニリデンフルオライド/テトラフルオロエチレン共重合体(ビニリデンフルオライド/テトラフルオロエチレン=63/37〔モル比〕)2.2重量%、ジメチルホルムアミド75.0重量%、tween40 2.2重量%、水4.7重量%を25℃で混合しポリマー溶液とした。このポリマー溶液を二重管式口金から、内部液としてイオン交換水を同伴させながら吐出し、イオン交換水中にて固化した。得られた中空糸膜は、外径0.93mm、内径0.70mmであった。25℃での純水透過係数は、5.8×10−9[m3/m2/Pa/s]であり、50nmのポリスチレン微粒子の阻止率は98%以上であった。最大点破断強度は1.0MPa、最大点伸度は160%であった。
また、XPSで測定した成形物表面上の比率(O/F)は、0.059であり、比率(C−F/C−H)は、1.21であった。
C−C結合及びCとC以外の原子との結合の全含有量に対するC−O結合の含有量は、2.52モル%であり、
−CHX1−CX2(OR)−
(X1及びX2は、一方が水素原子、他方がフッ素原子であり、Rは、水素原子及び炭素数2のアルキル基のいずれかである。)の単位が生成していることが確認された。
ポリフッ化ビニリデン(ダイキン工業製)18重量%とジメチルホルムアミド79.6重量%、tween40 2.4重量%を25℃で混合しポリマー溶液とした。
このポリマー溶液を二重管式口金から、内部液としてイオン交換水を同伴させながら吐出し、イオン交換水中にて固化し中空糸膜状の成形物を得た。
得られた中空糸膜状の成形物は、外径1.03mm、内径0.82mmであった。25℃での純水透過係数は、8.0×10−10[m3/m2/Pa/s]であり、50nmのポリスチレン微粒子の阻止率は98%以上であった。最大点破断強度は2.0MPa、最大点伸度は130%であった。
また、XPSで測定した成形物表面上の比率(O/F)は、0.035であり、比率(C−F/C−H)は、1.01であった。
比較例1−1:0.5時間のアルカリ処理(1)
比較例1−2:4.5時間のアルカリ処理(1)
比較例1−3:24時間のアルカリ処理(1)
比較例1−4:48時間のアルカリ処理(1)
比較例1−5:48時間のアルカリ処理(2)
比較例1−6:48時間のアルカリ処理(3)
比較例1−1:純水透過係数は6.6×10−10[m3/m2/Pa/s]、50nmのポリスチレン微粒子の阻止率は98%以上、最大点破断強度は1.9MPa、最大点伸度は120%であった。
比較例1−2:純水透過係数は6.1×10−10[m3/m2/Pa/s]、50nmのポリスチレン微粒子の阻止率は98%以上、最大点破断強度は1.8MPa、最大点伸度は120%であった。
比較例1−3:純水透過係数は8.9×10−10[m3/m2/Pa/s]、50nmのポリスチレン微粒子の阻止率は98%以上、最大点破断強度は1.8MPa、最大点伸度は98%、比率(O/F)は0.079、比率(C−F/C−H)は0.67であった。
比較例1−4:純水透過係数は1.1×10−9[m3/m2/Pa/s]、50nmのポリスチレン微粒子の阻止率は98%以上、比率(O/F)は0.125、比率(C−F/C−H)は0.51であった。
比較例1−5:純水透過係数は9.7×10−10[m3/m2/Pa/s]、50nmのポリスチレン微粒子の阻止率は98%以上、比率(O/F)は0.100、比率(C−F/C−H)は0.65であった。
比較例1−6:純水透過係数は9.8×10−10[m3/m2/Pa/s]、50nmのポリスチレン微粒子の阻止率は98%以上、比率(O/F)は0.083、比率(C−F/C−H)は0.77であった。
比較例1−1〜1−6において、アルカリ処理開始5分程度で茶色に変色し始めた。比較例1−3〜1−6で得られた中空糸多孔質膜は茶褐色であり、特に比較例1−4では膜の劣化が激しかった。
ポリフッ化ビニリデン(KF1100)18重量%とジメチルホルムアミド79.6重量%、tween40 2.4重量%を25℃で混合しポリマー溶液とした。このポリマー溶液を二重管式口金から、内部液としてイオン交換水を同伴させながら吐出し、イオン交換水中にて固化した。得られた中空糸膜は、外径0.89mm、内径0.72mmであった。25℃での純水透過係数は、7.7×10−10[m3/m2/Pa/s]であり、50nmのポリスチレン微粒子の阻止率は98%以上であった。最大点破断強度は2.7MPa、最大点伸度は120%であった。
比較例2−1:0.5時間のアルカリ処理(1)
比較例2−2:4.5時間のアルカリ処理(1)
比較例2−1:純水透過係数は6.7×10−10[m3/m2/Pa/s]、50nmのポリスチレン微粒子の阻止率は98%以上、最大点破断強度は2.2MPa、最大点伸度は120%であった。
比較例2−2:純水透過係数は6.5×10−10[m3/m2/Pa/s]、50nmのポリスチレン微粒子の阻止率は98%以上、最大点破断強度は2.3MPa、最大点伸度は110%であった。
比較例2−1、2−2において、アルカリ処理開始5分程度で茶色に変色し始め、比較例2−2で得られた中空糸多孔質膜は茶褐色であった。
Claims (11)
- ビニリデンフルオライド単位及びテトラフルオロエチレン単位を有し、ビニリデンフルオライド単位/テトラフルオロエチレン単位がモル比で50〜90/50〜10であるフルオロポリマー(A)からなり、
XPS(X線光電子分光法)で測定される表面上のO元素含有量のF元素含有量に対する比率(O/F)が0.050以上0.150未満である
ことを特徴とする高分子多孔質膜。 - XPS(X線光電子分光法)で測定される表面上のC−F結合のC−H結合に対する比率(C−F/C−H)が0.50より大きい請求項1記載の高分子多孔質膜。
- フルオロポリマー(A)は、下記式(1)で表される単位を有する請求項1又は2記載の高分子多孔質膜。
−CHX1−CX2(OR)−・・・(1)
(式中、X1及びX2は、一方が水素原子、他方がフッ素原子であり、Rは、水素原子及び炭素数1〜8のアルキル基のいずれかである。) - 前記式(1)中のRは、水素、メチル基又はエチル基である請求項3記載の高分子多孔質膜。
- 中空糸膜である請求項1、2、3又は4記載の高分子多孔質膜。
- 水処理用である請求項1、2、3、4又は5記載の高分子多孔質膜。
- 請求項1、2、3、4、5又は6記載の高分子多孔質膜を製造する方法であって、
ビニリデンフルオライド単位及びテトラフルオロエチレン単位を有するフルオロポリマー(A′)に対して、少なくとも、
多孔質膜状に成形する工程、および
水、及び/又は、炭素数1〜8のアルコールの存在下でアルカリ処理を施す工程
を行うことを特徴とする高分子多孔質膜の製造方法。 - 前記多孔質膜状に成形する工程において、非溶媒誘起相分離法及び/又は熱誘起相分離法により多孔質膜状の成形物を得る請求項7に記載の高分子多孔質膜の製造方法。
- 前記アルコールは、エタノール、又は、メタノールである請求項7又は8記載の高分子多孔質膜の製造方法。
- 前記フルオロポリマー(A′)は、ビニリデンフルオライド単位/テトラフルオロエチレン単位がモル比で50〜90/50〜10である請求項7、8又は9記載の高分子多孔質膜の製造方法。
- 請求項1、2、3、4、5又は6記載の高分子多孔質膜を用いて水処理を行う水処理方法。
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